電容觸控螢幕及其製造方法
2023-05-02 10:43:51
電容觸控螢幕及其製造方法
【專利摘要】本發明公開了一種電容觸控螢幕及其製造方法，涉及觸控螢幕領域，解決了現有電容觸控螢幕中的白色光阻透光率較高無法遮蔽金屬觸控層引線的問題。本發明實施例提供的電容觸控螢幕，包括形成在基板上的白色光阻層和金屬觸控層的引線，還包括形成在所述白色光阻層和所述金屬觸控層的引線之間的反射層，所述反射層在所述基板上的投影覆蓋所述金屬觸控層的引線在所述基板上的投影。本發明實施例還提供了一種電容觸控螢幕的製造方法。
【專利說明】電容觸控螢幕及其製造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及觸控螢幕領域，尤其涉及電容觸控螢幕及其製造方法。
【背景技術】
[0002]目前，OGS(One Glass Solut1n,單片玻璃式)電容觸控螢幕技術較目前主流的G/6(81388/^1388,玻璃/玻璃)電容觸控螢幕技術具有結構簡單、輕、薄、透光性好等優點；由於省掉一片玻璃基板以及一道貼合工序，OGS電容觸控螢幕還具有生產成本低、產品良率高等優點。因此，OGS電容觸控螢幕具有廣闊的市場前景。
[0003]OGS電容觸控螢幕包括位於屏幕中心的顯示區域和位於屏幕邊緣並環繞顯示區域的非顯示區域。OGS電容觸控螢幕在製造過程中，會在位於屏幕最外層的基板上的非顯示區域形成黑色光阻，以遮蔽形成在黑色光阻層下方、位於屏幕內層的金屬觸控層引線。出於產品美觀的考慮，市場上還出現了一種白色光阻替代黑色光阻的OGS電容觸控螢幕。
[0004]但是，由於白色光阻的透光率較高，即便是將光阻層製作的非常厚也無法使透光率達到理想值，造成了用戶透過白色光阻看到金屬觸控層引線，無法實現遮蔽金屬觸控層引線的作用。
【發明內容】
[0005]本發明的實施例提供一種電容觸控螢幕及製造方法，解決了現有的電容觸控螢幕中的白色光阻透光率較高無法遮蔽金屬觸控層引線的問題。
[0006]為達到上述目的，本發明的實施例採用如下技術方案:
[0007]—種電容觸控螢幕，包括形成在基板上的白色光阻層和金屬觸控層的引線，還包括形成在所述白色光阻層和所述金屬觸控層的引線之間的反射層，所述反射層在所述基板上的投影覆蓋所述金屬觸控層的弓I線在所述基板上的投影。
[0008]優選地，所述反射層的內側邊緣在所述基板上的投影與所述金屬觸控層的引線的內側邊緣在所述基板上的投影之間的距離不小於0.5mm。
[0009]具體地，所述白色光阻層在所述基板上的投影覆蓋所述反射層在所述基板上的投影。
[0010]更進一步地，所述白色光阻層的內側邊緣在所述基板上的投影與所述反射層的內側邊緣在所述基板上的投影之間的距離為10-20 μ m。
[0011 ] 優選地，所述反射層由非導電的材料製成。
[0012]可選地，所述電容觸控螢幕，還包括絕緣層，形成在具有所述白色光阻層和所述反射層的所述基板表面上。
[0013]更進一步地，所述反射層由導電金屬材料製成。
[0014]一種觸控顯示裝置，其特徵在於，包括上述電容觸控螢幕。
[0015]一種電容觸控螢幕的製造方法，包括如下步驟:
[0016]在基板上形成白色光阻材料層，通過一次構圖工藝，形成包含白色光阻層的圖形；
[0017]在形成包含白色光阻層的圖形的所述基板上形成反射材料層，通過一次構圖工藝，形成包含反射層的圖形；所述反射層形成在所述白色光阻層上；
[0018]在形成包含反射層的圖形的所述基板上形成金屬觸控層的引線，所述反射層在所述基板上的投影覆蓋所述金屬觸控層的弓I線在所述基板上的投影。
[0019]更進一步地，所述的製造方法，在所述形成包含反射層的圖形的所述基板上形成金屬觸控層的引線具體包括:
[0020]在具有所述白色光阻層和所述反射層的所述基板表面上形成金屬觸控材料層；[0021 ] 通過一次構圖工藝，形成包含金屬觸控層的引線的圖形。
[0022]可選地，所述的製造方法，在所述形成包含反射層的圖形的所述基板上形成金屬觸控層的引線具體包括:
[0023]在具有所述白色光阻層和所述反射層的所述基板表面上形成絕緣層；
[0024]在所述絕緣層上形成金屬觸控材料層；
[0025]通過一次構圖工藝，形成包含金屬觸控層的引線的圖形。
[0026]本發明實施例提供的電容觸控螢幕及製造方法，通過在白色光阻層上和金屬觸控層的引線之間設置反射層，且反射層在基板上的投影覆蓋金屬觸控層的引線在基板上的投影，當穿過金屬觸控層的引線的光線到達反射層時，被反射層反射，不能經由白色光阻層射出屏幕，使得用戶不能透過白色光阻層和反射層看到金屬觸控層的引線，從而達到了遮蔽金屬觸控層引線的目的。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0027]為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對於本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0028]圖1A-1C為本發明實施例2中提供的電容觸控螢幕的製造方法中各步驟形成結構的剖面結構示意圖；
[0029]圖2A-2D為本發明實施例3中提供的電容觸控螢幕的製造方法中各步驟形成結構的剖面結構示意圖。
【具體實施方式】
[0030]下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬於本發明保護的範圍。
[0031]實施例1
[0032]本實施例提供了一種電容觸控螢幕，如圖2D所示，包括形成在基板11上的白色光阻層12和金屬觸控層的引線15，還包括形成在白色光阻層12和金屬觸控層的引線15之間的反射層13，反射層13在基板11上的投影覆蓋金屬觸控層的引線15在基板11上的投影。
[0033]本實施例提供的電容觸控螢幕中，通過在白色光阻層12上和金屬觸控層的引線15之間設置反射層13，且反射層13在基板上的投影覆蓋金屬觸控層的引線15在基板上的投影，當穿過引線15的光線al到達反射層13時，被反射層13反射，不能經由白色光阻層12射出屏幕，使得用戶不能透過白色光阻層12和反射層13看到金屬觸控層的引線15，從而達到了遮蔽金屬觸控層引線的目的，該結構尤其適用於單片玻璃式電容觸控螢幕結構中。
[0034]上述電容觸控螢幕中，反射層13的內側邊緣在基板11上的投影與金屬觸控層的引線15的內側邊緣在基板11上的投影之間的距離d2優選不小於0.5mm,反射層13的投影區域不但可以完全遮住引線15的投影區域，而且超出了引線15的投影區域，因此，該距離範圍的設置更保證了用戶不能看到引線15。在實際生產中，該距離的大小隻要滿足用戶不能看到引線即可，在此對該距離的最大值不做限定。
[0035]上述電容觸控螢幕中，白色光阻層12在基板11上的投影優選覆蓋反射層13在基板11上的投影。反射層13投影的區域與白色光阻層12投影的區域可以完全相同；當然，反射層13投影的區域也可以小於白色光阻層12投影的區域，理想情況是反射層13投影的區域稍小於白色光阻層12投影的區域，白色光阻層12的內側邊緣在基板11上的投影與反射層13的內側邊緣在基板11上的投影之間的距離dl可以為10-20 μ m。這樣，在刻蝕形成反射層13時，就不需要嚴格控制反射層13的邊緣與白色光阻層12的邊緣對齊，從而降低了刻蝕工藝的操作難度。
[0036]若反射層13投影超出白色光阻層12投影的覆蓋範圍，在白色光阻層12的覆蓋範圍內，經反射層13反射的光線經過白色光阻層12時，由於白色光阻層12的遮光作用，只有部分光線可以射出屏幕；在反射層13超出白色光阻層覆蓋範圍的部分，經反射層13反射的光線沒有白色光阻層12的遮擋而全部射出屏幕，使得該部分的亮度相對較高，形成亮邊，而影響美觀，因此需要使白色光阻層12在基板11上的投影覆蓋反射層13在基板11上的投影。
[0037]上述電容觸控螢幕中，反射層13既可以由導電材料製成，也可以由非導電的材料製成，該非導電材料可以為鏡面油墨，因鏡面油墨是以特殊的鋁粉顏料和少量的樹脂等基本材料組成，且鋁粉顏料屬片狀，在表面平行排列得到鏡面反射的性能，因此可起到對光線進行反射的效果。該材料可通過印刷方式形成在基板上。如上所述，電容觸控螢幕還包括形成在反射層13上的金屬觸控層的引線15，金屬觸控層是能夠實現觸控功能的金屬線路層，包括位於顯示區的觸控功能部分(圖中未示出)和位於非顯示區的引線15。引線15形成在反射層13上，使得反射層13可以遮蔽屏幕內層的引線15，使得用戶不能透過白色光阻層12而看到屏幕內層的引線15。
[0038]當反射層13採用非導電的材料時，金屬觸控層就可以在形成有反射層13的基板上直接製作，從而使引線15與反射層13直接接觸，由於反射層不導電，因此不會對引線產生任何影響。而當反射層13採用導電材料時，該導電材料可以是金屬鋁(Al)、金屬鑰(Mo)或者鑰鈮(MoNb)和鋁釹(AlNd)合金等材料，為了避免形成的引線15與反射層13直接接觸而影響引線15性能，則必須採用額外步驟將引線15與反射層13電絕緣，如下面介紹的在形成反射層13的基板上形成絕緣層後再形成引線15，但採用額外步驟會增加電容觸控螢幕的製備成本，因此優選反射層13採用非導電的材料製成。
[0039]如上所述，電容觸控螢幕還可以包括絕緣層14，其形成在具有白色光阻層12和反射層13的基板11表面上。也就是說，絕緣層14位於反射層13和金屬觸控層的引線15之間.絕緣層14通常由絕緣材料製成，除了具有絕緣作用，還可以保護反射層13和白色光阻層12，並使形成有反射層13和白色光阻層12的基板表面平整。這樣，對後續形成的金屬觸控層進行光刻以形成引線時，就可以避免爬坡困難、光刻對位困難等問題。
[0040]當電容觸控螢幕形成有絕緣層14時，其下方的反射層13既可以採用導電材料，也可以採用非導電的材料，當然，優選的是採用非導電材料。採用導電材料時，設置絕緣層不僅能使基板平整，從而避免後續形成引線時的爬坡困難、光刻對位困難等問題，還能避免反射層與引線直接接觸影響引線的電性能。
[0041]需要說明的是，當反射層採用導電材料時，由於引線15與反射層13之間只隔了一層絕緣的絕緣層14，引線15與金屬反射層13之間形成了較大的寄生電容，影響了觸控螢幕的靠近非顯示區的觸控性能，對此問題，可以採用集成電路補償的方式，通過軟體對邊緣區域異常的點進行補償或屏蔽。
[0042]本實施例還提供一種觸控顯示裝置，包括上述實施例描述的電容觸控螢幕。
[0043]由於該電容觸控螢幕中的金屬觸控層弓I線被遮蔽，因此該觸控顯示裝置中的金屬觸控層引線也被遮蔽。
[0044]實施例2
[0045]本實施例提供一種用於製造實施例1的電容觸控螢幕的方法，如圖1A-1C，需要說明的是，圖1A-1C與圖1中相同的結構具有相同的附圖標記。該製造方法具體包括如下步驟:
[0046]S21、在基板11上形成白色光阻材料層，如圖1A所示，通過一次構圖工藝，形成包含白色光阻層12的圖形。
[0047]S22、在形成包含白色光阻層12的圖形的基板11上形成反射材料層，如圖1B所示，通過一次構圖工藝，形成包含反射層13的圖形；反射層13形成在白色光阻層12上。
[0048]S23、如圖1C所示，在形成包含反射層13的圖形的基板11上形成金屬觸控層的引線15，反射層13在基板11上的投影覆蓋金屬觸控層的引線15在基板11上的投影。
[0049]需要說明的是，本發明所有實施例中描述的構圖工藝均可以包括:在基板上塗敷光刻膠，將掩膜板遮蓋在塗敷了光刻膠的基板上，曝光、顯影之後，進行刻蝕，最後剝離光刻膠。
[0050]本實施例提供的電容觸控螢幕中，通過在白色光阻層12上和金屬觸控層的引線15之間設置反射層13，且反射層13在基板上的投影覆蓋金屬觸控層的引線15在基板上的投影，當經過金屬觸控層的引線15的光線al到達反射層13時，被反射層13反射，不能經由白色光阻層12射出屏幕，使得用戶不能透過白色光阻層12和反射層13看到金屬觸控層的引線15，從而達到了遮蔽金屬觸控層引線的目的。
[0051]本實施例提供的製造方法中，反射層13既可以由導電材料製成，也可以由非導電的材料製成。當反射層13是非導電的反射材料時，上述製造方法中，步驟S23中在形成包含反射層13的圖形的基板11上形成金屬觸控層的引線15可以具體包括:在具有白色光阻層12和反射層13的基板11表面上形成導電的金屬觸控材料層；如圖1C所示，通過一次構圖工藝，形成包含金屬觸控層的引線15的圖形。
[0052]如上所述，金屬觸控層是能夠實現觸控功能的金屬線路層，包括位於顯示區的觸控功能部分(圖中未示出)和位於非顯示區的引線15。引線15形成在反射層13上，使得反射層13可以遮蔽屏幕內層的引線15，使得用戶不能透過白色光阻層12而看到屏幕內層的引線15。
[0053]當反射層13採用導電材料時，為了避免形成的引線15與反射層13直接接觸而影響引線15性能，可以採用額外步驟將引線15與反射層13電絕緣，如下面的實施例3介紹的在形成反射層13的基板上形成絕緣層後再形成引線15。
[0054]實施例3
[0055]本實施例提供一種用於製造實施例1的電容觸控螢幕的方法，如圖2A-2D，需要說明的是，圖2A-2D與圖1中相同的結構具有相同的附圖標記。所述製造方法具體包括如下步驟:
[0056]S31、在基板11上形成白色光阻材料層，如圖2A所示，通過一次構圖工藝，形成包含白色光阻層12的圖形。
[0057]S32、在形成包含白色光阻層12的圖形的基板11上形成反射材料層，如圖2B所示，通過一次構圖工藝，形成包含反射層13的圖形；反射層13形成在白色光阻層12上。
[0058]S33、如圖2C所示，在具有白色光阻層12和反射層13的基板11表面上形成絕緣層14。
[0059]S34、在絕緣層14上形成金屬觸控材料層。
[0060]S35、如圖2D所示，通過一次構圖工藝，形成包含金屬觸控層的引線15的圖形。
[0061]本實施例提供的電容觸控螢幕中，通過在白色光阻層12上和金屬觸控層的引線15之間設置反射層13，且反射層13在基板上的投影覆蓋金屬觸控層的引線15在基板上的投影，當經過金屬觸控層的引線15的光線al到達反射層13時，被反射層13反射，不能經由白色光阻層12射出屏幕，使得用戶不能透過白色光阻層12和反射層13看到金屬觸控層的引線15，從而達到了遮蔽金屬觸控層引線的目的。
[0062]本實施例中，絕緣層14通常由絕緣材料製成，除了具有絕緣作用，還可以保護反射層13和白色光阻層12，並使形成有反射層13和白色光阻層12的基板表面平整。這樣，對後續形成的金屬觸控層進行光蝕以形成引線時，就可以避免爬坡困難、光刻對位困難等問題。
[0063]引線15形成在絕緣層14上，引線15與反射層13之間由於間隔了絕緣層而電絕緣，避免了形成的引線15與導電的反射層13直接接觸而影響引線15性能。
[0064]需要說明的是，本實施例提供的製造方法中，反射層13既可以由導電材料製成，也可以由非導電的材料製成，優選的是採用非導電材料。採用導電材料時，設置絕緣層不僅能使基板平整，從而避免後續形成引線時的爬坡困難、光刻對位困難等問題，還能避免反射層與引線直接接觸影響引線的電性能。
[0065]如果反射層採用導電材料，由於引線15與反射層13之間只隔了一層絕緣的絕緣層14，引線15與金屬反射層13之間形成了較大的寄生電容，影響了觸控螢幕的靠近非顯示區的觸控性能，對此問題，可以採用集成電路補償的方式，通過軟體對邊緣區域異常的點進行補償或屏蔽。
[0066]以上所述，僅為本發明的【具體實施方式】，但本發明的保護範圍並不局限於此，任何熟悉本【技術領域】的技術人員在本發明揭露的技術範圍內，可輕易想到的變化或替換，都應涵蓋在本發明的保護範圍之內。因此，本發明的保護範圍應以所述權利要求的保護範圍為o -1i I
【權利要求】
1.一種電容觸控螢幕，包括形成在基板上的白色光阻層和金屬觸控層的引線，其特徵在於，還包括形成在所述白色光阻層和所述金屬觸控層的引線之間的反射層，所述反射層在所述基板上的投影覆蓋所述金屬觸控層的弓I線在所述基板上的投影。
2.根據權利要求1所述的電容觸控螢幕，其特徵在於，所述反射層的內側邊緣在所述基板上的投影與所述金屬觸控層的引線的內側邊緣在所述基板上的投影之間的距離不小於0.5mmο
3.根據權利要求1所述的電容觸控螢幕，其特徵在於，所述白色光阻層在所述基板上的投影覆蓋所述反射層在所述基板上的投影。
4.根據權利要求3所述的電容觸控螢幕，其特徵在於，所述白色光阻層的內側邊緣在所述基板上的投影與所述反射層的內側邊緣在所述基板上的投影之間的距離為10-20 μ m。
5.根據權利要求1所述的電容觸控螢幕，其特徵在於，所述反射層由非導電的材料製成。
6.根據權利要求1所述的電容觸控螢幕，其特徵在於，還包括絕緣層，形成在具有所述白色光阻層和所述反射層的所述基板表面上。
7.根據權利要求6所述的電容觸控螢幕，其特徵在於，所述反射層由導電金屬材料製成。
8.—種觸控顯示裝置，其特徵在於，包括權利要求1-7任一項所述的電容觸控螢幕。
9.一種電容觸控螢幕的製造方法，其特徵在於，包括如下步驟: 在基板上形成白色光阻材料層，通過一次構圖工藝，形成包含白色光阻層的圖形； 在形成包含白色光阻層的圖形的所述基板上形成反射材料層，通過一次構圖工藝，形成包含反射層的圖形；所述反射層形成在所述白色光阻層上； 在形成包含反射層的圖形的所述基板上形成金屬觸控層的引線，所述反射層在所述基板上的投影覆蓋所述金屬觸控層的弓I線在所述基板上的投影。
10.根據權利要求9所述的製造方法，其特徵在於，所述在形成包含反射層的圖形的所述基板上形成金屬觸控層的引線具體包括:在具有所述白色光阻層和所述反射層的所述基板表面上形成金屬觸控材料層； 通過一次構圖工藝，形成包含金屬觸控層的引線的圖形。
11.根據權利要求9所述的製造方法，其特徵在於，所述在形成包含反射層的圖形的所述基板上形成金屬觸控層的引線具體包括: 在具有所述白色光阻層和所述反射層的所述基板表面上形成絕緣層； 在所述絕緣層上形成金屬觸控材料層； 通過一次構圖工藝，形成包含金屬觸控層的引線的圖形。
【文檔編號】G06F3/044GK104331201SQ201410598383
【公開日】2015年2月4日 申請日期:2014年10月29日 優先權日:2014年10月29日
【發明者】謝濤峰, 張雷, 吳玲豔, 劉洋 申請人:合肥鑫晟光電科技有限公司, 京東方科技集團股份有限公司