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一種內嵌式觸控螢幕及顯示裝置製造方法

2023-05-21 18:24:11 1

一種內嵌式觸控螢幕及顯示裝置製造方法
【專利摘要】本發明公開了一種內嵌式觸控螢幕及顯示裝置,絕緣層在各自電容電極與導線交疊的區域內均設置有至少一個貫穿絕緣層的第一過孔,各自電容電極通過對應的第一過孔與對應的導線電連接,各自電容電極在與除了對應的導線之外的其它的導線交疊的區域內、且與第一過孔對應的位置處設置有第二過孔,第二過孔貫穿自電容電極,且第二過孔在下基板的正投影覆蓋第一過孔在下基板上的正投影。該內嵌式觸控螢幕在保證絕緣層中第一過孔均勻分布的基礎上,保證自電容電極與導線的正確連接,從而解決了現有技術中由於絕緣層中過孔分布不均勻導致的顯示畫面不均勻的問題。
【專利說明】一種內嵌式觸控螢幕及顯示裝置

【技術領域】
[0001]本發明涉及觸控【技術領域】,尤其涉及一種內嵌式觸控螢幕及顯示裝置。

【背景技術】
[0002]隨著顯示技術的飛速發展,觸控螢幕(Touch Screen Panel)已經逐漸遍及人們的生活中。目前,觸控螢幕按照組成結構可以分為:外掛式觸控螢幕(Add on Mode Touch Panel)、覆蓋表面式觸控螢幕(On Cell Touch Panel)、以及內嵌式觸控螢幕(In Cell Touch Panel)。其中,外掛式觸控螢幕是將觸控螢幕與液晶顯示屏(Liquid Crystal Display,LCD)分開生產,然後貼合到一起成為具有觸摸功能的液晶顯示屏,外掛式觸控螢幕存在製作成本較高、光透過率較低、模組較厚等缺點。而內嵌式觸控螢幕將觸控螢幕的觸控電極內嵌在液晶顯示屏內部,可以減薄模組整體的厚度,又可以大大降低觸控螢幕的製作成本,受到各大面板廠家青睞。
[0003]目前,現有的內嵌(Incell)式觸控螢幕是利用互電容或自電容的原理實現檢測手指觸摸位置。其中,利用自電容的原理可以在觸控螢幕中設置多個同層設置且相互絕緣的自電容電極,當人體未觸碰屏幕時,各自電容電極所承受的電容為一固定值,當人體觸碰屏幕時,對應的自電容電極所承受的電容為固定值疊加人體電容,觸控偵測晶片在觸控時間段通過檢測各自電容電極的電容值變化可以判斷出觸控位置。由於人體電容可以作用於全部自電容,相對於人體電容僅能作用於互電容中的投射電容,由人體碰觸屏幕所引起的觸控變化量會大於利用互電容原理製作出的觸控螢幕,因此,相對於互電容的觸控螢幕能有效提高觸控的信噪比,從而提高觸控感應的準確性。
[0004]在上述內嵌式觸控螢幕中,為了將自電容電極與觸控偵測晶片連接,一般會設置與自電容電極對應連接的導線。具體地,如圖1所示,導線1位於自電容電極2的下方,各導線1僅與與其對應的自電容電極2通過過孔3相連,而與其它自電容電極2是不導通的。但是在這種結構中,整個顯示面板中過孔3的分布是不均勻的,因此會影響顯示面畫的均一性。


【發明內容】

[0005]有鑑於此,本發明實施例提供了一種內嵌式觸控螢幕,用以解決現有技術中存在的顯示畫面不均勾的問題。
[0006]因此,本發明實施例提供了一種內嵌式觸控螢幕,包括:相對設置的上基板和下基板,位於所述上基板面向所述下基板一側或所述下基板面向所述上基板一側的多個相互獨立的自電容電極、與各所述自電容電極異層設置且對應電連接的導線、以及位於所述自電容電極與所述導線之間的絕緣層;
[0007]所述絕緣層在各所述自電容電極與導線交疊的區域內均設置有至少一個貫穿所述絕緣層的第一過孔,各所述自電容電極通過對應的第一過孔與對應的導線電連接;
[0008]各自電容電極在與除了對應的導線之外的其它的導線交疊的區域內、且與所述第一過孔對應的位置處設置有第二過孔,所述第二過孔貫穿所述自電容電極,且所述第二過孔在所述下基板的正投影覆蓋所述第一過孔在所述下基板上的正投影。
[0009]較佳地,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,各所述第一過孔的形狀和大小均相同。
[0010]較佳地,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,所述第一過孔的孔徑小於對應位置處導線的寬度。
[0011]較佳地,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,所述第二過孔的孔徑小於對應位置處導線的寬度。
[0012]較佳地,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,還包括與各所述導線同層設置且與各所述第一過孔對應的導通基臺,且各所述導通基臺在所述下基板的正投影覆蓋所述第二過孔在所述下基板的正投影;
[0013]各所述導線通過對應的導通基臺與對應的自電容電極連接。
[0014]較佳地,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,各導線的延伸方向相同。
[0015]較佳地,為了實現等電容設計,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,各所述導線的長度相同。
[0016]較佳地,為了簡化製作工藝,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,所述多個相互獨立的自電容電極呈矩陣排列;
[0017]所述導線的延伸方向為列方向或行方向。
[0018]較佳地,為了保證絕緣層中溝槽的均一性,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,針對每一個自電容電極,位於所述自電容電極與除了電連接的導線之外的其它各導線的交疊區域內的第一過孔的排布規律,與所述自電容電極與電連接的導線的交疊區域內的第一過孔的排布規律相同。
[0019]較佳地,為了保證絕緣層中溝槽的均一性,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,針對每一條導線,與所述導線有交疊區域的任意相鄰兩個第一過孔之間的距離相同。
[0020]較佳地,為了簡化製作工藝,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,所述多個相互獨立的自電容電極同層設置。
[0021]較佳地,為了簡化製作工藝,以及降低製作成本,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,各所述自電容電極組成位於所述下基板面向所述上基板一側的公共電極層,所述內嵌式觸控螢幕還包括:觸控晶片;
[0022]所述觸控偵測晶片用於在顯示時間段對各所述自電容電極加載公共電極信號,在觸控時間段通過檢測各所述自電容電極的電容值變化以判斷觸控位置。
[0023]較佳地,為了簡化製作工藝,以及降低製作成本,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,還包括:位於所述自電容電極下方的數據線;
[0024]各所述導線與所述數據線設置為同層同材質。
[0025]較佳地,為了避免自電容電極上的第二過孔對液晶層帶來影響,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,還包括:位於所述下基板面向所述上基板一側,或位於所述上基板面向所述下基板一側的黑矩陣層;
[0026]各所述導線的圖形在所述下基板的正投影均位於所述黑矩陣層的圖形所在區域內;或各所述第二過孔的圖形在所述下基板的正投影均位於所述黑矩陣層的圖形所在區域內。
[0027]相應地,本發明實施例還提供了一種顯示裝置,包括本發明實施例提供的上述任一種內嵌式觸控螢幕。
[0028]本發明實施例提供的一種內嵌式觸控螢幕及顯示裝置,絕緣層在各自電容電極與導線交疊的區域內均設置有至少一個貫穿絕緣層的第一過孔,各自電容電極通過對應的第一過孔與對應的導線電連接,各自電容電極在與除了對應的導線之外的其它的導線交疊的區域內、且與第一過孔對應的位置處設置有第二過孔,第二過孔貫穿自電容電極,且第二過孔在下基板的正投影覆蓋第一過孔在下基板上的正投影。該內嵌式觸控螢幕在保證絕緣層中第一過孔可以均勻分布的基礎上,保證對應的導線與自電容電極電連接,除了電連接的對應的導線與自電容電極之外的其它導線與自電容電極是絕緣的;從而在保證自電容電極與導線正確連接的基礎上,解決現有技術中由於絕緣層中過孔分布不均勻導致的顯示畫面不均勻的問題。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0029]圖1為現有的內嵌式觸控螢幕的結構示意圖;
[0030]圖2a為本發明實施例提供的內嵌式觸控螢幕的結構示意圖之一;
[0031]圖2b為圖2a所示的內嵌式觸控螢幕沿A-A』方向的剖面結構示意圖;
[0032]圖2c為圖2a所示的內嵌式觸控螢幕沿B_B』方向的剖面結構示意圖;
[0033]圖3a為本發明實施例提供的內嵌式觸控螢幕的結構示意圖之二 ;
[0034]圖3b為本發明實施例提供的內嵌式觸控螢幕的結構示意圖之三;
[0035]圖4a為本發明實施例提供的內嵌式觸控螢幕的驅動時序示意圖之一;
[0036]圖4b為本發明實施例提供的內嵌式觸控螢幕的驅動時序示意圖之二 ;
[0037]圖5a為本發明實施例提供的內嵌式觸控螢幕的具體結構的局部俯視示意圖;
[0038]圖5b為本發明實施例提供的內嵌式觸控螢幕在第一過孔處的剖面結構示意圖;
[0039]圖5c為本發明實施例提供的內嵌式觸控螢幕在第一過孔和第二過孔處的剖面結構示意圖。

【具體實施方式】
[0040]下面結合附圖,對本發明實施例提供的內嵌式觸控螢幕及顯示裝置的【具體實施方式】進行詳細地說明。
[0041]附圖中各膜層的厚度和形狀不反映真實比例,目的只是示意說明本
【發明內容】

[0042]本發明實施例提供了一種內嵌式觸控螢幕,如圖2a至圖2c所示,包括:包括:相對設置的上基板和下基板(圖中未示出),位於上基板面向下基板一側或下基板面向上基板一側的多個相互獨立的自電容電極01、與各自電容電極01異層設置且對應電連接的導線
02、以及位於自電容電極01與導線02之間的絕緣層03 ;
[0043]絕緣層03在各自電容電極01與導線02交疊的區域內均設置有至少一個貫穿絕緣層03的第一過孔04,各自電容電極01通過對應的第一過孔04與對應的導線02電連接;
[0044]各自電容電極01在與除了對應的導線02之外的其它的導線02交疊的區域內、且與第一過孔04對應的位置處設置有第二過孔05,第二過孔05貫穿自電容電極01,且第二過孔05在下基板的正投影覆蓋第一過孔04在下基板上的正投影。
[0045]本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕,絕緣層在各自電容電極與導線交疊的區域內均設置有至少一個貫穿絕緣層的第一過孔,各自電容電極通過對應的第一過孔與對應的導線電連接,各自電容電極在與除了對應的導線之外的其它的導線交疊的區域內、且與第一過孔對應的位置處設置有第二過孔,第二過孔貫穿自電容電極,且第二過孔在下基板的正投影覆蓋第一過孔在下基板上的正投影。該內嵌式觸控螢幕在保證絕緣層中第一過孔可以均勻分布的基礎上,保證對應的導線與自電容電極電連接,除了電連接的對應的導線與自電容電極之外的其它導線與自電容電極是絕緣的;從而在保證自電容電極與導線正確連接的基礎上,解決現有技術中由於絕緣層中過孔分布不均勻導致的顯示畫面不均勻的問題。
[0046]需要說明的是,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,自電容電極與導線之間的絕緣層可以由多層膜層組成,也可以有一層膜層組成,只要該絕緣層保證自電容電極與導線之間是絕緣的都屬於本發明的保護範圍,在此不作限定。
[0047]較佳地,為了保證顯示的均一性,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,各第一過孔的形狀和大小均相同。進一步地,在具體實施時,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,第一過孔的形狀可以為圓形、方形或任何幾何形狀,在此不作限定。
[0048]具體地,在具體實施時,考慮到在製作過孔時的尺寸偏差和對位精度,如圖2b所示,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,第一過孔04的孔徑小於對應位置處導線02的寬度。
[0049]較佳地,在具體實施時,由於導線的厚度一般大於自電容電極的厚度,在製作時,所以導線的尺寸偏差一般會大於自電容電極的,因此,考慮到在製作時的尺寸偏差和對位精度,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,如圖2c所示,第二過孔05的孔徑小於對應位置處導線02的寬度。
[0050]較佳地,在具體實施時,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,考慮到在製作時的尺寸偏差和對位精度,還可以包括:與各導線同層設置且與各第一過孔對應的導通基臺,由於導線層厚度大於自電容電極厚度(自電容電極層的厚度為400-600nm),所以導線層關鍵尺寸偏差大於電極層,且各導通基臺在下基板的正投影覆蓋第二過孔在下基板的正投影;
[0051]各導線通過對應的導通基臺與對應的自電容電極連接。
[0052]進一步地,為了降低製作難度,以及使導線分布均勻,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,如圖3a和圖3b所示,各導線02的延伸方向相同。
[0053]較佳地,為了實現等電容設計,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,如圖3a和圖3b所不,各導線02的長度相同。
[0054]進一步地,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,如圖3a和圖3b所示,多個相互獨立的自電容電極01呈矩陣排列;導線02的延伸方向為列方向或行方向。
[0055]較佳地,為了保證絕緣層中溝槽的均一性,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,針對每一個自電容電極,位於自電容電極與除了電連接的導線之外的其它各導線的交疊區域內的第一過孔的排布規律,與自電容電極與電連接的導線的交疊區域內的第一過孔的排布規律相同。
[0056]進一步地,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,如圖3a和圖3b所示,針對每一條導線02,與該導線02有交疊區域的任意相鄰兩個第一過孔04之間的距離相同。這樣保證了內嵌式觸控螢幕中的所有第一過孔是均勻分布的,從而保證了顯示畫面的均一性。
[0057]較較佳地,為了簡化製作工藝,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,多個相互獨立的自電容電極同層設置。這樣,只需要通過一次構圖工藝就可形成所有自電容電極的圖形,能夠簡化工藝步驟,節省製備成本。當然也可以分層製備自電容電極,在此不做限定。
[0058]進一步地,在具體實施時,本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕,既適用於扭轉向列(Twisted Nematic, TN)型液晶顯示屏,也適用於高級超維場開關(AdwancedDimens1n Switch,ADS)型液晶顯不屏、高開口率、高級超維場開關(High-AdwancedDimens1n Switch,HADS)型液晶顯不屏和平面內開關(In-Plane Switch,IPS)型液晶顯示屏。
[0059]進一步地,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕應用於ADS型液晶顯示屏時,板狀結構的公共電極層位於狹縫狀像素電極的下方,即公共電極位於下基板與像素電極之間,並且在公共電極與像素電極之間還設置有鈍化層。而應用於HADS型液晶顯示屏時,狹縫狀的公共電極位於板狀結構的像素電極的上方,即像素電極位於下基板與公共電極之間,並且在像素電極與公共電極之間還設置有鈍化層。
[0060]具體地,當本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕應用於ADS型或HADS型液晶顯示屏時,為了簡化製作工藝,以及降低製作成本,可以採用位於下基板上的公共電極層復用自電容電極,即各自電容電極組成位於下基板面向上基板一側的公共電極層,內嵌式觸控螢幕還包括:觸控晶片;
[0061]觸控偵測晶片用於在顯示時間段對各自電容電極加載公共電極信號,在觸控時間段通過檢測各自電容電極的電容值變化以判斷觸控位置。這樣,將公共電極層的結構進行變更分割成自電容電極以實現觸控功能時,在現有的陣列基板製備工藝的基礎上,不需要增加額外的工藝,可以節省生產成本,提高生產效率。
[0062]進一步地,根據上述內嵌式觸控螢幕具體應用的液晶顯示屏的模式,當採用公共電極層復用各自電容電極時,各自電容電極在與像素的開口區域對應的位置可以具有狹縫狀IT0電極結構或板狀電極結構,即在HADS模式時各自電容電極由狹縫狀電極組成,具體地,所述狹縫電極結構為在像素開口區域具有狹縫的IT0電極。在ADS模式時,各自電容電極由板狀IT0電極組成以滿足液晶顯示的需求,此時自電容電極可以透過像素電極的狹縫區域與人體電場相互作用。由於ADS模式和HADS模式的液晶顯示屏的具體結構均屬於現有技術,在此不再贅述。
[0063]一般地,觸控螢幕的密度通常在毫米級,因此,在具體實施時,可以根據所需的觸控密度選擇各自電容電極的密度和所佔面積以保證所需的觸控密度,通常各自電容電極設計為左右的方形電極。而顯示屏的密度通常在微米級,因此,一般一個自電容電極會對應顯示屏中的多個像素。
[0064]具體地,由於本發明實施例提供的上述觸控螢幕採用公共電極層復用作為自電容電極,為了減少顯示和觸控信號之間的相互幹擾,在具體實施時,需要採用觸控和顯示階段分時驅動的方式,並且,在具體實施時還可以將顯示驅動晶片和觸控偵測晶片整合為一個晶片,進一步降低生產成本。
[0065]具體地,例如:如圖4a和圖4b所示的驅動時序圖中,將觸控螢幕顯示每一幀(V-sync)的時間分成顯示時間段(Display)和觸控時間段(Touch),例如如圖4a和圖4b所示的驅動時序圖中觸控螢幕的顯示一幀的時間為16.7ms,選取其中5ms作為觸控時間段,其他的11.7ms作為顯示時間段,當然也可以根據1C晶片的處理能力適當的調整兩者的時長,在此不做具體限定。在顯示時間段(Display),對觸控螢幕中的每條柵極信號線Gatel,Gate2……Gate η依次施加柵掃描信號,對數據信號線Data施加灰階信號,與各自電容電極Cxi……Cx η連接的觸控偵測晶片向各自電容電極Cxi……Cx η分別施加公共電極信號,以實現液晶顯示功能。在觸控時間段(Touch),如圖4a所示,與各自電容電極Cx1......Cx η連接的觸控偵測晶片向各自電容電極Cxi……Cx η同時施加驅動信號,同時接收各自電容電極Cx1......Cx η的反饋信號;也可以如圖4b所示,與各自電容電極Cx1......Cx η連接的觸控偵測晶片向各自電容電極Cxi……Cx η依次施加驅動信號,分別接收各自電容電極Cxi……Cx η的反饋信號,在此不做限定,通過對反饋信號的分析判斷是否發生觸控,以實現觸控功能。
[0066]進一步地,為了簡化製作工藝,以及降低製作成本,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,還包括:位於自電容電極下方的數據線;各導線與數據線設置為同層同材質。這樣在製備時,可以將各導線與數據線同層製備,從而不用增加新的製備工藝,僅需變更對應的膜層的構圖即可實現,簡化了工藝步驟,節省了生產成本,提高了生產效率。
[0067]本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕,雖然自電容電極中設置有第二過孔,但是第二過孔不會對周圍的電場產生影響而影響液晶的偏轉,這是因為在顯示階段,導線上傳輸的是公共電極電壓,所以自電容電極的第二過孔處的電壓可以由導線上的公共電壓彌補,從而補償第二過孔產生的影響,保證顯示畫面的均一性。
[0068]進一步地,為了避免自電容電極上的第二過孔對液晶層帶來影響,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,還包括:位於下基板面向上基板一側,或位於上基板面向下基板一側的黑矩陣層;
[0069]各導線的圖形在下基板的正投影均位於黑矩陣層的圖形所在區域內;或各第二過孔的圖形在下基板的正投影均位於黑矩陣層的圖形所在區域內。這樣,將導線或者第二過孔設計在上下兩行像素之間,這裡設置有黑矩陣層,通過黑矩陣層覆蓋住第二過孔,從而將不能正常偏轉的液晶覆蓋在黑矩陣層下,進一步可以降低第二過孔產生的影響,從而保證顯示畫面的均一性。
[0070]進一步地,在本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕中,導線一般在與第一過孔對應的位置處的寬度較其它位置處的寬,這與現有技術中相同,在此不作限定。
[0071]下面通過一個具體的實施例說明本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕,具體如圖5a至圖5c所示,包括:襯底基板10,依次位於襯底基板10上的柵電極11、柵極絕緣層12、有源層13、同層設置的導線02、導通基臺021、源漏電極14以及數據線17、像素電極層15、鈍化層16和由自電容電極01組成的公共電極層;其中,如圖5b所示,第一過孔04貫穿鈍化層16,自電容電極01通過第一過孔04與對應的導通基臺021電連接,從而實現自電容電極01與對應導線02的電連接;如圖5c所示,自電容電極01在與第一過孔04對應的位置處設置有第二過孔05,第二過孔05覆蓋第一過孔04,從而保證第二過孔05處的自電容電極01與導通基臺021之間相互絕緣。
[0072]在具體實施時,本發明實施例提供的上述觸控螢幕中,可以採用現有的任意種構圖流程製作下基板上的各膜層,例如可以採用6次構圖工藝:柵電極和柵線構圖一有源層構圖一導線、數據線和源漏電極構圖一像素電極構圖一鈍化層構圖一公共電極層構圖;當然也可以根據實際設計,採用5次構圖工藝、7次構圖工藝或8次構圖工藝,在此不做限定。
[0073]基於同一發明構思,本發明實施例還提供了一種顯示裝置,包括本發明實施例提供的上述內嵌式觸控螢幕,該顯示裝置可以為:手機、平板電腦、電視機、顯示器、筆記本電腦、數碼相框、導航儀等任何具有顯示功能的產品或部件。該顯示裝置的實施可以參見上述內嵌式觸控螢幕的實施例,重複之處不再贅述。
[0074]本發明實施例提供的一種內嵌式觸控螢幕及顯示裝置,絕緣層在各自電容電極與導線交疊的區域內均設置有至少一個貫穿絕緣層的第一過孔,各自電容電極通過對應的第一過孔與對應的導線電連接,各自電容電極在與除了對應的導線之外的其它的導線交疊的區域內、且與第一過孔對應的位置處設置有第二過孔,第二過孔貫穿自電容電極,且第二過孔在下基板的正投影覆蓋第一過孔在下基板上的正投影。該內嵌式觸控螢幕在保證絕緣層中第一過孔可以均勻分布的基礎上,保證對應的導線與自電容電極電連接,除了電連接的對應的導線與自電容電極之外的其它導線與自電容電極是絕緣的;從而在保證自電容電極與導線正確連接的基礎上,解決現有技術中由於絕緣層中過孔分布不均勻導致的顯示畫面不均勻的問題。
[0075]顯然,本領域的技術人員可以對本發明進行各種改動和變型而不脫離本發明的精神和範圍。這樣,倘若本發明的這些修改和變型屬於本發明權利要求及其等同技術的範圍之內,則本發明也意圖包含這些改動和變型在內。
【權利要求】
1.一種內嵌式觸控螢幕,包括:相對設置的上基板和下基板,位於所述上基板面向所述下基板一側或所述下基板面向所述上基板一側的多個相互獨立的自電容電極、與各所述自電容電極異層設置且對應電連接的導線、以及位於所述自電容電極與所述導線之間的絕緣層;其特徵在於: 所述絕緣層在各所述自電容電極與導線交疊的區域內均設置有至少一個貫穿所述絕緣層的第一過孔,各所述自電容電極通過對應的第一過孔與對應的導線電連接; 各自電容電極在與除了對應的導線之外的其它的導線交疊的區域內、且與所述第一過孔對應的位置處設置有第二過孔,所述第二過孔貫穿所述自電容電極,且所述第二過孔在所述下基板的正投影覆蓋所述第一過孔在所述下基板上的正投影。
2.如權利要求1所述的內嵌式觸控螢幕,其特徵在於,各所述第一過孔的形狀和大小均相同。
3.如權利要求1所述的內嵌式觸控螢幕,其特徵在於,所述第一過孔的孔徑小於對應位置處導線的寬度。
4.如權利要求1所述的內嵌式觸控螢幕,其特徵在於,所述第二過孔的孔徑小於對應位置處導線的寬度。
5.如權利要求1所述的內嵌式觸控螢幕,其特徵在於,還包括:與各所述導線同層設置且與各所述第一過孔對應的導通基臺,且各所述導通基臺在所述下基板的正投影覆蓋所述第二過孔在所述下基板的正投影; 各所述導線通過對應的導通基臺與對應的自電容電極連接。
6.如權利要求1所述的內嵌式觸控螢幕,其特徵在於,各所述導線的延伸方向相同。
7.如權利要求5所述的內嵌式觸控螢幕,其特徵在於,各所述導線長度相同。
8.如權利要求7所述的內嵌式觸控螢幕,其特徵在於,所述多個相互獨立的自電容電極呈矩陣排列; 所述導線的延伸方向為列方向或行方向。
9.如權利要求8所述的內嵌式觸控螢幕,其特徵在於,針對每一個自電容電極,位於所述自電容電極與除了電連接的導線之外的其它各導線的交疊區域內的第一過孔的排布規律,與所述自電容電極與電連接的導線的交疊區域內的第一過孔的排布規律相同。
10.如權利要求9所述的內嵌式觸控螢幕,其特徵在於,針對每一條導線,與所述導線有交疊區域的任意相鄰兩個第一過孔之間的距離相同。
11.如權利要求1-10任一項所述的內嵌式觸控螢幕,其特徵在於,所述多個相互獨立的自電容電極同層設置。
12.如權利要求11所述的內嵌式觸控螢幕,其特徵在於,各所述自電容電極組成位於所述下基板面向所述上基板一側的公共電極層,所述內嵌式觸控螢幕還包括:觸控晶片; 所述觸控偵測晶片用於在顯示時間段對各所述自電容電極加載公共電極信號,在觸控時間段通過檢測各所述自電容電極的電容值變化以判斷觸控位置。
13.如權利要求12所述的內嵌式觸控螢幕,其特徵在於,還包括:位於所述自電容電極下方的數據線; 各所述導線與所述數據線設置為同層同材質。
14.如權利要求11所述的內嵌式觸控螢幕,其特徵在於,還包括:位於所述下基板面向所述上基板一側,或位於所述上基板面向所述下基板一側的黑矩陣層; 各所述導線的圖形在所述下基板的正投影均位於所述黑矩陣層的圖形所在區域內;或各所述第二過孔的圖形在所述下基板的正投影均位於所述黑矩陣層的圖形所在區域內。
15.一種顯示裝置,其特徵在於,包括如權利要求1-14任一項所述的內嵌式觸控螢幕。
【文檔編號】G06F3/044GK104503648SQ201510012621
【公開日】2015年4月8日 申請日期:2015年1月9日 優先權日:2015年1月9日
【發明者】包智穎, 許睿, 趙衛傑, 呂振華, 李彥辰, 陳希, 王海生 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方光電科技有限公司

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