分散漿料的塗敷裝置的製作方法

2023-04-28 15:09:01 2

專利名稱：分散漿料的塗敷裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種利用塗敷輥將使固體顆粒分散在分散介質中的分散漿料塗敷在連續行進的基材表面上的塗敷裝置，特別是涉及一種改進的塗敷裝置，無論是具有易於附著在塗敷輥表面上的性質的分散漿料，還是使易於沉澱的以固相組分分散的分散漿料，都能將分散漿料穩定且均勻地塗敷在連續行進的基材上。
作為上述分散漿料的一個例子，有使高吸水性樹脂(以下稱為SAP)分散在分散介質中的分散漿料，通過將該分散漿料塗敷在非編織物基材上，可以獲得薄層吸收體。
背景技術：
伴隨著吸收體產品的超薄型化，使SAP薄層化的技術變得非常重要。其中，作為有效的方法，利用CMC、MFC、PEO等粘度調整劑，使SAP分散在水、有機溶劑或有機溶劑/水的混合溶劑中，調製漿料，並將其塗敷在支持體上的方法被嘗試。例如在特開平10-168230號公報中，公開了使用柵格狀的塗敷機和吻合式塗敷機的例子，在特開平11-34200號公報中，公開了利用管狀的噴嘴進行塗敷的例子，在特開平11-128825號公報中，公開了模具塗敷機、幕簾式塗敷機、刮刀式塗敷機、噴射式塗敷機的例子，在特開平11-22646號公報中，公開了從緩衝罐導向溢流噴嘴的例子，在特開2000-5674號公報中，公開了利用接觸頭進行構圖塗敷的例子。
在對各種基材表面進行塗敷處理時，與待塗敷的液體是均勻的溶液的情況不同，使固體顆粒分散在分散介質中的分散漿料容易由於相分離、沉澱、凝集等而發生部分濃度變化。在塗敷分散漿料時，在各種塗敷裝置中，優選利用結構比較簡單、價格便宜的輥塗敷裝置，但也容易發生分散漿料中的固體顆粒的沉澱、或者附著在塗敷輥表面上的現象。當發生沉澱或附著現象時，塗敷表面變得不均勻，或者在行進過程中發生阻塞，從而難以進行均勻、穩定的塗敷處理。
為了減輕這樣的分散漿料的沉澱或附著現象，進行了如下嘗試，即用剝離性好的矽酮、特氟隆等材料對塗敷輥表面進行表面處理，或者用刮板進行刮除，或者使輥向正方向或反方向旋轉，使之處於易於剝離的狀態。
與這樣的固相組分分散漿料相比，SAP分散漿料的流動性差，並且為淤泥狀，所以難以進行穩定且均勻的塗敷，實現工業化的方法尚未開發出來。

發明內容
本發明的目的在於提供一種能在塗敷基重(單位面積重量)較大的範圍內不發生阻塞、在較大速度範圍內進行寬度方向和長度方向均勻的SAP分散漿料的塗敷的塗敷裝置。
本發明的塗敷裝置的特徵在於，具有行進裝置，使上述非編織物基材在水平方向上連續行進；上部開放的水頭槽，位於行進中的上述非編織物基材的上方，在上述非編織物基材的上表面形成貯留上述分散漿料的槽；液體密封板，位於上述水頭槽的下方，使得上述分散漿料不從上述非編織物基材的下表面洩漏而進行密封；以及塗敷輥，做相對上述非編織物基材的行進方向的順方向旋轉，上述塗敷輥被構成為，調整對上述非編織物基材以及塗敷在其表面上的分散漿料的擠壓力，同時使上述分散漿料的塗敷表面平滑。
本發明優選實施方式的塗敷裝置還具有覆蓋薄膜，在從上述塗敷輥圓周面的最上端附近的位置到最下端附近的位置的範圍內，覆蓋上述塗敷輥圓周面而設置，並且上述分散漿料被供給在上述覆蓋薄膜的前端部與上述非編織物基材表面之間。
本發明的塗敷裝置可以具有支持輥，配置在與上述塗敷輥相向的位置上，在上下方向上與上述塗敷輥一起將上述非編織物基材夾在中間，並且做相對上述非編織物基材的行進方向的順方向旋轉。
上述覆蓋薄膜的前端部可以不固定，或者可以除了上述覆蓋薄膜的前端部之外上述覆蓋薄膜的其餘部分在上述塗敷輥的軸向的兩端部被側面密封部固定，使得被保持在沿上述塗敷輥圓周面的規定位置上。
上述覆蓋薄膜可以由將物理性質彼此不同的2片薄膜重疊的疊層薄膜構成。
在上述2片薄膜中，優選第一薄膜延伸到越過上述側面密封部的位置，並且被上述側面密封部固定，第二薄膜具有僅覆蓋上述側面密封部內側的寬度。
上述第一薄膜配置在與上述塗敷輥相向的位置上，並且上述第二薄膜配置在其外側的位置上。
或者，上述第二薄膜配置在與上述塗敷輥相向的位置上，並且上述第一薄膜配置在其外側的位置上。
在上述非編織物基材的行進方向上，上述第一薄膜可以比第二薄膜短。
上述第一和第二薄膜可以在其至少一部分上相互接合。
優選上述第一薄膜為厚度50μm以上的PET薄膜，上述第二薄膜由厚度50μm以下的PET薄膜構成。
在上述非編織物基材的行進方向上，上述覆蓋薄膜的前端部可以從上述塗敷輥圓周面的最下端起向下遊側僅延伸所要求的長度。
另一方面，上述塗敷輥的直徑優選在100～500mm的範圍內，並且在上述基材的行進方向上，上述覆蓋薄膜的前端部優選從上述最下端位置起向下遊側僅延伸1～50mm。
在希望防止上述覆蓋薄膜的前端部與上述塗敷輥圓周面接觸的情況下，還具有分離器。
為了在上述非編織物基材的表面上形成塗敷圖案，還設有圖案墊片。由此，在上述基材的行進方向上，限制從上述覆蓋薄膜的前端起向著下遊側供給上述基材表面的上述分散漿料，使不供給上述基材的表面，從而形成所希望的塗敷圖案。
上述塗敷輥在其表面上具有凹凸。由此，在上述塗敷輥表面與上述覆蓋薄膜之間局部地存在非接觸部分，從而可以避免兩者間過度的接觸摩擦。
上述固相成分可以包括粒子狀、粉末狀或薄片狀的SAP，此時優選的上述分散介質是有機溶劑與水的混合溶劑。
上述固相成分可以是具有1000μm以下粒徑的SAP，上述分散介質可以是對SAP具有膨潤抑制作用的有機溶劑與水的混合溶劑。
上述基材無論其種類如何，只要是非編織物即可，並且是多孔性非編織物。
根據上述的本發明，在進行基重範圍較大的非編織物基材的塗敷時，不會發生分散漿料的阻塞，並且能在較大速度範圍內在寬度方向和長度方向上以均勻的厚度進行分散漿料的塗敷。從而所獲得的塗敷膜的厚度均勻，表面平滑。
此外，在使用覆蓋薄膜的情況下，在不使塗敷裝置本身複雜化以及設備成本大幅上升的情況下，不僅能解決輥式塗敷機的分散漿料附著在塗敷輥表面上的問題，而且對條形塗敷機和刀刃狀塗敷機等基材與塗敷機直接接觸的塗敷機也是通用的。特別是在使吸收性固相粒子分散在水/有機溶劑混合液的分散介質中的分散漿料的情況下，即使吸水性固相粒子的表面粘著性大，也能進行均勻、穩定的塗敷處理。


圖1是表示本發明的接觸塗敷裝置的基本結構的圖。
圖2是用於說明由水頭槽所供給的SAP分散漿料形成SAP承載薄板的過程的示意圖。
圖3A～3C是表示水頭槽的水頭長度(L)的效果的圖。
圖4A～4C是表示塗敷輥和支持輥的配置狀態的圖。
圖5A～5B是表示本發明的代表性的塗敷系統的構成的圖，5A是側視圖，5B是俯視圖。
圖6是表示在塗敷裝置的下遊側設置了第一吸收脫溶劑裝置和第二吸收脫溶劑裝置的圖。
圖7a～7B是以內插式插入梳齒的實施例的圖，7A是側視圖，7B是俯視圖。
圖8A～8B是以外插式插入梳齒的實施例的圖，8A是側視圖，8B是俯視圖。
圖9是表示棉紙和棉網的複合基材的製造、一邊用高壓水流交織裝置對該複合基材進行交織結合，一邊進行SAP分散漿料塗敷、以及脫溶劑、乾燥等處理的整個流程的圖。
圖10是表示使用覆蓋薄膜的本發明的塗敷裝置的實施方式的剖視圖。
圖11A～11B示出了使用覆蓋薄膜的本發明另一個實施方式的塗敷裝置，11A是剖視圖，11B是正視圖。
圖12A～12B示出了使用覆蓋薄膜的本發明另一個實施方式的塗敷裝置，12A是剖視圖，12B是正視圖。
圖13A～13C是表示塗敷輥最下端的位置與從該最下端位置起沿基材行進方向而向下遊側延伸的覆蓋薄膜的自由端之間的各個不同位置關係的說明圖。
圖14A～14C是表示本發明的塗敷裝置中的塗敷輥、覆蓋薄膜和圖案墊片的關係的說明圖。
圖15A～15C是表示將塗敷輥和覆蓋薄膜的自由端之間的距離保持為所要求的數值的裝置的各個不同的具體實施例的說明圖。
圖16A～16C是在本發明的塗敷裝置中應用的雙層覆蓋薄膜的各個不同覆蓋範圍的說明圖。
圖17A～17B是表示在使用2片覆蓋薄膜時，彼此長度的關係的說明圖。
圖18A～18B是表示在本發明的塗敷裝置中應用的雙層覆蓋薄膜的各個覆蓋範圍的說明圖。
具體實施例方式
以下參照附圖，對本發明的優選實施方式進行詳細說明。
在此之前，為了理解本發明，首先需要了解SAP和SAP分散漿料的性質、非編織物基材的性質。
將高粘度且流動性好的漿料塗敷在平滑的薄膜或金屬箔上的技術在工業上已經是成熟的技術，該技術大致分為模型塗敷、幕簾式塗敷、噴嘴塗敷這樣的擠出方式和具有塗敷頭槽的塗敷頭溢流方式兩類。作為具有塗敷頭的方式，唇式直接塗敷頭、間歇式直接塗敷頭、間歇式反轉塗敷頭、底區反轉輥式塗敷頭、直接凹版塗敷頭、吻合式塗敷頭、擠壓式塗敷頭等以及應用於各種用途的塗敷頭被提出。
但是，在將SAP分散漿料塗敷在凹凸不平的非編織物基材上的工序中，即使應用這些現有的塗敷裝置，也極難實現穩定且均勻的塗敷。
因此，在實施本發明時，應考慮以下條件。
(1)SAP和SAP分散漿料的性質SAP分為利用聚合法而呈現球狀的SAP和薄片狀的SAP，如果設兩方近似為球狀，並測定粒徑，會發現其具有30～1000μm的廣泛分布，形狀不規則，並且膨鬆。當然，其對水分極其敏感。
當使SAP在分散介質中分散為懸浮狀時，它容易自己凝集(紙漿技術雜誌1079、第52卷、第8號(1998))，而極不穩定，但在有機溶劑/水的混合溶劑中可以懸浮化。但是，如果攪拌，則在瞬間就會沉澱，所以利用粘度調節劑或粘結材料使漿料穩定。其結論是，現在最優選的條件是與MFC(微纖維狀纖維素)共存。
即使這樣穩定的漿料，也與通常在工業中使用的漿料不同，由於易沉澱，並且成為砂狀或淤泥狀而流動性差，所以需要總是在攪拌狀態下使用。
(2)非編織物基材的性質在本發明中使用的非編織物基材，有紡粘型織物、紡粘型/熔噴法織物複合體、射流噴網法織物、熱粘合織物、氣流法織物、縐紙、絨毛編織物、毛巾狀編織物，它優選具有多孔、承載漿料中的固相物質、並且容易使分散介質透過的結構。
優選的非編織物基材具有能將SAP承載在其組織中的結構，並且膨鬆，如後所述，將棉網重疊在例如縐紙上，使兩者部分交織接合，得到基重為20g/m2、厚度為1.5mm左右的輕軟的、圖9所示的非編織物基材。當利用已有的塗敷機對這樣的基材進行塗敷時，厚度變形較大，成為基重不均勻性較大的基材。
(3)對乾燥狀態的非編織物進行直接塗敷以及對分散介質飽和的非編織物進行塗敷為了進一步理解SAP和非編織物的特性，表1示出了對乾燥狀態的非編織物和利用分散介質填充空隙的狀態的非編織物進行的兩種塗敷例子的比較。
為了進行該實驗，準備了如下的基材和SAP分散漿料。
表1基材和分散漿料的詳細非編織物基材紡粘型/熔噴法織物複合體薄板
·紡粘型 12g/m2(Avgol公司製造)織物·棉網PET(6d×51mm)、25g/m2·厚度 2mm漿料條件·SAP 三菱化學製造的？6(ァクァパ一ル)(粒徑500μm)·分散介質 乙醇/水＝70/30·漿料組成 SAP 20％MFC 0.5％分散介質 75％
利用圖5A～5B所示的流程進行塗敷。設置的塗敷機的間隙，在上遊入口側固定為1.5mm，在下遊出口側在1.0～1.6mm間變動，並且以20m/min進行塗敷加工。乾燥狀態的棉網直接進行塗敷加工，飽和狀態的棉網把乙醇/水＝70/30的分散介質利用預塗敷部添加變為自重的200％的量進行塗敷加工。
表2示出了其實驗結果。在對乾燥狀態的非編織物基材進行直接塗敷的情況下，SAP的塗敷基重接近為300g/m2，間隙幾乎不變。該基重相當於將SAP分散漿料浸入幹棉網中，然後將棉網作為過濾器而除去的分散介質的量。另一方面，在分散介質飽和的非編織物基材的情況下，塗敷量隨間隙而變化。
表2塗敷條件 如表2所示，本發明提出了如下的裝置和方法，該裝置和方法將①在基材幹燥狀態下進行塗敷、②以分散介質使基材飽和後進行塗敷、③活用基材的過濾器效應、④以利用塗敷輥進行表面塗敷加工為主，亦這4種狀態巧妙地接合起來。
以下，利用附圖進行詳細說明。
(本發明的塗敷裝置的基本結構)圖1示出了本發明的接觸塗敷裝置的基本結構。
該塗敷裝置由以下部分構成後攔板7，具有適當的後攔板間隙(C)而配置在用於運送非編織物基材1的網狀運送機6上；塗敷輥4；支持輥5，通過網狀運送機6而被配置在與上述塗敷輥4相向的位置上；以及護板3，設在網狀運送機6的下方，用於在後攔板7和塗敷輥4之間對形成於非編織物基材1上方的水頭槽2的下表面進行密封。
水頭槽2被形成在後攔板7和塗敷輥4之間。水頭槽2提供一次貯留漿料液的空間。如果非編織物基材1的寬度一定，則水頭槽2的容積由其長度方向的距離(以下稱為水頭槽長度(L))確定，貯留在該水頭槽2中的漿料的貯留量由水頭槽2的高度(H)確定。該貯留量是根據所要求的塗敷基重和非編織物基材1的行進速度等條件而被適當控制的。
在塗敷作業中，根據所使用的非編織物基材的表觀上的厚度(即松密度)而使後攔板7上下移動，調節後攔板間隙(C)。一般，將非編織物基材1的松密度設定得稍低。例如，在4mm膨鬆的棉網的情況下，調節為3mm左右。後攔板間隙(C)不受速度變化、基重變化影響。間隙(D)是重要的控制要素，它與水頭槽2的高度(H)相關連，根據基重、基材的性能、其行進速度、以及塗敷圖案等多種條件來進行微調。但是其變化範圍為1.0～2.0mm左右。將支持輥5的位置固定，測量與支持輥5的距離，使塗敷輥4上下移動，來進行間隙(D)的調節。
護板3的作用是通過網狀運送機6來對水頭槽2的下表面進行密封，它在上遊側覆蓋從後攔板7的位置或其上遊側到接近支持輥5的位置。在下遊側，支持輥5的前端變薄，使得能儘可能地接近支持輥，以利於密封。優選護板3的寬度方向的兩端部與側面密封件(未圖示)連動而進行密封。
塗敷輥4的作用是，向相對非編織物基材1的行進方向做順方向旋轉，推壓容易發生阻塞的SAP分散漿料。
通常的塗敷機為了提高測量精度，一般如間歇式塗敷機那樣固定塗敷輥4，或者如反轉輥式塗敷機那樣使塗敷輥反轉。與此相對，本發明使塗敷輥4向順方向旋轉，從而積極地對SAP分散漿料進行推壓。如果將基材的行進速度作為100，則塗敷輥4的旋轉速度根據情況而在0～200％範圍內變化。通常優選在100％±20％的範圍內調節。
塗敷輥4的另一個功能是提高限定漿料的塗敷厚度，將SAP漿料強制地壓入非編織物基材1的纖維組織的空隙內，同時使塗敷表面平滑。在現有的方法中，由於該部分為固定邊緣，所以即使混入了少量SAP小塊，也立刻發生阻塞，當發生阻塞時，塗敷面成為羽毛狀，從而不僅使產品的品質下降，而且在乾燥工序中成為使乾燥輥表面產生汙損的原因。在該意義上，通過使作為出口輥的塗敷輥4旋轉，在順利地將SAP分散漿料擠出的同時，可使表面平滑。
由於上述原因，塗敷輥4的結構優選表面精加工成為鏡面狀態，但也可以使用進行用於降低附著性的聚四氟乙烯〔特氟隆(註冊商標)〕塗敷、矽酮塗敷或者褶皺加工的塗敷輥。此外，為了除去塗敷輥4表面的汙垢或防止纏繞，還可以設置刮板。
圖2是表示利用由水頭槽2提供的SAP分散漿料來形成SAP承載薄板的過程的示意圖。
象薄膜或金屬箔那樣，漿料不浸透基材的物質中，雖然基材上的塗敷量不由間隙(D)唯一限定，但在非編織物基材特別是本發明優選的膨鬆基材的情況下，首先同時產生向基材組織內的浸透作用和由基材完成的過濾作用，SAP分散漿料被承載在基材中，同時根據間隙而在其上形成進行了表面塗敷的漿料層。圖2示出了該浸透、過濾作用成為主體、SAP被承載在基材中的A區(浸透過濾區)和進行了表面塗敷的B區(表面塗敷區)的位置關係。這些區域是彼此重疊而產生的現象，不能明確的進行區別，在圖2中部分重疊。
該A區、B區哪一個為主體，在很大程度上受基材的性能、塗敷速度以及水頭槽的形狀等條件的影響。圖3A～3B示出了水頭槽2的水頭長度(L)對塗敷效果的影響。如圖3A所示，如果增大水頭長度(L)，則形成浸透過濾區(A區)主體的SAP承載層，如果縮短水頭長度(L)，則如圖3B所示，則形成A區和B區相互組合的SAP承載層，如果進一步縮短水頭長度(L)，則形成表面塗敷區(B區)主體的SAP承載層。在希望進一步縮短水頭長度(L)的情況下，可以如圖3C所示，將後攔板7傾斜配置，使得其下端向下遊側位移。
圖4A～4C示出了塗敷輥和支持輥的配置狀態。
圖4A是使塗敷輥4的直徑大於支持輥5的直徑，從而使水頭槽2中的塗敷層形成區擴大的例子。它適用於以較快的速度進行生產的情況，與塗敷輥4的線速度大於基材1的移動速度的條件匹配。
圖4B是使塗敷輥4的直徑與支持輥5的直徑大致相等的一般情況。
圖4C是使塗敷輥4的直徑小於支持輥5的直徑，並且設置用於確保水頭槽2的空間的前攔板8的例子。在該實施例的情況下，與圖4A的情況相比，它與使塗敷輥4以較低的速度旋轉的情況匹配。
(組裝了塗敷裝置的塗敷系統)以上對塗敷裝置的基本結構進行了說明，但為了構成塗敷系統，還需要組裝預塗敷裝置、吸收脫溶劑裝置等其他重要的單元裝置。
圖5A～5B示出了本發明的代表性的塗敷系統的構成。從基材流動的方向看，該塗敷系統自上遊起由預塗敷裝置、塗敷裝置和吸收脫溶劑裝置構成。預塗敷裝置主要具有以下3個功能。
第一，在非編織物基材1為膨鬆的例如起毛棉網等的情況下，預先將分散介質塗敷在該基材上，使其填充空隙，然後通過採用塗敷漿料的步驟，可以進行與象棉紙或紡粘型織物那樣的具有較薄、平滑表面的基材同樣均勻的塗敷。
第二，通過用溶劑使該基材的微凹凸平滑，或者用溶劑置換基材內部含有的空氣，實現基材整體即從內部到表面的狀態的均一化。
第三，使運送機6與該基材1緊密接觸並成為一體，從而在塗敷裝置中確保均勻的接壓狀態。
在象棉紙或紡粘型織物那樣較薄、均勻且松密度低的非編織物的情況下，第一的空隙填充效果不是很重要，而第二、第三的功能很重要。
因此，在本發明中，預塗敷的分散介質的量依賴於基材的性質，但在對任何一種基材進行塗敷的情況下，都優選應用預塗敷。作為預塗敷的方法，有噴射、轉印等各種方法，但由於在與輥接觸後起毛狀態和松密度狀態會發生變化，所以優選如圖5A～5B所示，使用溢流式預塗敷裝置。在添加預塗敷的分散介質過程中，不必使基材的空隙接近100％飽和，50％左右的空隙率就足夠了。
對於象本發明的SAP分散漿料那樣的易沉澱、易變為淤泥狀的漿料，對水頭槽2內的漿料進行攪拌是非常重要的，當發生流速下降這樣的情況時，由於會立刻沉澱、堆積，所以應特別注意。
刮板不是必要的，但在需要防止汙損或防止纏繞的情況下應設置。吸收脫溶劑裝置能使SAP與非編織物成為一體，同時能降低對後續工序即乾燥工序的負擔，從這個意義上講，吸收脫溶劑裝置是很重要的。吸收脫溶劑裝置採用將吸收箱配置在網狀運送機的下方的形式。藉助於該吸收箱的真空度，SAP分散漿料中所含的液狀分散介質的大部分被除去，然後利用後續工序的乾燥機除去殘留的溶劑和水分，從而得到乾燥狀態的薄板狀SAP。
在生產速度慢並且全表面塗敷的情況下，可以設置1臺該吸收脫溶劑裝置，而在圖案塗敷或全表面塗敷但生產速度快的情況下，有時需要設置2臺吸收脫溶劑裝置。
圖6示出了在塗敷裝置的下遊側設置第一吸收脫溶劑裝置和第二吸收脫溶劑裝置的塗敷系統的構成。在該塗敷系統中，為了容易地調節，將運送機傾斜配置。
以下對吸收脫溶劑裝置進一步說明，在設置第一和第二這2臺吸收脫溶劑裝置的情況下，優選將第一吸收脫溶劑裝置的真空度設定得高、風量較少，將第二吸收脫溶劑裝置的真空度設定得低、風量較多。作為第一吸收用的真空泵，採用納什泵或羅茨泵那樣的真空度保持得較高的真空泵，作為第二吸收用的真空泵，採用如離心式鼓風機那樣的真空度低但風量較多的泵。
以下對脫溶劑裝置的具體性能的一個例子進行說明，該裝置由第一吸收部和第二吸收部構成，第一吸收部的真空度為26.6kPa～53.2kPa(200mmHg～400mmHg)，第二吸收部的真空度為6.65kPa～33.3kPa(50mmHg～250mmHg)，並且第一吸收部的真空度比第二吸收部的真空度高。
(塗覆圖案的變化)在對全表面進行塗敷的情況下，可以利用上述的塗敷裝置進行SAP漿料的塗敷。但是，在希望設置線狀圖案、橫條圖案或厚部分和薄部分的情況下，需要進行一些研究。一般，如本發明人在特開2000-5674號公報中提出的那樣，插入梳齒的方法是簡便的。在該情況下，選擇圖7A～7B那樣的內插式的情況以及圖8A～8B那樣的外插式的情況中的一個。圖7A～7B和圖8A～8B的情況是存在SAP的部分和不存在SAP的僅為非編織物的部分明確地被區分為帶狀。在形成SAP層的厚薄圖案時，作為塗敷輥，可以使用在其表面刻有縱溝或橫溝的塗敷輥，在塗敷的最後階段，進行圖案形成。
(組裝了塗敷裝置的薄板狀SAP的製造工序)以下對組裝了本發明的塗敷裝置的薄板狀SAP的製造工序進行說明。圖9示出了棉紙與棉網的複合基材的製造以及利用高壓水流交織裝置使該複合基材交織接合，同時進行SAP分散漿料的塗敷和脫溶劑、乾燥工序的全部流程。即，該流程由以下7個工序單位構成。
1.調製未結合棉網的工序。
2.向網狀運送機運送上述棉網的工序。
3.在上述網狀運送機上，用至少2.06Mpa(20kgf/cm2)的高壓水，以5mm以上的水束間隔對上述棉網進行水流交織處理的工序。
4.用預塗敷裝置，利用由有機溶劑·水混合溶劑構成的SAP的分散介質使被進行了水流交織處理的上述棉網飽和的工序。
5.對上述棉網進行塗敷加工的工序，上述棉網是利用上述分散介質使由上述有機溶劑·水混合溶劑作為上述分散介質的上述SAP分散漿料飽和的棉網。
6.利用吸收式脫溶劑裝置對由上述塗敷加工而獲得的SAP塗敷棉網進行脫溶劑處理的工序。
7.利用乾燥機對被進行了上述脫溶劑處理的上述SAP塗敷棉網進行熱乾燥處理的工序。
(應用覆蓋薄膜的本發明的塗敷裝置的基本結構)以上對本發明的塗敷裝置及其組裝過程進行了說明，但為了根本解決固相組分附著在塗敷輥上的方法是用薄膜覆蓋塗敷輥的表面。以下對此進行詳細說明。
圖10示出了應用覆蓋薄膜的本發明的塗敷裝置實施方式的一個例子。其構成為，具有軸心沿水平方向配置、並以其軸心為中心以所要求的速度旋轉而構成的塗敷輥11，在該塗敷輥11的下方，基材12在塗敷輥11的旋轉過程中，通過其圓周面的最下端附近的位置，並且利用未圖示的行進裝置，在相對於塗敷輥圓周面的切線方向上連續地行進。
此外，待塗敷在基材12表面上的分散漿料24在塗敷輥11的旋轉過程中，經由根據需要而設置的貯留部14，相對上述基材行進方向，從上述塗敷輥圓周面的最下端附近的位置向限定在接近下遊側的位置的吐出位置，連續地被供給至基材12的表面。
此外，還配置有覆蓋薄膜15，使得從貯留部14供給的分散漿料24與塗敷輥11的圓周面不接觸，該覆蓋薄膜15覆蓋塗敷輥11的圓周面，並且其前端部超過塗敷輥11圓周面的最下端。分散漿料被供給至該覆蓋薄膜15的前端部和基材12的表面之間的空間內，該空間成為分散漿料的吐出位置。
在圖10所示的例子中，覆蓋薄膜15的最上端被薄膜固定件17固定在規定位置上，而其另一端具有從從塗敷輥11的最下端沿基材12的行進方向而到達接近下遊側的位置的長度，該另一端在被夾在塗敷輥11和基材12之間的狀態下而構成自由端。
以下對具有上述結構的分散漿料的塗敷裝置的構成要素進一步說明。
第一，塗敷輥11在其圓周面的最下端部分，與在其下方連續行進的基材12表面之間形成規定距離的間隙，由此，可以將塗敷在基材12表面上的分散漿料24的厚度限定為所要求的值。第二，藉助於與一端被固定的覆蓋薄膜15之間的摩擦阻力，可以產生以下功能，即對覆蓋薄膜15提供適當地張力，防止產生褶皺或混入空氣而導致產生凹凸，從而使薄膜與塗敷輥圓周面緊密接觸。如果塗敷輥11和覆蓋薄膜15之間的摩擦阻力過大，則會導致覆蓋薄膜15變形或破損，或者制動過大而導致塗敷輥的旋轉能量損失，所以優選設定為適當的值。
以下，對分散漿料24用的貯留部14進行說明。該貯留部14具有水頭槽的功能，用於在均勻、均質的狀態下暫時貯留分散漿料24，使得在為了獲得寬度方向、長度方向均勻的塗敷狀態的準備階段，分散漿料24不產生濃度分布和凝集。一般，在該貯留部14中，為了防止固體顆粒的凝集或沉澱導致的濃度分布、以及確保寬度方向的均勻性，有時也需要設置攪拌裝置。但是，如果使用清除這些條件的漿料供給裝置，則可以省略貯留部14。
在具有上述結構的本發明的分散漿料的塗敷裝置中，象一般的輥塗敷的情況一樣，分散漿料24向基材12表面的供給以及塗敷不在塗敷輥和基材表面之間的間隙內進行，而是在覆蓋薄膜15和基材12之間進行，塗敷輥11僅是為了限制該覆蓋薄膜15相對於基材12表面的位置，並不與分散漿料24接觸。因此，根本不會發生分散漿料附著在塗敷輥表面上的問題。
與通常的輥塗敷裝置同樣，在本發明的分散漿料的塗敷裝置中，有時也希望相對連續行進的基材的寬度方向限制塗敷範圍。圖11A～11B示出了本發明另一個實施方式的塗敷裝置，它示出了具有作為這樣的塗敷寬度限制裝置的側面密封部13′的塗敷裝置的一個例子，11A是垂直於塗敷輥11的軸心的平面上的剖視圖，11B是正視圖。圖11A～11B的裝置被構成為，設置有與塗敷輥11相向地將塗敷輥11的最下端部分附近的吐出位置夾在中間的支持輥21，基材12通過該塗敷輥11和支持輥21之間。此外，在基材12的行進方向上，在吐出位置的上遊側，設有用於防止液體向基材12下方洩漏的液體密封部22。
標號13′所表示的本實施例的側面密封部，由作為貯留部14兩個側面的護板的左右一對板構成，為了對塗敷輥11表面和後板部13進行密封，防止液體洩漏，它被設在覆蓋薄膜15兩側部分的內側，由焊接或粘結等的裝置相對於貯留部14的後板部13而固定。
該側面密封部13′為了防止分散漿料24通過它與塗敷輥11的圓周面之間的間隙而洩漏到外側，優選設計成與塗敷輥11的圓周面接觸。但是，在該情況下，要求它對塗敷輥11圓周面有密封性，而且摩擦阻力小，不易摩擦。為了滿足這樣的要求，優選側面密封部13′由從合成橡膠、發泡泡沫、特氟隆(註冊商標)等中選擇的樹脂材料構成。
供給至貯留部14的分散漿料，在後部由後板部13密封，在兩側由側面密封部13′密封，從而通過在貯留部14和覆蓋薄膜15之間形成的唯一出口，對連續行進的基材12進行塗敷。
圖12A～12B示出了本發明的另一個實施方式的塗敷裝置。該裝置被構成為，將分散漿料在基材上塗敷成直線圖案，在來自貯留部14的分散漿料的出口和在其下方連續行進的基材12的表面之間，配置有沿基材12行進方向上延伸的至少一個圖案墊片31。該圖案墊片31通過在圖案墊片31的位置將在兩側的側面密封部13′之間的整個區域上均勻供給的分散漿料24的液流分斷，從而使塗敷在基材12表面上的分散漿料24的塗敷圖案成為多個線狀。該線狀圖案的數量由所設置的圖案墊片31的數量決定，如圖12B的例子所示，在設置10個圖案墊片31的情況下，將形成由9條線構成的線狀圖案。
以下對在本發明的分散漿料的塗敷裝置中使用的覆蓋薄膜15進行研究。
首先，列舉如下覆蓋薄膜15的主要功能。
(1)通過把塗敷輥11與分散漿料24接觸的的部分覆蓋，來阻止分散漿料24與輥表面接觸，從而防止附著。
(2)覆蓋薄膜15的一端被固定，另一端為自由端，所以藉助於其自由端的邊緣效應，使分散漿料24從覆蓋薄膜15表面的脫離變得容易。
在上述功能中，在本發明中最重要的是(2)所示的具有自由端的功能。以下詳細說明。
(尾端部分的顯著的邊緣效應的發現)在一部分沉澱在基材12上的同時，也與覆蓋薄膜15接觸的分散漿料24在成為覆蓋薄膜15自由端的前端部從覆蓋薄膜15上分離，移動到基材12上，從而完成塗敷。如果在前端部的分散漿料的移動，即分散漿料的邊緣分離惡化，則分散漿料滯留在覆蓋薄膜的前端部，進而沉澱在塗敷輥11的沒有被覆蓋薄膜15覆蓋的露出表面上，從而產生被稱為「凝塊」的塊體，其結果是塗敷表面不光滑，而且不均勻的情況發生。如果這樣的情況進一步發展，就會發生分散漿料的阻塞，無法進行連續的塗敷。此外，容易在寬度方向上產生波紋狀的凹凸，從而發生寬度方向上的厚度不均勻等缺陷。
因此，覆蓋薄膜15應具有適度的剛性，並且前端應具有銳利度。其原因是覆蓋薄膜15的前端部承擔與間歇塗敷機和邊緣塗敷機中的銳利邊緣同樣的作用。特別對這些性能產生影響的是覆蓋薄膜的材質和其厚度。作為覆蓋薄膜15的優選材質，可以列舉聚酯、延伸PP、特氟隆(註冊商標)、LDPE、氯乙烯等有代表性的材質。
此外，覆蓋薄膜15可以由1片上述材質的薄膜構成，也可以層疊2片相同材質的薄膜而使用，或者層疊2片不同材質的薄膜來使用。例如，在使用PET薄膜的情況下，優選第一薄膜是厚度50μm以上的PET薄膜，第一薄膜是不足厚度50μm的PET薄膜。此外，在可以是30μm薄膜和100μm薄膜的組合、PET薄膜/特氟隆(註冊商標)薄膜的組合、PP薄膜/金屬箔的組合等。其中最優選的是聚酯薄膜，例如「ルミラ一」(商品名、東レ(株)製造)或者其表面加工品。
構成覆蓋薄膜的薄膜的厚度隨其剛性而不同，但如果過薄，則會由於剛性不足而容易彎曲變形。合適的厚度是30μm以上。相反，如果過厚，則與塗敷輥11的貼合性變差，所以在300μm以下即可。優選的厚度是40～200μm。該厚度也隨材質而不同，但也適用於象上述那樣層疊2片的薄膜的厚度。
覆蓋薄膜15的兩個表面都平滑即可，但為了降低與塗敷輥11的接觸面的摩擦阻力，可以使用進行了凹凸加工的覆蓋薄膜、或者用矽酮、特氟隆(註冊商標)等剝離劑進行了表面處理的覆蓋薄膜。此外，由於電氣吸附作用，分散漿料24容易附著在與分散漿料24接觸的覆蓋薄膜表面上，所以優選對覆蓋薄膜15的與分散漿料24的接觸面進行防靜電加工或者金屬蒸鍍。
(覆蓋薄膜自由端的位置及其控制)塗敷輥11最下端的位置與從該位置沿基材12的行進方向向下遊側延伸的覆蓋薄膜15的自由端之間的位置關係，受到塗敷輥11的汙染或分散漿料24的邊緣分離的影響，所以是很重要的因素。圖13A是在塗敷輥11的下方沒有圖案墊片、對基材12進行全表面塗敷的實施例，在該情況下，覆蓋薄膜15的位置被從塗敷輥11的軸心垂直下降的點即從塗敷輥11的最下端到沿基材12的行進方向向下遊側延伸的點的距離a以及覆蓋薄膜15的前端與塗敷輥11圓周面之間的鉛直方向的分離距離b限定。
在設置圖案形成用的圖案墊片31的情況下，如圖13B和圖13C所示，對從塗敷輥11圓周面的最下端到圖案墊片31的前端的距離c以及圖案墊片31的前端與覆蓋薄膜15的前端的距離d需要與上述距離a和距離b同時考慮。
圖13B示出覆蓋薄膜15的前端比圖案墊片31更向下遊方向延長的情況下，圖13C示出了圖案墊片31的前端比覆蓋薄膜15更向下遊方向延長的情況。
從塗敷輥11的最下端到覆蓋薄膜15的前端的距離a優選為至少1mm以上，較好為3～30mm，最好為5～25mm。在不足3mm的情況下，如果邊緣效應顯著，則可能分散漿料容易附著在覆蓋薄膜15的前端部和與之接近的塗敷輥11的圓周面上。相反，在超過30mm的情況下，分散漿料固化並固著在覆蓋薄膜15的表面上，可能使塗敷表面不光滑或不均勻。另一方面，覆蓋薄膜15前端與塗敷輥11圓周面之間的鉛直方向的分離距離b的值在理論上越大越好，但合適的數值為1～10mm左右。
距離c和d的值根據待塗敷的基材12或者所要求的塗敷圖案而適當地選擇，圖14A～14C示出了幾個具體實施例。在這些具體實施例中，作為固體顆粒，使用平均粒徑300μm的高吸水性樹脂(「ァクァパ一ルAP211(商品名)」、サンダィャポリマ一製造)，作為分散介質，使用EtOH/H2O＝65/35(份/份)，調製分散漿料使高吸水性樹脂20份、纖維素粉2份分散在該分散介質100份中，採用在50g/m2的PE/PET纖維熱結合非編織物上進行塗敷的條件。
以下，對使用本發明的分散漿料的塗敷裝置，為了將分散漿料塗敷在基材上的主要條件進行說明。
首先，分散漿料是例如使高吸水性樹脂(SAP)分散在分散介質中的物質。該SAP在水中高膨潤，但如果添加可與水混合的甲醇、乙醇、異丙醇、丙二醇等有機溶劑，則可以抑制膨潤，所以能進行分散漿料的調整。可以向該混合物添加CMC、乙基纖維素、PEO、MFC等作為粘度調整劑或凝集防止劑。該SAP中有纖維狀、團粒狀、粒子狀或薄片狀的形態，但粒子狀、粉狀或薄片狀的SAP適於作漿料。優選的是平均直徑在1000μm以下的，較好的是平均直徑在100μm以下的顆粒狀的SAP。
待塗敷該分散漿料的基材使用棉紙紙、通用的非編織物、布吊類，優選的是可在其組織中包含SAP粒子的膨鬆非編織物、褶皺加工裝置等膨鬆且多孔性的基材。
以下使用圖12A～12B所示的本發明的分散漿料的塗敷裝置，對將上述分散漿料塗敷在基材上的工序的一個例子進行具體說明。
在圖12A～12B中，分散漿料24沿塗敷輥11的軸向以均勻的流量而供給貯留部14，為了防止沉澱，優選一邊緩慢地地流動，一邊對基材12表面進行塗敷。在該實施例中，塗敷裝置採用圖14A所示的條件。
使用具有上述結構的塗敷裝置進行塗敷，以10mm間隔的線狀圖案，獲得塗敷基重為200g/m2的SAP塗敷基材。在塗敷處理過程中，在最初的數分鐘期間不會有問題，但隨後在塗敷輥的前端和與覆蓋薄膜接近的塗敷輥部分上，有分散漿料附著而形成凝塊的趨勢，但通過增大速度至30m/min，可以減小凝塊的大小，減少產生凝塊的區域。
同樣，在圖14B的條件下，在10m/min的速度下，也不會產生凝塊，從而能進行長時間穩定的塗敷。即使將速度升至30m/min，也沒有觀察到較大的變化。也幾乎沒有觀察到向塗敷輥表面的附著。
在圖14C的條件下，在10/min的速度和30m/min的速度下都沒有觀察到向塗敷輥表面的附著和凝塊的產生。但是，在10m/min下，隨著時間的推移，會觀察到在圖案墊片的最前端表面和覆蓋薄膜之間產生固化的分散漿料的附著物，從而覆蓋薄膜下表面逐漸被汙染的現象。當使速度為30m/min時，附著物的量減少。
在圖13A～13C和圖14～14C中，為了作圖的方便，使a、b、c、d的尺寸比實際的尺寸放大而繪出。因此，相對於塗敷輥的直徑，a、b、c、d的長度被畫得較長。
圖15A～15C示出了將塗敷輥11與覆蓋薄膜15的自由端之間的距離b保持為所要求的值的裝置的具體實施例。根據上述原因，該距離b優選保持為約1～10mm，因此，優選在塗敷輥11的出口部分設置用於限制兩者間的距離的分離裝置。圖15A是設置固定在塗敷輥11上的條板41的例子，通過適當改變該條板41的高度，可以根據要求自由地設定塗敷輥11與覆蓋薄膜15之間的距離，從而確保在該值。但是，該條板41隻能在塗敷輥11不旋轉的結構中採用。
圖15B示出了在塗敷輥11與覆蓋薄膜15之間設置與塗敷輥11的軸心平行並且使得圓周面彼此接近或接觸而配置的小徑例如直徑10mm左右的旋轉輥51的例子。在塗敷輥11靜止的情況下，可以使旋轉輥51靜止，或者使兩者非接觸，而僅使旋轉輥51旋轉。而在塗敷輥11旋轉的情況下，可以在使旋轉輥51與塗敷輥11接觸的狀態下，使它們同步旋轉。為了提高旋轉輥51表面的平滑性，優選用矽酮橡膠等覆蓋它。利用該旋轉輥51的存在，鉛直方向的分離距離b被確保。
此外，圖15C的例子適用於塗敷輥11時常旋轉的情況，它設有與塗敷輥11圓周面接近的刀刃狀刮板61。在該情況下，即使發生覆蓋薄膜15與塗敷輥11接觸這樣的移動，也會被刮板61剝離，所以覆蓋薄膜15不會與塗敷輥11接觸，從而鉛直方向的分離距離b被確保。
塗敷輥11以其軸心為中心，沿一個方向連續地旋轉而構成情況，把基材的行進速度與塗敷輥的線速度之間的相對速度差被設定在-10％～+10％範圍內的條件下的情況表現為等速。基材的行進速度與塗敷輥的旋轉速度的關係隨薄膜的厚度和速度、所要求的基重而不同，但在輥的旋轉速度為0，即靜止的情況下，由於薄膜上不被施加張力，薄膜鬆弛，所以必須研究對薄膜施加張力的固定的方法，裝置將變得複雜。優選通過使輥旋轉，薄膜與輥緊密接觸，末端部也穩定，所以優選使其旋轉。
但是，由於該旋轉的速率與行進速度不同，所以難以限定其範圍。通常以如下方式運轉，即，使輥的旋轉速度一定，對薄膜施加的張力也一定，適當改變基材的行進速度。表3、表4示出了該條件設定例子。
表3示出了使基材的行進速度為50m/min時與輥的旋轉速度的關係。如果超過5m/min(10％)左右，則變得穩定。如果將與基材的速度幾乎等速的90％以上、100％以下的區域作為等速區，則將10％以上、不足90％稱為減速區，將比110％高、300％以下的範圍稱為加速區。
由於輥是在薄膜上旋轉的，所以與輥的旋轉有關的因素是薄膜的緊密接觸程度和薄膜前端部的微小變化。如果超過75m/min(150％)，則可能張力變大，同時薄膜前端部上產生振動。如果該振動劇烈，明知會使塗覆紊亂，相反，還具有防止凝塊附著的效果。該振動效果可以通過在塗敷輥表面設置淺網格來加強。
在使基材行進速度在較大範圍內變化的情況下，如表4所示，將塗敷輥的旋轉速度固定在30m/min左右，在此條件下，通過使薄膜的材質、厚度等最優化，可以使基材與塗敷輥的旋轉速度無關地行進。
表3塗敷輥的條件設定例及其結果(1)

表4塗敷輥的條件設定例及其結果(2)

(覆蓋薄膜相對於塗敷輥的固定)覆蓋薄膜15相對於塗敷輥11的定位是這樣進行的，即如圖10、圖11A～11B和圖12A～12B所示，在上方端部，利用薄膜固定件17將覆蓋薄膜15的一端固定在塗敷輥11的上方位置，在兩端部，被固定在側面密封部13′上。
覆蓋薄膜15利用側面密封部13′的固定，除了自身的定位之外，還同時具有防止分散漿料洩漏的功能，所以優選根據塗敷輥11是否旋轉，或者覆蓋薄膜15的厚度等各種條件來選擇合適的固定裝置。
圖16A～16C示出了塗敷輥11的寬度與覆蓋薄膜15的寬度的關係，下面以輥寬460mm、側面密封寬度280mm的測試輥的情況為例進行說明。
圖16A示出了覆蓋薄膜15僅存在於側面密封部13′內側的情況，在側面密封部13′及其外側，塗敷輥11的圓周面處於露出的狀態。在該構成中，在使塗敷輥11靜止的狀態下進行塗敷時，覆蓋薄膜15的固定點僅存在於入口部，所以分散漿料進入覆蓋薄膜15與塗敷輥11之間，成為汙損和阻塞等較大故障的原因，因此需要使用粘著劑或接合劑等，使兩者間成為無間隙的狀態。
此外，在塗敷輥11旋轉的情況下，由於覆蓋薄膜15總是被施加張力，所以如果在最初裝填時，將少量的PEG等塗敷在覆蓋薄膜15上，防止進入空氣，則可以實現穩定的工作。
圖16A方式的優點是由於薄膜不被側輥固定，所以覆蓋薄膜15端部的自由度高。
另一方面，在圖16B的情況下，覆蓋薄膜15在其寬度方向上越過側面密封部13′，除了塗敷輥11的邊緣之外，幾乎覆蓋其整個表面。由於覆蓋薄膜15被側面密封部13′固定，所以不必擔心分散漿料進入塗敷輥11與覆蓋薄膜15之間，無論塗敷輥11靜止還是旋轉，都能適應。但是，由於覆蓋薄膜15的前端部的移動自由度低，所以隨著覆蓋薄膜15變厚，局部的凹凸容易導致塗敷的不均勻，因而需要加以注意。
此外，在圖16C的情況下，覆蓋薄膜15的兩個邊緣越過側面密封部13′，並且進而越過塗敷輥11的兩端，而覆蓋塗敷輥11的整個表面。無論塗敷輥11靜止還是旋轉，該情況也都能適應，並且分散漿料不會附著在塗敷輥11上。但是，由於覆蓋薄膜15的約束大，所以自由度變小。在希望更大的自由度的情況下，如圖16C所示，通過在覆蓋薄膜15上設置從其前端到側面密封部13′部分的切口71，可以解決該問題。
(雙層覆蓋薄膜)在前面已經說明，覆蓋薄膜可以是單層，也可以使用2片薄膜作為雙層。該雙層覆蓋薄膜不單純包括在整個表面上貼附的情況，還包括在長度方向上將較長薄膜和較短薄膜進行組合的情況，以及在寬度方向上將較寬薄膜和較窄薄膜進行組合的情況等變形。
圖17A～17B示出了在垂直於塗敷輥的軸心的方向上(長度方向)將第一薄膜15a和第二薄膜15b進行組合的例子。首先，圖17A示出了將較厚的加強用的第一薄膜15a相對於塗敷輥11而配置在外側，即與分散漿料接觸的一側，而將較薄的第二薄膜15b配置在塗敷輥11一側的例子，圖17B示出了將較短的加強用的第二薄膜15b相對於塗敷輥11而配置在外側，即與分散漿料接觸的一側，而將比第二薄膜15b長的第一薄膜15a配置在其內側的例子。
圖18A～18B示出了覆蓋塗敷輥11的軸向的整個區域而獲得的、將寬度方向上寬的第一薄膜15a和僅存在於側面密封部13′內側的寬度窄第二薄膜15b組合在一起的例子。在圖18A的例子中，寬度窄的第二薄膜15b具有從應設置覆蓋薄膜的區域的一端到另一端的長度，在與第一薄膜15a重合的部分與其接合在一起。在與第一薄膜15a重合的部分，第二薄膜15b為單層，相對於塗敷輥11保持較大的自由度。此外，在圖18B的例子中，寬度窄的第二薄膜15b僅其前端部分與第一薄膜15a在重合部分接合，從而形成自由度大的前端部。
在本發明中，對塗敷輥的直徑沒有特別限制，但一般在100～500mm的範圍內，在該情況下，第二薄膜的前端優選從塗敷輥圓周面的最下端位置開始沿基材行進方向向下遊側延伸的長度為1～50mm。
產業上利用的可能性如上所述的本發明的裝置，在對較大範圍基重的非編織物基材行進塗敷時，不會發生分散漿料的阻塞，能在較大速度範圍內在寬度方向、長度方向上以均勻的厚度進行分散漿料的塗敷。在使用覆蓋薄膜的情況下，在不使塗敷裝置本身複雜化以及設備成本大幅上升的情況下，不僅能解決輥式塗敷機的分散漿料附著在塗敷輥表面上的問題，而且對條形塗敷機和刀刃狀塗敷機等基材與塗敷機直接接觸的塗敷機也是通用的。因此，本發明的裝置適用於非編織物基材的塗敷。
權利要求
1.一種塗敷裝置，將使固相成分分散在分散介質中的分散漿料塗敷在非編織物基材上，其特徵在於，具有行進裝置，使上述非編織物基材在水平方向上連續行進；上部開放的水頭槽，位於行進中的上述非編織物基材的上方，在上述非編織物基材的上表面形成貯留上述分散漿料的槽；液體密封板，位於上述水頭槽的下方，使得上述分散漿料不從上述非編織物基材的下表面洩漏而進行密封；以及塗敷輥，做相對於上述非編織物基材的行進方向的順方向旋轉，上述塗敷輥被構成為，調整對上述非編織物基材以及塗敷在其表面上的分散漿料的擠壓力，同時使上述分散漿料的塗敷表面平滑。
2.根據權利要求1所述的分散漿料的塗敷裝置，其特徵在於，還具有覆蓋薄膜，在從上述塗敷輥圓周面的最上端附近的位置到最下端附近的位置的範圍內，覆蓋上述塗敷輥圓周面而設置，並且上述分散漿料被供給在上述覆蓋薄膜的前端部與上述非編織物基材表面之間。
3.根據權利要求1或2所述的分散漿料的塗敷裝置，其特徵在於，具有支持輥，配置在與上述塗敷輥相向的位置上，在上下方向上與上述塗敷輥一起將上述非編織物基材夾在中間，並且做相對於上述非編織物基材的行進方向的順方向旋轉。
4.根據權利要求2或3所述的塗敷裝置，其特徵在於，上述覆蓋薄膜的前端部不固定。
5.根據權利要求2至4任意一項所述的塗敷裝置，其特徵在於，除了上述覆蓋薄膜的前端部之外，上述覆蓋薄膜的其餘部分在上述塗敷輥的軸向的兩端部被側面密封部固定，使得被保持在沿上述塗敷輥圓周面的規定位置上。
6.根據權利要求5所述的塗敷裝置，其特徵在於，上述覆蓋薄膜由將物理性質彼此不同的2片薄膜重疊的疊層薄膜構成。
7.根據權利要求6所述的塗敷裝置，其特徵在於，在上述2片薄膜中，第一薄膜延伸到越過上述側面密封部的位置，並且被上述側面密封部固定，第二薄膜具有僅覆蓋上述側面密封部內側的寬度。
8.根據權利要求7所述的塗敷裝置，其特徵在於，上述第一薄膜配置在與上述塗敷輥相向的位置上，並且上述第二薄膜配置在其外側的位置上。
9.根據權利要求7所述的塗敷裝置，其特徵在於，上述第二薄膜配置在與上述塗敷輥相向的位置上，並且上述第一薄膜配置在其外側的位置上。
10.根據權利要求8或9所述的塗敷裝置，其特徵在於，在上述非編織物基材的行進方向上，上述第一薄膜比第二薄膜短。
11.根據權利要求8至10任意一項所述的塗敷裝置，其特徵在於，上述第一和第二薄膜在其至少一部分上相互接合。
12.根據權利要求8至11任意一項所述的塗敷裝置，其特徵在於，上述第一薄膜為厚度50μm以上的PET薄膜，上述第二薄膜由厚度50μm以下的PET薄膜構成。
13.根據權利要求2至12任意一項所述的塗敷裝置，其特徵在於，在上述非編織物基材的行進方向上，上述覆蓋薄膜的前端部從上述塗敷輥圓周面的最下端起向下遊側僅延伸所要求的長度。
14.根據權利要求13所述的塗敷裝置，其特徵在於，上述塗敷輥的直徑在100～500mm的範圍內，並且在上述基材的行進方向上，上述覆蓋薄膜的前端部從上述最下端位置起向下遊側僅延伸1～50mm。
15.根據權利要求14所述的塗敷裝置，其特徵在於，還具有分離器，用於防止上述覆蓋薄膜的前端部與上述塗敷輥圓周面接觸。
16.根據權利要求1至15任意一項所述的塗敷裝置，其特徵在於，還設有用於在上述非編織物基材的表面上形成塗敷圖案的圖案墊片，由此，在上述基材的行進方向上，限制從上述覆蓋薄膜的前端起向著下遊側供給上述基材表面的上述分散漿料，使之不供給上述基材的表面。
17.根據權利要求1至16任意一項所述的塗敷裝置，其特徵在於，上述塗敷輥被構成為，在其表面上具有凹凸，由此，在上述塗敷輥表面與上述覆蓋薄膜之間局部地存在非接觸部分。
18.根據權利要求1至17任意一項所述的塗敷裝置，其特徵在於，上述固相成分包括粒子狀、粉末狀或薄片狀的SAP，上述分散介質是有機溶劑與水的混合溶劑。
19.根據權利要求1至18任意一項所述的塗敷裝置，其特徵在於，上述固相成分是具有1000μm以下粒徑的SAP，上述分散介質是對SAP具有膨潤抑制作用的有機溶劑與水的混合溶劑，並且上述非編織物基材是多孔性非編織物。
全文摘要
本發明的塗敷裝置是一邊使待塗敷的分散漿料與非編織物基材接觸一邊對非編織物基材進行塗敷的裝置，它具有運送非編織物基材的網狀運送機、向該網狀運送機上供給分散漿料的供給裝置以及從上方擠壓被供給到非編織物基材上的分散漿料從而形成所要求的厚度的塗敷層的塗敷輥。該塗敷輥在其圓周面上，可以與非編織物基材上的分散漿料直接接觸，也可以在兩者間設置薄膜。
文檔編號B05C11/02GK1543377SQ0281620
公開日2004年11月3日 申請日期2002年8月26日 優先權日2001年8月27日
發明者鈴木磨, 森真吾 申請人:株式會社日本吸收體技術研究所