一種汙水高濃度處理系統的製作方法

2023-05-15 16:20:51 1

本發明涉及汙水處理領域，特別是處理高濃度汙水處理。

背景技術：

隨著國家對環保的要求愈加嚴格，高濃度汙水無害化、減量化、資源化處理技術正成為汙水處理技術發展的趨勢。

然而，傳統的高濃度汙水處理工藝：汙水投加助凝劑後進入澄清器，絮體通過重力作用沉降在澄清器底部，澄清器底部排泥進入汙泥絮凝罐，經過澄清器濃縮後的濃縮汙泥在汙泥絮凝罐中與絮凝劑進行混合反應，混合的泥水混合物進入到汙泥脫水機，泥餅收集到泥餅箱後外送處理，澄清器出水進入氧化罐進行氧化處理，氧化罐出水進入過濾器，濾後水需送入汙水處理場做進一步處理。這類處理工藝未能充分的對汙水進行處理，出水水質變化大，對後續汙水場的生化處理部分造成衝擊，且處理效率低，能耗大，建設和運行費用高。

技術實現要素：

本發明針對現有技術的不足，提供了一種工藝流程簡單，佔地面積小，製作成本低，快速實現固液分離的一種汙水高濃度處理系統。

為實現本發明目的，提供了以下技術方案：一種汙水高濃度處理系統，包括檢修操作平臺、放置於檢修操作平臺頂端的漿液分離裝置、檢修操作平臺下方設置有泥餅箱、氧化罐，泥餅箱設置於漿液分離裝置正下方，其特徵在於漿液分離裝置包括筒體、筒體頂端的封蓋、筒體底端的錐鬥、筒體錐鬥底端設置有排泥口，封蓋上設置有排氣口，排泥口上設置有自動排泥閥，筒體內設置有若干圈同心的環形集水管，相鄰環形集水管間圍繞圓心設置若干根連通管相互連通，每圈環形集水管上圍繞圓心均布有集水孔，每個集水孔上安裝有活接頭，活接頭連接豎直濾管，豎直濾管材質為不鏽鋼燒結網，最外圈環形集水管連接伸出筒體外的排水管，排水管末端設置有三通接頭，分別連接出水口和進氣口，排水管上設置有閥門，筒體近底端側壁上設置有與筒壁相切的進水管，錐鬥近底端設置有排汙口和放空口，所述氧化罐設置為並聯的三個，分別為一級、二級、三級氧化罐，一級氧化罐的進水口連接漿液分離裝置的出水口，一級氧化罐的出水口連接二級氧化罐的進水口，二級氧化罐的出水口連接三級氧化罐進水口，三級氧化罐出水口直接達標排放，一級、二級、三級氧化罐底端進氣口連接風機，一級、二級、三級氧化罐均包括筒體，筒體底端的進水口、筒體近底端的進氣口，筒體近底端的出水口，筒體內壁設置有一圈擋流板，出水口處設置有溢流水槽，筒體中心設置有攪拌軸，攪拌軸連接筒體頂端的電機，攪拌軸上間隔設置有攪拌槳葉，位於溢流水槽上方的攪拌槳葉上設置若干根有豎直的凸柱。

作為優選，擋流板圍繞圓心陣列排布。

作為優選，豎直濾管內設置有內管，內管為不鏽鋼絲網，不鏽鋼絲網與不鏽鋼燒結網之間間隔5~8mm，兩者之間填充有活性炭顆粒。

作為優選，檢修操作平臺設置爬梯。

作為優選，一級、二級、三級氧化罐放置高度低於漿液分離裝置放置高度。

設備運行時，汙水進入漿液分離裝置，經過分離後的濾液進入氧化罐處理後直接外排，濃縮後的汙泥從漿液分離裝置底部進行排放進入泥餅箱，泥餅箱存滿汙泥後外送處理。

本發明有益效果：本發明結構簡單，維護簡便，處理效果好且效率高，濾芯過濾效果高，使用壽命長，漿液分離裝置為精密過濾，過濾精度可達到1um，出水水質好；氧化罐出口無需設置過濾器，系統出水更加的穩定；普通脫水機的出泥含水率約為60~70%，漿液分離裝置的直接出泥含水率約為60%，可省去一整套的汙泥脫水設備，大大降低建設成本和運行成本；漿液分離裝置設有反衝系統，保證濾芯較長的使用壽命，降低了維護周期和維護成本，通過對自動閥門的控制可實現全自動運行。

附圖說明

圖1為本發明的系統示意圖。

圖2為漿液分離裝置結構示意圖。

圖3為豎直濾管結構示意圖。

圖4為環形集水管結構示意圖。

具體實施方式

實施例1：一種汙水高濃度處理系統，包括檢修操作平臺1、放置於檢修操作平臺1頂端的漿液分離裝置2、檢修操作平臺1下方設置有泥餅箱3、氧化罐4，泥餅箱3設置於漿液分離裝置2正下方，漿液分離裝置2包括筒體2.1、筒體2.1頂端的封蓋2.2、筒體2.1底端的錐鬥2.1.1、筒體錐鬥2.1.1底端設置有排泥口2.3，封蓋2.2上設置有排氣口2.4，排泥口2.3上設置有自動排泥閥2.5，筒體2.1內設置有若干圈同心的環形集水管2.6，相鄰環形集水管2.6間圍繞圓心設置若干根連通管2.4相互連通，每圈環形集水管2.6上圍繞圓心均布有集水孔2.6.1，每個集水孔2.6.1上安裝有活接頭2.7，活接頭2.7連接豎直濾管5，豎直濾管5材質為不鏽鋼燒結網，最外圈環形集水管2.6連接伸出筒體2.1外的排水管2.8，排水管2.8末端設置有三通接頭，分別連接出水口2.9和進氣口6，排水管2.8上設置有閥門7，筒體2.1近底端側壁上設置有與筒壁相切的進水管8，錐鬥2.1.1近底端設置有排汙口9和放空口10，所述氧化罐4設置為並聯的三個，分別為一級、二級、三級氧化罐（4.1、4.2、4.3），一級氧化罐4.1的進水口4.1.1連接漿液分離裝置2的出水口2.9，一級氧化罐4.1的出水口4.1.2連接二級氧化罐4.2的進水口4.2.1，二級氧化罐4.2的出水口4.2.2連接三級氧化罐4.3進水口4.3.1，三級氧化罐4.3出水口4.3.2直接達標排放，一級、二級、三級氧化罐（4.1、4.2、4.3）底端進氣口連接風機11，一級、二級、三級氧化罐（4.1、4.2、4.3）均包括筒體，筒體底端的進水口（4.1.1、4.2.1、4.3.1）、筒體近底端的進氣口（4.1.3、4.2.3、4.3.3），筒體近底端的出水口（4.1.2、4.2.2、4.3.2），筒體內壁設置有一圈擋流板11，出水口（4.1.2、4.2.2、4.3.2）處設置有溢流水槽12，筒體中心設置有攪拌軸13，攪拌軸13連接筒體頂端的電機，攪拌軸13上間隔設置有攪拌槳葉13.1，位於溢流水槽12上方的攪拌槳葉13.1上設置若干根有豎直的凸柱13.2。擋流板11圍繞圓心陣列排布。豎直濾管5內設置有內管5.1，內管為不鏽鋼絲網，不鏽鋼絲網與不鏽鋼燒結網之間間隔5~8mm，兩者之間填充有活性碳顆粒5.2。檢修操作平臺1設置爬梯。一級、二級、三級氧化罐（4.1、4.2、4.3）放置高度低於漿液分離裝置2放置高度。

其中，所述漿液分離裝置2為精密過濾設備，過濾精度可達到1um。

其中，為了方便排泥，漿液分離裝置進行抬高擺放，漿液分離裝置設置了檢修操作平臺，方便日常操作維護。

其中，漿液分離裝置2的底部設置了泥餅箱3，泥餅通過重力作用落於泥餅箱3。

其中，漿液分離裝置2出水進入氧化罐4，汙水經過空氣氧化後達標排放。

設備運行時，汙水進入漿液分離裝置2，經過分離後的濾液進入氧化罐4處理後直接外排，濃縮後的汙泥從漿液分離裝置底部進行排放進入泥餅箱，泥餅箱存滿汙泥後外送處理。

工藝對比

實例對比（某項目高濃度汙水處理量15噸/小時）：

◆現有工藝

◇設備投資及安裝費用：設備包含澄清器、加藥裝置、絮凝罐、汙泥脫水系統、氧化罐出口過濾器，總投資不低於300萬元。

◇運行成本：設備運行功率約20千瓦，水、電、藥劑運行成本不低於40萬元。

◇維護成本：維護成本不低於5萬元/年。

◆新工藝

◇設備投資及安裝費用：整套裝置總投資不超過50萬元。

◇運行成本：不超過3萬元/年。

◇維護成本：不超過1萬元/年。