光學相控陣的製作方法

2023-05-23 11:32:41

光學相控陣的製作方法
【專利摘要】公開了光學相控陣(100)和使用光學相控陣(100)形成光束的方法(200)。光學相控陣(100)包括用於產生輸出光束的光學頭(116)，擴展頻譜調製模塊(112)和用於控制擴展頻譜調製光束的相位的模塊(114)。光學頭(116)具有在該光學頭(116)中的參考表面並包括分別用於接收各個光束的多個子孔徑(130)。參考表面(116)產生背反射光信號(126)。擴展頻譜調製模塊(112)調製每個光束以具有用於分離各個調製光束的擴展頻譜信號，該擴展頻譜調製模塊用於光學頭(116)。用於控制擴展頻譜調製光束的相位的模塊(114)依賴於背反射光信號(126)和擴展頻譜調製。
【專利說明】光學相控陣
[0001] 根據美國35USC§ 119,本申請享有以澳大利亞國立大學的名義於2012年1月4日 提交的第2012900034號澳大利亞臨時專利申請的在先提交日期，其內容通過引用整體並 入本文。

【技術領域】
[0002] 本發明一般涉及光源並且更具體地涉及光束調向系統。

【背景技術】
[0003] 相控陣在射頻（RF)工程領域是眾所周知的用於控制電磁場的傳播方向和明顯起 源的機制。隨著電磁（EM)輻射頻率的增加在EM光譜的射頻帶以外延伸該技術變得愈加困 難。這是因為當波長變得更小並且頻率增加時，控制輻射相位的能力變得愈加困難。
[0004] 控制光頻相位、電磁（EM)輻射的方法是已知的。然而，如果反饋控制機制沒有放 入輸出光束路徑中，該光束形成裝置全部失靈。在輸出光束中放置該反饋控制機制對於在 光束形成裝置的光程長度（0PL)中由熱源和其他源引起的不可避免的變化的測量和調整 已經是必需的。不利地，在輸出光束中放置該反饋控制機制必然從其預定目標轉移部分輸 出能量。此外，傳感器的定位需要在光束形成裝置以外。


【發明內容】

[0005] 根據本發明的方面，提供了一種光學相控陣，其包括：用於產生輸出光束的光學 頭，該光學頭具有在光學頭中的參考表面並包括多個子孔徑，每個子孔徑用於接收各自的 光束，該參考表面產生背反射光信號；擴展頻譜調製模塊，用於調製多個光束中的每一個以 具有用於分離各自的調製光束的擴展頻譜信號，該擴展頻譜信號被提供至該光學頭；以及 用於根據背反射光信號和擴展頻譜調製控制擴展頻譜調製光束的相位的裝置。
[0006] 控制裝置可以是根據背反射光信號和擴展頻譜調製調整每個擴展頻譜調製光束 的光程長度的相位校正模塊。
[0007] 光學相控陣還可包括多個用於大功率光束形成的雷射器並且其中控制裝置直接 控制每個雷射器的相位。
[0008] 每個雷射的相位可通過改變該雷射的頻率直接控制。
[0009] 該控制的、擴展頻譜調製光束在反饋機制中使用以實現對輸出光束的控制。
[0010] 輸出光束是大功率光束。
[0011] 至少兩個擴展頻譜調製光束的相位可根據背反射光信號和擴展頻譜調製被獨立 地控制。替代地，擴展頻譜調製模塊可利用唯一代碼對輸入擴展頻譜調製模塊的每個光束 調進行制以產生唯一識別的光束。
[0012] 擴展頻譜調製模塊可利用單個通用代碼調製每個光束輸入以從每個子孔徑分離 信號，每個子孔徑信號具有不同的延遲。光學相控陣可包括產生輸入至擴展頻譜調製模塊 的多個光束的多個光源。光學相控陣可包括用於根據背反射光信號獲取相位信息以提供相 位校正信號的數位訊號處理系統。相位信息可用於對每個子孔徑的相移反饋以在遠場中給 出輸出光束的期望的光束調向/光束形成。該數位訊號處理系統可以：使用擴展頻譜解碼 技術在背反射光信號中分別分離來自每個子孔徑的信號的相位以及測量在背反射光信號 中來自每個子孔徑的信號的相位。
[0013] 光學相控陣可包括用於根據背反射光信號生成數位訊號的光探測器。
[0014] 光學相控陣可包括用於在光探測器上幹擾背反射光信號並用於對從該光電探測 器獲得的信號數位化的幹擾和光電探測模塊。
[0015] 根據本發明另外的方面，提供了使用光學相控陣形成光束的方法。該方法包括：使 用擴展頻譜調製模塊調製多個光束中的每一個以具有用於分離所述各個調製光束的擴展 頻譜信號；使用光學頭從多個擴展頻譜調製光束產生輸出光束，光學頭具有位於光學頭中 的參考表面並包括多個子孔徑，每個子孔徑用於接收擴展頻譜調製光束中的各自的擴展頻 譜調製光束，該參考表面產生背反射光信號；以及根據背反射光信號和擴展頻譜調製控制 擴展頻譜調製光束的相位。
[0016] 控制步驟可使用相位校正模塊實現，相位校正模塊根據背反射光信號和擴展頻譜 調製調整每個擴展頻譜調製光束的光程長度。
[0017] 該方法可包括：使用用於大功率光束形成的多個雷射器；以及其中控制步驟直接 控制每個雷射器的相位。
[0018] 每個雷射的相位可通過改變雷射器的頻率被直接控制。
[0019] 該控制的、擴展頻譜調製光束在反饋機制中使用以實現對輸出光束的控制。
[0020] 輸出光束是大功率光束。
[0021] 至少兩個擴展頻譜調製光束的相位可根據背反射光信號和擴展頻譜調製被獨立 地控制。
[0022] 調製步驟可利用唯一代碼調製每個光束以產生唯一識別的光束。替代地，調製步 驟可利用單個公共代碼調製輸入的每個光束以分離來自每個子孔徑的信號，每個子孔徑信 號具有不同的延遲。該方法可包括產生輸入至擴展頻譜調製模塊的多個光束的多個光源。
[0023] 該方法可包括使用數位訊號處理系統，根據背反射光信號獲取相位信息以提供相 位校正信號。
[0024] 相位信息用於向每個子孔徑的相移反饋以在遠場中給出輸出光束的期望的光束 調向/光束形成。
[0025] 該數位訊號處理系統可以：利用擴展頻譜解碼技術在背反射光信號中分別分離並 測量來自每個子孔徑的信號的相位。該方法可包括根據背反射光信號生成數位訊號。
[0026] 如權利要求所述的方法可包括在光探測器上幹擾背反射光信號以及數位化從光 探測器獲得的信號。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0027] 在下文中參考附圖對本發明的實施方式進行描述，其中：
[0028] 圖1是示出了根據本發明的實施方式的光學相控陣的框圖。
[0029] 圖2是示出了使用光學相控陣形成光束的方法的概要流程圖；以及
[0030] 圖3是示出了圖2的方法的其他方面的更詳細的流程圖。

【具體實施方式】
[0031] 本文公開了使用光學相控陣形成光束的方法、系統以及光學相控陣。在下面的描 述中，陳述了許多細節，包括特定的光源、調製技術等。然而，根據本公開，可進行修改和/ 或替換而不脫離本發明的範圍對本領域的技術人員將是顯而易見的。在其他情況中，具體 細節可被省略以免模糊本發明。
[0032] 在任意一個或多個附圖中參考步驟和/或特徵，這些步驟和/或特徵具有相同的 附圖標記，用於本說明書的目的的那些步驟和/或特徵具有相同的功能或操作，除非出現 相反意圖。
[0033] 本發明的實施方式針對光學相控陣。光學相控陣（0ΡΑ)是結合來自多個子孔徑的 光以在遠場中形成光束的裝置。通過調整子孔徑的相對相位，由光學相控陣產生的光束的 特徵可被修改，例如，可在遠場中控制光束，或者可修改（聚焦/散焦）光束尺寸。0ΡΑ的另 一應用為結合多個獨立的雷射器以實現超大功率光束。
[0034] 與微波/無線電頻率相控陣相比，0ΡΑ中的挑戰在於子孔徑的相對相位的控制。在 RF系統中，例如可通過固定驅動發射器的導體的路徑長度設置相對相位。在光學系統中， 光的波長小得多，並且自然地在路徑長度中出現波動使得在發射器處精確設置光的相位變 得困難。本發明的實施方式提取與透射光有關的相位信息，具體地測量子孔徑的相位，並且 調整傳播到每個子孔徑的光的路徑長度，意味著從每個子孔徑發射的光具有控制的相位關 系。
[0035] 讀出技術使用擴展頻譜調製。出射光束，或者用於形成光束的分量的至少部分是 利用偽隨機碼相位調製的。該調製允許來自各個子孔徑的信號被分離以進行識別。然後， 分離的信號的相位可使用例如外差幹擾來測量。然後，相位信息可用於調整0PL並補償在 0PL中不需要的變化。
[0036] 下文中描述的本發明的實施方式消除了對外部傳感器的需要並且允許僅基於電 磁（EM)輻射控制光束形成裝置的光程長度（0PL)變化，有助於能量不再進一步從預定目標 轉移，其中電磁輻射在0ΡΑ內不可避免地反射。
[0037] 圖2示出了使用光學相控陣形成光束的概要方法200。在步驟210中，多個光束中 的每一個被調製成具有用於分離各自的調製光束的擴展頻譜信號。在步驟220中，使用光 學頭從光束產生輸出光束。光束或通過子孔徑傳輸的每個光束的至少一部分是擴展頻譜調 制的。光束具有擴展頻譜調製的至少一個分量，如在下文中解釋的，其用於輸出光束和未擴 展光束的效果控制。如在下文中所使用的，"擴展頻譜調製光束"是具有如此調製的至少一 個分量的光束。該術語被用於區分已經通過擴展頻譜調製模塊處理的光束和沒有如此處理 的光束。光學頭具有位於該光學頭中的參考表面並包括多個子孔徑，每個子孔徑用於接收 擴展頻譜調製光束中的各自的調製光束。參考表面產生背反射光信號。在步驟230中，擴展 頻譜調製光束的相位根據背反射光信號和擴展頻譜調製來控制。控制步驟230可使用相位 校正模塊實現，相位校正模塊根據背反射光信號調整擴展頻譜調製光束的光程長度。替代 地，多個雷射器可用於大功率光束形成，並且控制步驟230可直接控制每個雷射器的相位。 此外，每個雷射器的相位可以通過改變該雷射器的頻率直接控制。
[0038] 該控制的、擴展頻譜調製光束在反饋機制中使用以實現對輸出光束的控制。
[0039] 輸出光束是大功率光束。
[0040] 兩個或兩個以上擴展頻譜調製光束的相位可根據背反射光信號和擴展頻譜調製 被獨立地控制。
[0041] 每個光束可利用唯一代碼調製以產生唯一識別的光束。替代地，可利用每個光束 調製單個公共代碼，光束被輸入以從每個子孔徑分離信號，每個子孔徑信號具有不同的延 遲。
[0042] 多個光源產生輸入至擴展頻譜調製模塊的多個光束。
[0043] 相位信息根據背反射光信號獲得以提供相位校正信號。相位信息可用於對每個子 孔徑的相移反饋，以在遠場中給出輸出光束的期望的光束調向/光束形成。
[0044] 數位訊號處理系統可使用擴展頻譜解碼技術在背反射光信號中分別分離並測量 來自每個子孔徑的信號的相位。
[0045] 數位訊號可根據背反射光信號產生。
[0046] 背反射光信號可在光電探測器上被幹擾並且將從光探測器獲得的信號數位化。
[0047] 本發明的實施方式的這些和其他細節在下文中參考圖1和圖3進行描述。
[0048] 圖1示出了根據本發明的實施方式的光學相控陣（0ΡΑ) 100。圖3示出了使用圖1 的光學相控陣100形成光束的方法300。
[0049] 圖1中的光源110包括多個光源（例如，若干雷射器）以提供輸入到擴展頻譜調 制模塊112的光束120。光源110可以是單個雷射源，或者可包括多個單獨的雷射器，例如， 光纖雷射器。
[0050] 方法300在步驟310中開始處理。在步驟310中，利用擴展頻譜信號調製每個來 自光源110的光束。圖1的擴展頻譜調製模塊112利用唯一代碼對每個光束或每個光束的 分量進行相位調製，從而每個光束可被唯一地識別。調製可包括二進位相移鍵控（BPSK)，或 高階相移鍵控，例如QPSK，8-PSK。擴展頻譜調製的調製深度可以是低的（<pi，或者部分調 制），使得光束的較大部分是未調製的（載波光）。該載波光的幹擾在遠場中幹擾以產生光 束調向。
[0051] 通過擴展頻譜調製模塊112產生的出射光122被傳到光學頭和參考表面116。如 在圖1中所示，出射光122通過相位校正模塊114。如在下文中詳細描述的，出射光122可 通過相位校正模塊114進行"相位校正"。在圖3的步驟312中，擴展頻譜調製光束（S卩，出 射光122)被傳輸到光學頭116。在一個實現中，傳輸使用耦合至光學頭116的光纖（在圖 1中未示出）實現。
[0052] 在光學頭116處，輸入到光學頭116的出射光122的一些部分126從光學頭116的 參考表面反射。參考表面是具有良好特徵的表面輪廓的局部反射表面並且通常是在光退出 光束形成裝置之前相互作用的最後表面。每個子孔徑的出射光122的該部分是背反射光。 參考表面116通常被打磨為平面並且採樣出射光122的小部分，剩餘的出射光122是出射 光束124。
[0053] 在圖3的步驟314中，來自每個發射器的光的一部分從光學頭116內的參考表面 反射，並且該背反射光被獲得或接收。
[0054] 如在圖1中所示，背反射光126穿過相位校正模塊114以向擴展頻譜調製模塊112 提供輸入信號128。相位校正模塊114賦予出射光和背反射光相同的相移。
[0055] 擴展頻譜調製模塊112可根據調製模塊112的詳細設計和擴展頻譜編碼的速度影 響背反射光的相位或不影響背反射光的相位。可選地，路徑130可被移動從而該路徑130 位於相位校正模塊114與幹擾和光電探測模塊140之間（在圖1中未示出）。
[0056] 在圖3的步驟316中，背反射光被幹擾，並且幹擾的光在光電探測器（例如，光電 二極體）上被檢測。具有擴展頻譜信號的背反射光用本地振蕩器幹擾，本地振蕩器本身可 以是擴展頻譜。在圖1中，通過擴展頻譜調製模塊112輸出的來自所有子孔徑130的背反 射光輸出到幹擾和光電探測模塊140,並且在該模塊140的單個光探測器上幹擾。模塊140 將路徑130中的光能轉換為電子信號132。模塊140可利用附加光場（本地振蕩器）幹擾 背反射光，或者可使用來自每個子孔徑的光場之間存在的幹擾。
[0057] 在步驟318中，來自光電探測模塊140的電信號被處理以提取相位信息，光束的光 程長度從該相位信息推測。光程長度可以是光纖路徑長度。從光電探測器140獲得的電子 信號被數位化並且生成的數位訊號132被發送給數位訊號處理系統150 (例如，現場可編程 門陣列（FPGA))，以用於在步驟318中的處理。在FPGA150內，擴展頻譜解碼技術被用於分 別從每個子孔徑分離信號並且使得它們的相位可以被測量。優選地，擴展頻譜解碼技術是 Shaddock, Daniel A.在 OPTICS LETTERS (光學快報）的第 32 卷，第 22 號，第 3355-3357 頁 的"Digitally enhanced heterodyne interferometry (數字增強外差幹擾測量法）"中公 開的"Digital Interferometry (數字幹擾測量法）"，其通過引用全部併入本文。數字幹擾 測量法允許信號在單調製編碼的情況下通過它們的飛行時間（或相當於延遲）分離，或者 在使用多調製編碼的情況下通過碼分復用技術。通過將信號132乘以具有適當延遲的同一 調製碼來提取信號。使用不同的編碼或具有不同延遲的同一編碼而編碼的信號表現為寬帶 噪聲，該寬帶噪聲可通過適當的過濾抑制。與PRN調製的一般用法相比，該解碼步驟的目的 為分離信號以用於來自每個子孔徑的信號的相位的後續確定，在PRN調製中，測量輸出是 需要匹配輸入信號132的編碼延遲的解碼信號的延遲。
[0058] 通過數位訊號處理系統150提取或獲取的該相位信息向相位校正模塊114提供相 位校正信號輸出134。在圖3的步驟320中，通過光纖的光程長度被調整以在發射器處將光 的相位驅動為期望值。因此，相位信息被用於對每個子孔徑的相移進行反饋以在遠場中給 出輸出光束的期望的光束調向/光束形成。
[0059] 由擴展頻譜調製模塊112產生的出射光122在傳輸到圖1的光學頭116之前通過 相位校正模塊114進行相位校正。
[0060] 在步驟322中，來自每個發射器的輸出光在遠場中被幹擾以實現光束形成/調向 /聚焦。該過程300可重複進行。
[0061] 圖1的0ΡΑ系統100允許光源不需要機械致動器而被調向。本文呈現的體系結構 突出了用於讀出每個子孔徑的出口點處的光的相對相位的創新方法。該信號用於閉環控制 系統以使用電磁幹擾對出射光束調向。當作為接收裝置運行時該同一光學計量系統可用於 調整視場。裝置的另一用途為利用唯一的光源驅動每個子孔徑，然後通過在子孔徑處控制 每個光源的相位而在遠場中將光源相干地組合。裝置的實時感測和閉環操作克服了與在子 孔徑的輸出處的光信號之間維持穩定的相位差相關的問題。
[0062] 圖1的根據本發明的實施方式的0PA100是有利的，如下所述：
[0063] 可伸縮件:多個子孔徑可僅利用單個光電探測器和數位化系統測量。
[0064] 大功率處理和光束質量:在出射（大功率）光束上無需附加的光學部件。所有控 制信號是在反射上提取的。
[0065] 閉環控制：數字幹擾測量法相位測量系統提供高靈敏度的、全範圍相位讀出，允許 穩定地並精確地控制光束，例如在很寬的角度範圍上。
[0066] 與傳統的調製方案相比，擴展頻譜調製的使用可在存在背散射光（例如，由於在 模塊之間的接口處的反射）的情況下改善感測的相位的魯棒性。
[0067] 本發明的實施方式具有多種應用，包括：
[0068] 防禦：雷射瞄準以及武器和空間碎片跟蹤；
[0069] 通信：自由空間光學網絡；以及
[0070] 消費電子產品：雷射顯示器和沉浸式全息技術。
[0071] 上文僅是示例並且不構成根據本發明的實施方式的0ΡΑ的可能的應用的詳細清 單。
[0072] 所述的布置適用於光源尤其是光波形成裝置和系統。
[0073] 本文描述了用於使用光學相控陣形成光束的方法和系統以及光學相控陣。上文僅 描述了本發明的一些實施方式，並且能夠在不脫離本發明的精神和範圍的情況下對其做出 改進和/或變化，實施方式為說明性的而不是限制性的。
[0074] 在該說明書的上下文中，詞"包括"是指"主要包括但未必僅包括"或者"具有"或 者"包含"，並且不是"僅由...組成"。考慮開放式含義而不是封閉式表達（如"由...組 成"）。詞"包括（comprising)" 的變型，如"包括（comprise)" 和"包括（comprises)" 相 應地具有變化的含義。
【權利要求】
1. 一種光學相控陣，包括： 光學頭，用於產生輸出光束，所述光學頭具有位於所述光學頭中的參考表面並包括多 個子孔徑，每個子孔徑用於接收各自的光束，所述參考表面產生背反射光信號； 擴展頻譜調製模塊，用於調製多個光束中的每一個以具有用於分離各自的調製光束的 擴展頻譜信號，所述擴展頻譜信號被提供至所述光學頭；以及 用於根據所述背反射光信號和所述擴展頻譜調製控制擴展頻譜調製光束的相位的裝 置。
2. 如權利要求1中所述的光學相控陣，其中控制裝置為根據所述背反射光信號和所述 擴展頻譜調製調整每個擴展頻譜調製光束的光程長度的相位校正模塊。
3. 如權利要求1中所述的光學相控陣，包括： 用於大功率光束形成的多個雷射器；以及 其中所述控制裝置直接控制每個雷射器的相位。
4. 如權利要求3中所述的光學相控陣，其中每個雷射器的相位通過改變所述雷射器的 頻率直接控制。
5. 如權利要求1中所述的光學相控陣，其中所述控制的、擴展頻譜調製光束在反饋機 制中使用以實現對所述輸出光束的控制。
6. 如在權利要求1中所述的光學相控陣，其中所述輸出光束為大功率光束。
7. 如權利要求1中所述的光學相控陣，其中至少兩個擴展頻譜調製光束的相位根據所 述背反射光信號和所述擴展頻譜調製被獨立地控制。
8. 如權利要求1中所述的光學相控陣，其中所述擴展頻譜調製模塊利用唯一代碼對輸 入至所述擴展頻譜調製模塊的每個光束進行調製以產生唯一識別的光束。
9. 如權利要求1中所述的光學相控陣，其中所述擴展頻譜調製模塊利用單個公共代碼 調製輸入的每個光束以分離來自每個子孔徑的信號，每個子孔徑信號具有不同的延遲。
10. 如權利要求8或9所述的光學相控陣，還包括產生輸入至所述擴展頻譜調製模塊的 多個光束的多個光源。
11. 如權利要求1中所述的光學相控陣，還包括數位訊號處理系統，用於根據所述背反 射光信號獲取相位信息以提供相位校正信號。
12. 如權利要求11中所述的光學相控陣，其中所述相位信息用於對每個子孔徑的相移 反饋以在遠場中給出所述輸出光束的期望的光束調向/光束形成。
13. 如在權利要求11中所述的光學相控陣，其中所述數位訊號處理系統： 使用擴展頻譜解碼技術以在背反射光信號中分別分離來自每個子孔徑的信號的相位 以及 測量在所述反射光信號中來自每個子孔徑的信號的相位。
14. 如權利要求1或11中所述的光學相控陣，還包括用於根據所述背反射光信號產生 數位訊號的光探測器。
15. 如權利要求1或11所述的光學相控陣，還包括幹擾和光電探測模塊，用於在光探測 器上幹擾所述背反射光信號以及用於對從所述光探測器獲得的信號數位化。
16. -種使用光學相控陣形成光束的方法，包括： 使用擴展頻譜調製模塊調製多個光束中的每一個以具有用於分離各個調製光束的擴 展頻譜信號； 使用光學頭從多個所述擴展頻譜調製光束產生輸出光束，所述光學頭具有位於所述光 學頭中的參考表面並包括多個子孔徑，每個子孔徑用於接收所述擴展頻譜調製光束中的各 自的擴展頻譜調製光束，所述參考表面產生背反射光信號；以及 根據所述背反射光信號和所述擴展頻譜調製控制所述擴展頻譜調製光束的相位。
17. 如權利要求16中所述的方法，其中控制步驟使用相位校正模塊實現，所述相位校 正模塊根據所述背反射光信號和所述擴展頻譜調製調整每個擴展頻譜調製光束的光程長 度。
18. 如權利要求16中所述的方法，包括： 使用用於大功率光束形成的多個雷射器；以及 其中控制步驟直接控制每個雷射器的相位。
19. 如權利要求18中所述的方法，其中每個雷射器的相位通過改變所述雷射器的頻率 直接控制。
20. 如權利要求16中所述的方法，其中所述控制的、擴展頻譜調製光束在反饋機制中 使用以實現對所述輸出光束的控制。
21. 如權利要求16中所述的方法，其中所述輸出光束是大功率光束。
22. 如權利要求16中所述的方法，其中至少兩個擴展頻譜調製光束的相位根據所述背 反射光信號和所述擴展頻譜調製被獨立地控制。
23. 如權利要求16中所述的方法，其中調製步驟用唯一代碼調製每個光束以產生唯一 識別的光束。
24. 如權利要求16中所述的方法，其中調製步驟用單個公共代碼調製輸入的每個光束 以分離來自每個子孔徑的信號，每個子孔徑信號具有不同的延遲。
25. 如權利要求23或24中所述的方法，還包括產生輸入至擴展頻譜調製模塊的多個光 束的多個光源。
26. 如權利要求16中所述的方法，包括使用數位訊號處理系統，根據所述背反射光信 號獲取相位信息以提供相位校正信號。
27. 如權利要求26中所述的方法，其中所述相位信息用於對每個子孔徑的相移反饋以 在遠場中給出所述輸出光束的期望的光束調向/光束形成。
28. 如權利要求26中所述的方法，其中所述數位訊號處理系統： 使用擴展頻譜解碼技術以在背反射光信號中分別分離來自每個子孔徑的信號的相位 以及 測量在所述反射光信號中來自每個子孔徑的信號的相位。
29. 如權利要求16或26中所述的方法，包括根據所述背反射光信號產生數位訊號。
30. 如權利要求16或26中所述的方法，包括在光探測器上幹擾所述背反射光信號和對 從所述光探測器獲得的信號數位化。
【文檔編號】G02F1/29GK104145437SQ201280070119
【公開日】2014年11月12日 申請日期:2012年12月21日 優先權日:2012年1月4日
【發明者】丹尼爾·安東尼·夏多克 申請人:澳大利亞國立大學