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一種電開關裝置的製作方法

2023-08-11 16:34:21

專利名稱:一種電開關裝置的製作方法
技術領域:
本發明涉及一種電開關裝置,屬於低壓電器領域。
背景技術:
現有的電開關裝置,參見圖1、圖2,包括基座1和觸頭滅弧系統2,觸頭滅弧系統2 安裝在基座1內,該觸頭滅弧系統包括數個由極間間隔11隔設的對應每個極的動觸頭單元 21和數量與動觸頭單元21相對應的靜觸頭22 ;動觸頭單元21包括觸頭支架211,觸頭支架211呈圓柱狀;基座1上對應於每個極成對地設置有導向件12,每對導向件12之間形成有腔體121,觸頭支架211轉動地置於腔體121中。上述結構的電開關裝置中,通過極間間隔11隔設,用於容納動觸頭單元21、靜觸頭22、滅弧柵片23的腔體稱為觸頭室。觸頭室是開關裝置的核心,觸頭室的優劣決定了電開關裝置的各項電性能指標。上述結構的電開關裝置中,觸頭室內增設了導向件12構成腔體121,通過腔體121的圓弧形側壁包圍觸頭支架211的方式支撐動觸頭單元21並引導動觸頭單元21的運動。在實際使用中,動觸頭和靜觸頭會經常接通和分斷電流,在此過程中會有電弧產生,電弧則會燒灼動、靜觸頭及滅弧柵片等金屬體,使動、靜觸頭、滅弧柵片釋放出金屬粒子,這些金屬粒子冷卻後會在觸頭室6內隨意滾動,較小的金屬粒子可能進入腔體121內, 卡入觸頭支架211和腔體121的圓弧面之間,造成觸頭支架211和腔體121的摩擦阻力增大,損壞觸頭支架211和腔體121的表面,進而造成電開關裝置的合、分間速度逐漸變慢,最終影響到電開關裝置的電性能。

發明內容
本發明提供一種電開關裝置,能夠有效的收集進入觸頭支架和腔體表面之間的金屬粒子,防止金屬粒子影響觸頭支架和腔體間的相對轉動。一種電開關裝置,包括基座和觸頭滅弧系統,觸頭滅弧系統安裝在基座內,該觸頭滅弧系統包括數個由極間間隔隔設的對應每個極的動觸頭單元和數量與動觸頭單元相對應的靜觸頭;動觸頭單元包括觸頭支架;基座上對應於每個極成對地設置有導向件,每對導向件和基座共同構成腔體,觸頭支架轉動地置於腔體中,在觸頭支架與導向件之間及在觸頭支架與腔體所在的基座之間形成轉動間隙,其特徵在於在所述的轉動間隙內設置有容納腔。所述的容納腔為開設在每個導向件表面的至少一個第一凹槽和/或開設在觸頭支架的對應導向件的每個側壁的至少一個第二凹槽和/或開設在觸頭支架下表面和/或開設在腔體所在基座表面的至少一個第三凹槽。所述第一凹槽呈長條狀並以觸頭支架的軸向方向延伸。所述的第二凹槽為離散的點狀或呈長條狀並以觸頭支架的軸向方向延伸。所述第二凹槽呈長條狀並以觸頭支架的徑向方向延伸。
所述第三凹槽為離散的點狀或呈長條狀。所述的觸頭支架為圓柱形。本發明通過在導向件與觸頭支架之間及在觸頭支架與腔體所在的基座之間的轉動間隙內設置容納腔,容納腔採用在每對導向件中的每個導向件的表面分別開設有至少一個第一凹槽和/或觸頭支架的對應導向件的每個側壁上分別開設有至少一個第二凹槽和/ 或開設在觸頭支架下表面和/或開設在腔體所在基座表面的至少一個第三凹槽,使動觸杆和靜觸頭的接通與分斷過程中產生的金屬粒子,進入觸頭支架和腔體之間後,隨著觸頭支架的轉動,金屬粒子逐漸匯聚到第一凹槽和/或第二凹槽和/或第三凹槽形成的容納腔中, 保證了觸頭支架和腔體的側壁的相對轉動的表面間不會長時間有金屬粒子的存在而影響兩者的相對轉動。這樣也就保證了電開關裝置的性能。


圖1是現有技術的電開關裝置的結構圖。
圖2圖1的開關裝置的俯視圖。
圖3是本發明實施例一的電開關裝置的結構圖。
圖4是圖3電開關裝置的俯視圖。
圖5是本發明的實施例二的電開關裝置的觸頭支架的結構圖。
圖6是本發明的實施例二的電開關裝置的俯視圖。
圖7是本發明的實施例三的電開關裝置的觸頭支架的結構圖。
圖8是本發明的實施例四的電開關裝置的觸頭支架的結構圖。
圖9是本發明的實施例五的電開關裝置的結構圖。
圖10是本發明的實施例六的電開關裝置的結構圖。
具體實施例方式
如圖3至10,本發明的一種電開關裝置,包括基座1和觸頭滅弧系統2,觸頭滅弧系統2安裝在基座1內,該觸頭滅弧系統包括數個由極間間隔11隔設的對應每個極的動觸頭單元21和數量與動觸頭單元21相對應的靜觸頭22 ;動觸頭單元21包括觸頭支架211 和穿設在觸頭支架211上的動觸杆212,觸頭支架211呈圓柱狀;基座1上對應於每個極成對地設置有導向件12,每對導向件12之間形成有腔體121,觸頭支架211轉動地置於腔體 121中,在觸頭支架211與導向件12之間及在觸頭支架211與腔體121所在的基座1之間形成轉動間隙,在轉動間隙內設置有容納腔。容納腔可以是置於導向件表面的空腔,即每對導向件12中的每個導向件的表面分別開設有至少一個第一凹槽122 ;也可以是置於觸頭支架211表面的空腔,即觸頭支架211的對應導向件12的每個側壁上分別開設有至少一個第二凹槽213 ;也可以是開設在觸頭支架211下表面的和/或開設在腔體121所在基座1的表面的空腔,即至少一個第三凹槽100 ;亦或是在上述任意兩個表面都開設空腔,既在導向件12上開設第一凹槽122,又在觸頭支架211上開設第二凹槽213 ;或,既在導向件12上開設第一凹槽122,又在觸頭支架211下表面開設第三凹槽100 ;或,既在導向件12上開設第一凹槽122,又在腔體121所在基座1的表面即基座的支承觸頭支架的上表面開設第三凹槽 100 ;或,任意三個表面都開設空腔;或,四個表面都開設空腔。
如圖3,4,本發明的一個實施例中,第一凹槽122呈長條狀並以觸頭支架211的軸向方向延伸,且以動觸頭單元21的轉動中心對稱地分設在一對導向件12的每個導向件12 的內表面。如圖5,6,本發明的另一個實施例中,第二凹槽213呈長條狀並以觸頭支架211的軸向方向延伸,且以動觸頭單元21的轉動中心對稱地分設在觸頭支架211的對應導向件12 的每個側壁上。如圖7,本發明的再一個實施例中,第二凹槽213呈長條狀並以觸頭支架211的徑向方向延伸。如圖8,本發明的進而一個實施例中,第二凹槽213為一系列圓形離散點狀凹槽, 列陣排列在觸頭支架211的對應導向件12的每個側壁上。如圖9,本發明的進而另一個實施例中,電開關裝置開設了第一凹槽122,第三凹槽100開設在腔體121所在基座1的表面即基座1的支承觸頭支架211的上表面。如圖10,本發明的進而再一個實施例中,電開關裝置僅在腔體121所在基座1的表面即基座1的支承觸頭支架211的上表面開設了第三凹槽100。當然,本發明也可將第三凹槽100開設在觸頭支架211的下表面,這裡就不再贅述。在動觸杆212和靜觸頭22的接通與分斷電流過程中產生的金屬粒子,進入觸頭支架211和腔體121之間後,隨著觸頭支架211的轉動,金屬粒子會逐漸匯聚到第一凹槽122 和/或第二凹槽213和/或第三凹槽100中,保證了觸頭支架211和腔體121的側壁和底壁的相對轉動的表面間不會長時間有金屬粒子的存在而影響兩者的相對轉動。這樣也就保證了電開關裝置的性能。
權利要求
1.一種電開關裝置,包括基座(1)和觸頭滅弧系統(2),觸頭滅弧系統(2)安裝在基座(1)內,該觸頭滅弧系統(2)包括數個由極間間隔(11)隔設的對應每個極的動觸頭單元 (21)和數量與動觸頭單元(21)相對應的靜觸頭(22);動觸頭單元(21)包括觸頭支架(211); 基座(1)上對應於每個極成對地設置有導向件(12),每對導向件(12)和基座(1)共同構成腔體(121),觸頭支架(211)轉動地置於腔體(121)中,在觸頭支架(211)與導向件(12 )之間及在觸頭支架(211)與腔體(121)所在的基座(1)之間形成轉動間隙,其特徵在於在所述的轉動間隙內設置有容納腔。
2.如權利要求1所述的電開關裝置,其特徵在於所述的容納腔為開設在每個導向件 (12)表面的至少一個第一凹槽(122)和/或開設在觸頭支架(211)的對應導向件(12)的每個側壁的至少一個第二凹槽(213)和/或開設在觸頭支架(211)下表面和/或開設在腔體(121)所在基座(1)表面(10)的至少一個第三凹槽(100)。
3.如權利要求2所述的電開關裝置,其特徵在於所述第一凹槽(122)呈長條狀並以觸頭支架(211)的軸向方向延伸。
4.如權利要求2所述的電開關裝置,其特徵在於所述的第二凹槽(213)為離散的點狀或呈長條狀並以觸頭支架(211)的軸向方向延伸。
5.如權利要求2所述的電開關裝置,其特徵在於所述第二凹槽(213)呈長條狀並以觸頭支架(211)的徑向方向延伸。
6.如權利要求2所述的電開關裝置,其特徵在於所述第三凹槽(100)為離散的點狀或呈長條狀。
7.如權利要求3、4、5或6所述的電開關裝置,其特徵在於所述的觸頭支架(211)為圓柱形。
全文摘要
本發明公開了一種電開關裝置,包括基座和觸頭滅弧系統,觸頭滅弧系統安裝在基座內,該觸頭滅弧系統包括數個由極間間隔隔設的對應每個極的動觸頭單元和數量與動觸頭單元相對應的靜觸頭;動觸頭單元包括觸頭支架;基座上對應於每個極成對地設置有導向件,每對導向件和基座共同構成腔體,觸頭支架轉動地置於腔體中,在觸頭支架與導向件之間及在觸頭支架與腔體所在的基座之間形成轉動間隙,在所述的轉動間隙內設置有容納腔。本發明在轉動間隙內設置容納腔,隨著觸頭支架的轉動,金屬粒子逐漸匯聚到容納腔中,保證了觸頭支架和腔體的側壁和底壁的相對轉動的表面間不會長時間有金屬粒子的存在而影響兩者的相對轉動。這樣也就保證了電開關裝置的性能。
文檔編號H01H9/02GK102306568SQ20111018971
公開日2012年1月4日 申請日期2011年7月7日 優先權日2011年7月7日
發明者丁曉輝, 徐星, 沈惠新, 王瑋, 褚文, 顧怡文 申請人:常熟開關製造有限公司(原常熟開關廠)

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