一種化學液回收裝置的製作方法

2023-08-11 17:41:26 1

專利名稱：一種化學液回收裝置的製作方法
技術領域：
本發明屬於半導體行業晶片溼法處理領域，具體地說是一種帶有可升降CUP的化學液回收裝置。
背景技術：
目前，對於半導體行業中晶片溼法處理工藝經常需要使用化學液，而如何實現化學液的無汙染無稀釋回收再利用就是一個不可避免的問題。在現有技術中，化學液的回收比較困難，並且回收的化學液會被汙染和稀釋。因此，如何避免化學液在回收過程中被汙染和稀釋現象的產生，已成為亟待解決的問題。

發明內容
為了解決化學液因回收過程中被汙染和稀釋而無法再利用的問題，本發明的目的在於提供一種帶有可升降CUP的化學液回收裝置。該回收裝置用於化學液工藝處理後的回收再利用，以達到節約成本的目的，通過該裝置可實現化學液的無汙染無稀釋回收。本發明的目的是通過以下技術方案來實現的:本發明包括固定及旋轉晶片的承片臺、CUP、接液槽、氣缸、電機及臺面板，其中接液槽安裝在臺面板上，在接液槽內設有由電機驅動的承片臺；所述接液槽與承片臺之間設有由氣缸驅動升降的CUP，接液槽內通過所述CUP分成回收化學液的外槽及回收清洗液的內槽，每個槽各設有一個排出口。其中:所述CUP移動的上限位位於晶片及承片臺的上方，下限位位於晶片及承片臺的下方；所述電機為中空軸電機，安裝在臺面板的下方，電機中空的輸出軸穿過臺面板與所述承片臺相連，在電機中空的輸出軸端設有壓縮空氣入口，所述承片臺套在輸出軸外的部位開有與所述中空的輸出軸連通的壓縮空氣出口 ；所述CUP為錐臺形、內部中空，在CUP的上表面開有供所述承片臺穿過的第一通孔；所述CUP上開有凹槽，接液槽內設有第二凸起，該第二凸起容置在所述凹槽內；所述氣缸安裝在臺面板的下表面，活塞杆依次穿過臺面板、第二凸起與CUP相連；所述接液槽內由裡向外依次設有內部中空的第一凸起、第二凸起，承片臺及電機的輸出軸由第一凸起穿過；所述第一凸起及第二凸起將接液槽內部分隔成外槽及內槽，第一、二凸起之間為內槽，第二凸起與接液槽外壁之間為外槽，內槽的底部開有回收清洗液的排液口，外槽的底部開有回收化學液的排酸口 ；所述內槽內，在第一凸起頂端與承片臺之間設有擋板；所述接液槽的頂部安裝有防護罩；所述防護罩為錐臺形，其上表面開有第二通孔。本發明的優點與積極效果為:1.本發明通過升降CUP的方式來控制化學液和清洗液的分離，通過不同通道回收，實現了在溼法處理時化學液回收要求，很大程度上減少了化學液的汙染和被稀釋問題。2.本發明的CUP在上限位時位於晶片I的上方，清洗液全部被甩到CUP內壁，不會被甩到CUP外部，因此不會化學液的汙染和被稀釋；CUP會在下限位時，化學液沿CUP外壁留到外腔，全部被回收再利用，不會造成浪費。3.本發明在電機和承片臺上分別開設壓縮空氣入口及壓縮空氣出口，並在第一凸起與承片臺下方加設擋板，承片臺的下面有壓縮空氣吹出，保證了在工藝處理過程中產生的酸霧不會腐蝕電機。4.本發明結構簡單、反應迅速、安裝方便、價格低廉等特點。5.本發明實現了化學液的回收與排放的自動轉換。


圖1為本發明的內部結構示意圖之一(CUP處於移動下限位)；圖2為本發明的內部結構示意圖之二(CUP處於移動上限位)；其中I為晶片，2為承片臺，3為CUP(防濺杯)，4為活塞杆，5為接液槽，6為排酸口，7為氣缸，8為電機，9為壓縮空氣入口，10為排液口，11為壓縮空氣出口，12化學液，13為清洗液，14為臺面板,15為防護罩，16為外槽,17為內槽,18為第一凸起，19為第二凸起，20為擋板。
具體實施例方式下面結合附圖對本發明作進一步詳述。如圖1、圖2所示，本發明包括晶片1、承片臺2、CUP3、接液槽5、氣缸7、電機8及臺面板14，其中接液槽5固定在臺面板14的上表面，接液槽5的底面沿軸向向上延伸、由裡向外形成中空的第一凸起18及第二凸起19，第一凸起18位於接液槽5的中央、中心軸線與接液槽5的中心軸線共線,第二凸起19位於第一凸起18的外圍，與第一凸起18同心設置，第一凸起18與第二凸起19之間形成內槽17，第二凸起19與接液槽5的外壁之間形成外槽16，外槽16與內槽17相互獨立；接液槽5、第一凸起18及第二凸起19均可為圓形。在內槽17對應的接液槽5的底面開有回收清洗液13的排液口 10，該排液口 10 —直向下延伸(即臺面板14上也開有排液口 10)、通過連接管接至清洗液回收設備；在外槽16對應的接液槽5的底面開有回收化學液12的排酸口 6，該排酸口 6—直向下延伸(即臺面板14上也開有排酸口 6)、通過連接管接至化學液回收設備。接液槽5內設有由氣缸7驅動升降的CUP3，該CUP3為錐臺形、內部中空，罩在第一凸起18及第二凸起19上，在CUP3的上表面開有第一通孔。CUP3的底部開有與第二凸起19相對應的凹槽，第二凸起19容置在所述凹槽內，在CUP3升降的過程中可以起到導向作用。氣缸7至少有兩個、以接液槽5的中心軸線為對稱分別安裝在臺面板14的下表面，氣缸7的活塞杆4依次穿過臺面板14、第二凸起19與CUP3相連。氣缸7工作，通過活塞杆4帶動CUP3升降。在接液槽5內的中間設有承片臺2,晶片I固定在承片臺2上、隨承片臺2旋轉。電機8安裝在臺面板14的下表面，為中空軸電機；接液槽5的第一凸起18為中空結構，在第一凸起18下方的臺面板14上開有與第一凸起18內中空腔體對應的第三通孔，電機8中空的輸出軸穿過臺面板14上的第三通孔與承片臺2連接，驅動承片臺2旋轉。在電機8中空的輸出軸下端設有壓縮空氣入口 9，承片臺2的下部套在輸出軸外，在第一凸起18中空腔體內的承片臺2上開有與電子8中空的輸出軸連通的壓縮空氣出口 11，並在第一凸起18頂端與承片臺2之間設有擋板20，防止內槽17中的清洗液進入第一凸起18內；壓縮空氣由壓縮空氣入口 9吹進，然後有承片臺2下部的壓縮空氣出口 11吹出，可保證工作過程中產生的酸霧不會腐蝕到電機8。當氣缸7驅動CUP3升降時，CUP3移動的上限位位於晶片I及承片臺2的上方，以保證清洗液13由CUP3上表面上的第一通孔進入、噴射到晶片I上，隨著承片臺2的旋轉全部被甩到CUP3內部，不會被甩到CUP3外部而汙染稀釋化學液2 ;而CUP3移動的下限位位於晶片I及承片臺2的下方，以保證化學液12噴射到晶片I上，隨著承片臺2的旋轉全部被甩到CUP3外部，進而將化學液12回收再利用；在升降過程中，晶片I及承載臺2由CUP3上表面開設的第一通孔穿過。為了防止化學液12或清洗液13外濺，在接液槽5的頂部安裝有防護罩15，該防護罩15為錐臺形，其上表面開有第二通孔，供化學液12或清洗液13噴入。本發明的工作原理為:如圖1所示，在進行工藝處理時，化學液12由防護罩15上的第二通孔噴射到晶片I上，此時CUP3位於下限位，CUP3的上表面位於晶片I的下方；晶片I隨承片臺2在電機8的驅動下旋轉，在旋轉過程中，化學液12被甩出流到CUP3的外壁上，並沿CUP3的外壁流入到接液槽5的外槽16中，再由排酸口 6流出回到化學液桶中重新使用。當工藝處理結束時，需要清洗掉晶片I上殘留的化學液，如圖2所示，CUP3在氣缸7的推動下向上升起，直至上限位，CUP3的上表面位於晶片I之上，清洗液13依次通過防護罩15上的第二通孔、CUP3上表面的第一通孔噴射到晶片I上；在晶片I隨承片臺2旋轉的過程中，清洗液13被甩出流到CUP3內壁上並沿內壁流入到接液槽5的內槽中，再由排液口10流出排廢。這樣就實現了化學液無汙染無稀釋回收的工藝要求。本發明全部採用PTFE (聚四氟乙烯)材質製作，可以在使用強酸強鹼等場合使用，故使用範圍非常廣泛。本發明的化學液12可為硫酸、鹽酸、氫氟酸等各種酸鹼溶劑；清洗液13可為去離子水。
權利要求
1.一種化學液回收裝置，其特徵在於:包括固定及旋轉晶片(I)的承片臺(2)、CUP(3)、接液槽(5)、氣缸(7)、電機⑶及臺面板(14)，其中接液槽(5)安裝在臺面板(14)上，在接液槽(5)內設有由電機⑶驅動的承片臺(2);所述接液槽(5)與承片臺(2)之間設有由氣缸(7)驅動升降的CUP(3)，接液槽(5)內通過所述CUP(3)分成回收化學液(12)的外槽(16)及回收清洗液(13)的內槽(17)，每個槽各設有一個排出口。
2.按權利要求1所述的化學液回收裝置，其特徵在於:所述CUP(3)移動的上限位位於晶片(I)及承片臺(2)的上方，下限位位於晶片(I)及承片臺(2)的下方。
3.按權利要求1所述的化學液回收裝置，其特徵在於:所述電機(8)為中空軸電機，安裝在臺面板(14)的下方，電機(8)中空的輸出軸穿過臺面板(14)與所述承片臺(2)相連，在電機(8)中空的輸出軸端設有壓縮空氣入口(9)，所述承片臺(2)套在輸出軸外的部位開有與所述中空的輸出軸連通的壓縮空氣出口(11)。
4.按權利要求1或2所述的化學液回收裝置，其特徵在於:所述CUP(3)為錐臺形、內部中空，在CUP(3)的上表面開有供所述承片臺(2)穿過的第一通孔。
5.按權利要求4所述的化學液回收裝置，其特徵在於:所述CUP(3)上開有凹槽，接液槽(5)內設有第二凸起(19)，該第二凸起(19)容置在所述凹槽內；所述氣缸(7)安裝在臺面板(14)的下表面，活塞杆(4)依次穿過臺面板(14)、第二凸起(19)與CUP (3)相連。
6.按權利要求1所述的化學液回收裝置，其特徵在於:所述接液槽(5)內由裡向外依次設有內部中空的第一凸起(18)、第二凸起(19)，承片臺⑵及電機⑶的輸出軸由第一凸起(18)穿過；所述第一凸起(18)及第二凸起(19)將接液槽(5)內部分隔成外槽(16)及內槽(17)，第一、二凸起(18、19)之間為內槽(17)，第二凸起(19)與接液槽(5)外壁之間為外槽(16)，內槽(17)的底部開有回收清洗液(13)的排液口 (10)，外槽(16)的底部開有回收化學液(12)的排酸口(6)。
7.按權利要求6所述的化學液回收裝置，其特徵在於:所述內槽(17)內，在第一凸起(18)頂端與承片臺(2)之間設有擋板(20)。
8.按權利要求1或6所述的化學液回收裝置，其特徵在於:所述接液槽(5)的頂部安裝有防護罩(15)。
9.按權利要求8所述的化學液回收裝置，其特徵在於:所述防護罩(15)為錐臺形，其上表面開有第二通孔。
全文摘要
本發明屬於半導體行業晶片溼法處理領域，具體地說是一種帶有可升降CUP的化學液回收裝置，包括固定及旋轉晶片的承片臺、CUP、接液槽、氣缸、電機及臺面板，其中接液槽安裝在臺面板上，在接液槽內設有由電機驅動的承片臺；所述接液槽與承片臺之間設有由氣缸驅動升降的CUP，接液槽內通過所述CUP分成回收化學液的外槽及回收清洗液的內槽，每個槽各設有一個排出口。本發明通過升降CUP的方式來控制化學液和清洗液的分離，通過不同通道回收，實現了在溼法處理時化學液回收要求，很大程度上減少了化學液的汙染和被稀釋問題。
文檔編號H01L21/67GK103094151SQ201110332579
公開日2013年5月8日 申請日期2011年10月27日 優先權日2011年10月27日
發明者谷德君, 盧繼奎 申請人:瀋陽芯源微電子設備有限公司