全程水處理器的製作方法

2023-05-22 08:03:26

專利名稱：全程水處理器的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種水處理裝置，特別是涉及一種包括過濾體、電磁場發生器和射頻發射器的全程水處理器。
背景技術：
在工農業和生活供水系統中，例如中央空調的冷卻循環水、採暖循環水、工業給水、農業用水、日常生活用水及地下水、地表水供水系統，其來源水的水質往往較差，存在水垢、鐵鏽、腐蝕性物質以及微生物和細菌等。針對不同的用水目的，需對來源水進行各種處理，以滿足使用要求。目前的綜合性水處理設備是根據供水系統中存在的水質問題分別採用物理和/或化學方法進行緩蝕、防垢、殺菌、滅藻等處理，其中較為先進的是採用由過濾體、電磁場和高頻發射器組成的全程水處理設備，對系統中的水質進行物理場的綜合處理，以達到緩蝕、防垢、防腐、殺菌、滅藻和過濾懸浮物等目的。
目前的全程水處理設備中過濾體一般採用單個過濾體，例如圖1所示的專利號為200420009169.5的名稱為「全自動全程水處理器」的中國實用新型專利，其包括由單個過濾體、電磁發生器和射頻發射器等組成的全程處理器，以及液壓式三通閥和自動控制裝置，其中液壓式三通閥用以切換水流方向，以便對過濾網進行反衝洗，總進水管設在閥體的中間部位，反衝洗管和進水管設在閥體的上、下端並分別與全程水處理器的反衝洗口及進水口相連通，液壓缸固定在閥體頂部，閥板通過活塞杆與液壓缸相連，並滑動連接於上、下限位擋板之間。在通常情況下，閥板處於總進水管上部，並封堵住上限位擋板的過水孔，使進水沿液壓式三通閥的進水管流入全程處理器，進行水質處理；在進行反衝洗時，液壓缸控制閥板向下運動，打開上限位擋板，封堵住下限位擋板，切換水流方向，使進水從反衝洗管流入全程水處理器，對過濾網進行反衝洗，同時，一部分未經處理的水直接從出水口流入系統。這種「全自動全程水處理器」由於只採用單個過濾體，因此總過濾面積小、過濾流速大、設備壓力損失大，採用三通閥對單個過濾體正常過濾和反衝洗過程進行控制，使過濾體反衝洗與正常過濾過程不能同時進行，且在反洗時由於部分未經處理的水直接從出水口流入系統，所以不能保證真正意義上的系統水質全過程綜合處理。
實用新型內容本實用新型的目的在於提供一種總過濾面積大，且能夠使過濾過程和過濾體反衝洗過程同時進行，並保證所有流入系統中的水都經過處理的全程水處理器。
本實用新型的全程水處理器，包括殼體及其內部的過濾體、電磁場發生器和射頻發射器，所述殼體上設有進水口、出水口和排汙口，所述殼體外設有控制箱對所述電磁場發生器和射頻發射器進行控制，所述過濾體的數量不少於兩個，所述殼體內腔用上、下隔板分隔成分配腔、過濾腔和排汙腔，所述進水口設在所述分配腔的殼體上，所述出水口設在所述過濾腔的殼體上，所述排汙口設在所述排汙腔的殼體上，所述過濾體通過所述上、下隔板固定在所述過濾腔內，每個所述過濾體的進水埠與排汙埠分別與所述分配腔和排汙腔相通，所述進水埠和排汙埠上分別設有進水閥和排汙閥，各個過濾體上的進水閥和排汙閥組均設有控制其啟閉的流體控制裝置。
本實用新型的全程水處理器，其中所述電磁場發生器安裝在所述過濾腔內各過濾體共有的中軸線上，並與所述上隔板固定並密封，所述射頻發射器水平地安裝在所述殼體的側壁上，每個所述射頻發射器安裝在相鄰兩個所述過濾體之間。
本實用新型的全程水處理器，其中所述流體控制裝置為氣動控制裝置。
本實用新型的全程水處理器，其中所述進水閥和排汙閥包括分別固定在所述上隔板或下隔板上的進水閥座和排汙閥座，及分別與其相配合的進水閥瓣和排汙閥瓣，所述進水閥瓣和排汙閥瓣均由所述氣動控制裝置控制的氣囊控制其啟閉。
本實用新型的全程水處理器，其中所述進水閥包括固定在所述進水閥座上的進水閥殼體，所述進水閥殼體的側壁上設有若干個過流孔，所述氣囊為固定在所述進水閥瓣和進水閥殼體上底之間的上氣囊，所述上氣囊下底與所述進水閥瓣固定在一起，並由進水閥殼體導向，所述進水閥瓣與排汙閥瓣通過螺栓連接在一起，所述進水閥和排汙閥的啟閉狀態相反。
本實用新型的全程水處理器，其中所述進水閥包括固定在所述進水閥座上的進水閥殼體，所述進水閥殼體內設有與其上底固定在一起的上導向管，所述進水閥殼體的側壁和所述上導向管的側壁上均設有若干個過流孔，所述氣囊為固定在所述進水閥瓣和進水閥殼體上底之間的上氣囊，所述上氣囊下底與所述進水閥瓣固定在一起，並由所述進水閥殼體和上導向管導向，所述排汙閥包括固定在所述排汙閥座上的排汙閥殼體，所述排汙閥殼體的側壁和下底上設有若干個過流孔，所述氣囊為固定在通過螺栓與所述排汙閥瓣連接在一起的託板和所述排汙閥殼體下底之間的下氣囊，所述託板上設有通孔，在所述通孔的周邊固定有向下延伸的下導向管，所述下導向管向下穿過所述排汙閥殼體的下底，所述下氣囊上底與所述託板固定在一起，並由所述排汙閥殼體和所述下導向管導向，所述進水閥和排汙閥的啟閉狀態相反。
本實用新型的全程水處理器，其中所述排汙閥包括固定在所述排汙閥座上的排汙閥殼體，所述排汙閥殼體的側壁和下底上設有若干個過流孔，所述氣囊為固定在通過螺栓與所述排汙閥瓣連接在一起的託板和所述排汙閥殼體下底之間的下氣囊，所述託板上設有通孔，在所述通孔周邊固定有向下延伸的下導向管，所述下導向管向下穿過所述排汙閥殼體的下底，所述下氣囊上底與所述託板固定在一起，並由所述排汙閥殼體和所述下導向管導向，所述排汙閥瓣與所述進水閥瓣通過螺栓連接在一起，所述進水閥和排汙閥的啟閉狀態相反。
本實用新型的全程水處理器，其中在所述過濾體的內側壁上固定有支撐板，在所述支撐板的上面固定有外導向管，在所述支撐板上設有過渡板，所述氣囊為中氣囊，其下端通過螺栓固定在所述過渡板上，所述中氣囊的上端固定在一託板上，在所述託板上有一通孔，在所述通孔的周邊固定一向下延伸的內導向筒，所述內導向筒向下穿過所述支撐板和所述過渡板，所述內導向筒的側壁和底面上均設有若干個過流孔，所述中氣囊由所述外導向管和內導向筒導向，所述託板通過螺栓與所述進水閥瓣連接，所述內導向筒的底面通過螺栓與所述排汙閥瓣連接，所述進水閥和排汙閥的啟閉狀態相反。
本實用新型的全程水處理器，其中所述氣動控制裝置包括依次串接的氣源、空氣處理單元、節流調速閥，與上述氣路相連的若干個並聯的兩位三通電磁閥，所述兩位三通電磁閥的數量與所述全程水處理器中的所述過濾體的數量相同，並分別通過充、放氣管路一一對應地與各過濾體上的氣囊相連，所述氣源及兩位三通電磁閥由PLC主機控制櫃進行控制。
本實用新型的全程水處理器，其中所述過濾體的側壁濾網為螺旋纏繞在不鏽鋼骨架上的截面為楔形的不鏽鋼絲網，其中楔形不鏽鋼絲的尖端朝向所述過濾體的外側，所述楔形不鏽鋼絲網的過濾縫隙為0.048～10毫米。
本實用新型的全程水處理器，由於數個過濾體安裝在一個殼體內同時進行過濾，因此可增大總過濾面積，提高水處理效率。通過流體控制裝置控制各過濾體進水閥和排汙閥的啟閉狀態，使各過濾體在過濾的同時依次進行反衝洗，因而整個水處理過程不間斷地連續進行，並能保證所有流入系統中的水都經過該全程水處理器的處理。


圖1為現有技術中「全自動全程水處理器」的主視圖；圖2為本實用新型全程水處理器的主視圖；圖3為圖2中全程水處理器從A-A向剖切的俯視圖；圖4為圖2中全程水處理器的左視圖；
圖5為圖2中I部位的局部放大圖；圖6為圖2中I部位在過濾狀態時的局部放大圖；圖7為圖2中I部位在反衝洗狀態時的局部放大圖；圖8為本實用新型全程水處理器的過濾體均為過濾狀態時顯示液體流向的剖視圖；圖9為本實用新型全程水處理器一個過濾體在反衝洗狀態時顯示液體流向的剖視圖；圖10為本實用新型全程水處理器的過濾體第一實施例的剖視圖；圖11為本實用新型全程水處理器的過濾體第二實施例的剖視圖；圖12為本實用新型全程水處理器的過濾體第三實施例的剖視圖；圖13為本實用新型全程水處理器的過濾體第四實施例的剖視圖；圖14為本實用新型全程水處理器在氣動控制裝置控制下的原理圖。
具體實施方式
參考圖2、圖3及圖4，本實用新型的全程水處理器由設置在一圓柱形殼體4內的1個電磁場發生器52、4個並聯的過濾體3和4個射頻發射器54組成。殼體4及內部的零部件均由不鏽鋼製成，殼體4的上端蓋由螺栓連接，形成可拆卸的結構。焊接在殼體4內腔側壁上的上隔板2和下隔板6將殼體4內腔分隔成分配腔1、過濾腔5和排汙腔7，分配腔1內設有進水口14和分配腔手孔51，過濾腔5內設有出水口11，排汙腔7內設有排汙口8和排汙腔手孔53。過濾體3為圓柱形，並通過上隔板2和下隔板6上的圓形通孔固定在過濾腔5內，每個過濾體3的進水埠12與排汙埠10分別與分配腔1和排汙腔7相通，進水埠12和排汙埠10上分別設有進水閥13和排汙閥9，其中進水閥13和排汙閥9包括分別固定在上隔板2或下隔板6上的進水閥座20和排汙閥座22，以及分別與其相配合的進水閥瓣24和排汙閥瓣28，進水閥瓣24和排汙閥瓣28均通過氣囊17的充、放氣控制其啟閉，並使進水閥13和排汙閥9的啟閉狀態相反。與進水閥13和排汙閥9上的氣囊17相連接的充、放氣管路46分別從分配腔手孔51和排汙腔手孔53端蓋上的孔中伸出，並與氣動控制箱56中的氣動控制裝置18相連。電磁場發生器52安裝在過濾腔5內各過濾體3的中心處，並與上隔板2固定並密封，射頻發射器54均布地安裝在殼體4的側壁上，並分布於各過濾體3之間。在殼體4外設有控制電磁場發生器52和射頻發射器54的控制箱55。
圖5、圖6、圖7分別為圖2中I部位的局部放大圖、以及I部位在過濾狀態和反衝洗狀態時的局部放大圖。過濾體3的側壁濾網為螺旋纏繞在不鏽鋼骨架15上的截面為楔形的不鏽鋼絲網16，不鏽鋼絲網16固定在不鏽鋼骨架15的內側或外側皆可，其中楔形不鏽鋼絲的尖端朝向過濾體的外側，且楔形不鏽鋼絲網的過濾縫隙為0.048～10毫米。在正常過濾時，水由楔形不鏽鋼絲網16的縫隙小的一側流向縫隙大的一側，汙物顆粒被濾網擋在過濾體3中；當反衝洗時，水由楔形不鏽鋼絲網16的縫隙大的一側流向縫隙小的一側，將附著於濾網內側的汙物衝回過濾體3中，這種濾網結構及水流方向有利於汙染物的過濾截留及反衝去除。
圖8為本實用新型全程水處理器的過濾體均為過濾狀態時顯示液體流向的剖面示意圖，圖中箭頭所示方向代表液體的流向。在過濾狀態下，未處理水從進水口14流入全程水處理器，此時所有過濾體3的進水閥13在氣動控制裝置18的控制下開啟，而排汙閥9在氣動控制裝置18的控制下關閉，於是水在各過濾體3內經過濾後流入過濾腔5，並從出水口11流出全程水處理器。
圖9為本實用新型全程水處理器一個過濾體在反衝洗狀態時顯示液體流向的剖面示意圖，圖中箭頭所示方向代表液體的流向。在反衝洗狀態下，大部分過濾體進行正常的過濾過程，對於進行反衝洗的那一個過濾體，進水閥13在氣動控制裝置18的控制下關閉，而排汙閥9在氣動控制裝置18的控制下開啟，於是水在壓力作用下從過濾體外流入，進行該過濾體的反衝洗過程，將附著於側壁濾網上的汙物衝洗脫落於該過濾體內部，並經排汙埠10流入全程水處理器的排汙腔7，再經排汙口8流出全程水處理器。反衝洗過程在各個過濾體之間依次進行，每次只針對一個過濾體進行，其餘的過濾體則進行正常的過濾過程。
圖10為本實用新型全程水處理器的過濾體第一實施例的剖視圖。如圖所示，進水閥13包括固定在進水閥座20上的進水閥殼體19，其側壁上設有若干個過流孔25，氣囊17固定在進水閥瓣24和進水閥殼體上底26之間，並由進水閥殼體19導向，進水閥瓣24與排汙閥瓣28通過螺栓21連接在一起，產生聯動，使當進水閥13開啟時排汙閥9關閉，進水閥13關閉時排汙閥9開啟，進水閥13和排汙閥9的開啟與關閉均由氣動控制裝置18控制氣囊17的充、放氣來實現。
圖11為本實用新型全程水處理器的過濾體第二實施例的剖視圖。如圖所示，進水閥13包括固定在進水閥座20上的進水閥殼體19，進水閥殼體19內設有與其上底26固定在一起的上導向管27，進水閥殼體19和上導向管27的側壁上均設有若干個過流孔25，氣囊17固定在進水閥瓣24和進水閥殼體上底26之間，並由進水閥殼體19和上導向管27導向。排汙閥9包括固定在排汙閥座22上的排汙閥殼體29，排汙閥殼體29的側壁和下底上同樣設有若干個過流孔25，氣囊17固定在通過螺栓30與排汙閥瓣28連接在一起的託板31和排汙閥殼體下底33之間，託板31上設有通孔34，在通孔34的周邊固定有向下延伸的下導向管32，下導向管32向下穿過排汙閥殼體29的下底，氣囊17上底與託板31固定在一起，並由排汙閥殼體29和下導向管32導向，進水閥13和排汙閥9的開啟與啟閉均由氣動控制裝置18分別控制進水閥13和排汙閥9上的氣囊17的充、放氣來實現，並使進水閥13和排汙閥9的啟閉狀態相反。
圖12為本實用新型全程水處理器的過濾體第三實施例的剖視圖。如圖所示，排汙閥9包括固定在排汙閥座22上的排汙閥殼體29，排汙閥殼體29的側壁和下底上設有若干個過流孔25，氣囊17固定在通過螺栓30與排汙閥瓣28連接在一起的託板31和排汙閥殼體下底33之間，託板31上設有通孔34，其周邊固定有向下延伸的下導向管32，下導向管32向下穿過排汙閥殼體29的下底，氣囊17上底與託板31固定在一起，並由排汙閥殼體29和下導向管32導向，排汙閥瓣28與進水閥瓣24通過螺栓35連接在一起，產生聯動，使當進水閥13開啟時排汙閥9關閉，進水閥13關閉時排汙閥9開啟，進水閥13和排汙閥9的開啟與關閉均由氣動控制裝置18控制排汙閥9上氣囊17的充、放氣來實現。
圖13為本實用新型全程水處理器的過濾體第四實施例的剖視圖。如圖所示，在過濾體3的內側壁上水平固定一支撐板38，在支撐板38的上面固定有外導向管36，在支撐板38上設有過渡板37，氣囊17的下端通過螺栓固定在過渡板37上，氣囊17的上端固定在一託板31上，在託板31上有一通孔42，在通孔42的周邊固定一向下延伸的內導向筒41，內導向筒41向下穿過支撐板38和過渡板37，內導向筒41的側壁和底面40上均設有若干個過流孔25，氣囊17由外導向管36和內導向筒41導向，託板31通過螺栓43與進水閥瓣24連接，內導向筒41的底面40通過螺栓39與排汙閥瓣28連接，這樣，進水閥瓣24與排汙閥瓣28產生聯動，使當進水閥13開啟時排汙閥9關閉，進水閥13關閉時排汙閥9開啟，進水閥13和排汙閥9的開啟與關閉均由氣動控制裝置18控制進水閥13上氣囊17的充、放氣來實現。
圖14為本實用新型全程水處理器在氣動控制裝置控制下的原理圖。氣動控制箱56中的氣動控制裝置18包括依次串接的氣源50、空氣處理單元49、節流調速閥48，與上述氣路相連的若干個並聯的兩位三通電磁閥47，兩位三通電磁閥47的數量與過濾體3的數量相同，並分別通過充、放氣管路46一一對應地與各過濾體3上的氣囊17相連，氣源50及兩位三通電磁閥47由PLC主機控制櫃45進行控制。其中，空氣處理單元49將氣源50傳來的空氣進行過濾，並由節流調速閥48進行調速，PLC主機則根據預先設定的各濾體3的過濾或反衝洗狀態程序向對應各過濾體3的兩位三通電磁閥47發出指令，相應的兩位三通電磁閥47隨即切換為充氣或放氣位置，並使其所對應的過濾體3上的進水閥13和排汙閥9開啟或關閉，從而完成對過濾體3的過濾過程或依次反衝洗過程的控制。
本實用新型全程水處理器亦可用液壓控制裝置對各過濾體3進水閥和排汙閥組進行控制。
權利要求1.一種全程水處理器，包括殼體(4)及其內部的過濾體(3)、電磁場發生器(52)和射頻發射器(54)，所述殼體(4)上設有進水口(14)、出水口(11)和排汙口(8)，所述殼體(4)外設有控制箱(55)對所述電磁場發生器(52)和射頻發射器(54)進行控制，其特徵在於所述過濾體(3)的數量不少於兩個，所述殼體(4)內腔用上、下隔板(2)、(6)分隔成分配腔(1)、過濾腔(5)和排汙腔(7)，所述進水口(14)設在所述分配腔(1)的殼體上，所述出水口(11)設在所述過濾腔(5)的殼體上，所述排汙口(8)設在所述排汙腔(7)的殼體上，所述過濾體(3)通過所述上、下隔板(2)、(6)固定在所述過濾腔(5)內，每個所述過濾體(3)的進水埠(12)與排汙埠(10)分別與所述分配腔(1)和排汙腔(7)相通，所述進水埠(12)和排汙埠(10)上分別設有進水閥(13)和排汙閥(9)，各個過濾體(3)上的進水閥和排汙閥組均設有控制其啟閉的流體控制裝置。
2.根據權利要求1所述的全程水處理器，其特徵在於所述電磁場發生器(52)安裝在所述過濾腔(5)內各過濾體(3)共有的中軸線上，並與所述上隔板(2)固定並密封，所述射頻發射器(54)水平地安裝在所述殼體(4)的側壁上，每個所述射頻發射器(54)安裝在相鄰兩個所述過濾體(3)之間。
3.根據權利要求2所述的全程水處理器，其特徵在於所述流體控制裝置為氣動控制裝置(18)。
4.根據權利要求3所述的全程水處理器，其特徵在於所述進水閥(13)和排汙閥(9)包括分別固定在所述上隔板(2)或下隔板(6)上的進水閥座(20)和排汙閥座(22)，及分別與其相配合的進水閥瓣(24)和排汙閥瓣(28)，所述進水閥瓣(24)和排汙閥瓣(28)均由所述氣動控制裝置(18)控制的氣囊(17)控制其啟閉。
5.根據權利要求4所述的全程水處理器，其特徵在於所述進水閥(13)包括固定在所述進水閥座(20)上的進水閥殼體(19)，所述進水閥殼體(19)的側壁上設有若干個過流孔(25)，所述氣囊(17)為固定在所述進水閥瓣(24)和進水閥殼體上底(26)之間的上氣囊，所述上氣囊下底與所述進水閥瓣(24)固定在一起，並由進水閥殼體(19)導向，所述進水閥瓣(24)與排汙閥瓣(28)通過螺栓(21)連接在一起，所述進水閥(13)和排汙閥(9)的啟閉狀態相反。
6.根據權利要求4所述的全程水處理器，其特徵在於所述進水閥(13)包括固定在所述進水閥座(20)上的進水閥殼體(19)，所述進水閥殼體(19)內設有與其上底(26)固定在一起的上導向管(27)，所述進水閥殼體(19)的側壁和所述上導向管(27)的側壁上均設有若干個過流孔(25)，所述氣囊(17)為固定在所述進水閥瓣(24)和進水閥殼體上底(26)之間的上氣囊，所述上氣囊下底與所述進水閥瓣(24)固定在一起，並由所述進水閥殼體(19)和上導向管(27)導向，所述排汙閥(9)包括固定在所述排汙閥座(22)上的排汙閥殼體(29)，所述排汙閥殼體(29)的側壁和下底上設有若干個過流孔(25)，所述氣囊(17)為固定在通過螺栓(30)與所述排汙閥瓣(28)連接在一起的託板(31)和所述排汙閥殼體下底(33)之間的下氣囊，所述託板(31)上設有通孔(34)，在所述通孔(34)的周邊固定有向下延伸的下導向管(32)，所述下導向管(32)向下穿過所述排汙閥殼體(29)的下底，所述下氣囊上底與所述託板(31)固定在一起，並由所述排汙閥殼體(29)和所述下導向管(32)導向，所述進水閥(13)和排汙閥(9)的啟閉狀態相反。
7.根據權利要求4所述的全程水處理器，其特徵在於所述排汙閥(9)包括固定在所述排汙閥座(22)上的排汙閥殼體(29)，所述排汙閥殼體(29)的側壁和下底上設有若干個過流孔(25)，所述氣囊(17)為固定在通過螺栓(30)與所述排汙閥瓣(28)連接在一起的託板(31)和所述排汙閥殼體下底(33)之間的下氣囊，所述託板(31)上設有通孔(34)，在所述通孔(34)周邊固定有向下延伸的下導向管(32)，所述下導向管(32)向下穿過所述排汙閥殼體(29)的下底，所述下氣囊上底與所述託板(31)固定在一起，並由所述排汙閥殼體(29)和所述下導向管(32)導向，所述排汙閥瓣(28)與所述進水閥瓣(24)通過螺栓(35)連接在一起，所述進水閥(13)和排汙閥(9)的啟閉狀態相反。
8.根據權利要求4所述的全程水處理器，其特徵在於在所述過濾體(3)的內側壁上固定有支撐板(38)，在所述支撐板(38)的上面固定有外導向管(36)，在所述支撐板(38)上設有過渡板(37)，所述氣囊(17)為中氣囊，其下端通過螺栓固定在所述過渡板(37)上，所述中氣囊的上端固定在一託板(31)上，在所述託板(31)上有一通孔(42)，在所述通孔(42)的周邊固定一向下延伸的內導向筒(41)，所述內導向筒(41)向下穿過所述支撐板(38)和所述過渡板(37)，所述內導向筒(41)的側壁和底面(40)上均設有若干個過流孔(25)，所述中氣囊由所述外導向管(36)和內導向筒(41)導向，所述託板(31)通過螺栓(43)與所述進水閥瓣(24)連接，所述內導向筒(41)的底面(40)通過螺栓(39)與所述排汙閥瓣(28)連接，所述進水閥(13)和排汙閥(9)的啟閉狀態相反。
9.根據權利要求4至8中任一權利要求所述的全程水處理器，其特徵在於所述氣動控制裝置(18)包括依次串接的氣源(50)、空氣處理單元(49)、節流調速閥(48)，與上述氣路相連的若干個並聯的兩位三通電磁閥(47)，所述兩位三通電磁閥(47)的數量與所述全程水處理器中的所述過濾體(3)的數量相同，並分別通過充、放氣管路(46)一一對應地與各過濾體(3)上的氣囊(17)相連，所述氣源(50)及兩位三通電磁閥(47)由PLC主機控制櫃(45)進行控制。
10.根據權利要求9所述的全程水處理器，其特徵在於所述過濾體(3)的側壁濾網為螺旋纏繞在不鏽鋼骨架(15)上的截面為楔形的不鏽鋼絲網(16)，其中楔形不鏽鋼絲的尖端朝向所述過濾體(3)的外側，所述楔形不鏽鋼絲網(16)的過濾縫隙為0.048～10毫米。
專利摘要一種全程水處理器，包括殼體及其內部的若干個過濾體、電磁場發生器和射頻發射器，殼體外設有控制箱對電磁場發生器和射頻發射器進行控制，殼體內腔用上、下隔板分隔成分配腔、過濾腔和排汙腔，進水口設在所述分配腔的殼體上，出水口設在所述過濾腔的殼體上，排汙口設在所述排汙腔的殼體上，過濾體通過所述上、下隔板固定在過濾腔內，每個過濾體的進水埠與排汙埠分別與分配腔和排汙腔相通，進水埠和排汙埠上分別設有進水閥和排汙閥，各個過濾體上的進水閥和排汙閥組均設有控制其啟閉的流體控制裝置。採用本實用新型的全程水處理器，總過濾面積大，過濾過程和過濾體反衝洗過程可同時進行，並保證所有流入系統中的水都經過處理。
文檔編號C02F1/48GK2818457SQ200520023289
公開日2006年9月20日 申請日期2005年9月20日 優先權日2005年9月20日
發明者王耀昕, 葛敬 申請人:北京科淨源環宇科技發展有限公司