具有可再活化的粘合劑的清潔表面的製作方法
2023-07-23 00:17:41 2
具有可再活化的粘合劑的清潔表面的製作方法
【專利摘要】本發明所公開的清潔表面包括可再活化的粘合劑以捕獲和保持汙垢、粉塵和碎屑，並且包括間隔元件以允許所述清潔表面在待清潔的表面之上滑移。所述可再活化的粘合劑可被洗滌乾淨，但一旦乾燥，重新獲得捕獲和保持汙垢、粉塵和碎屑的能力，使得可再使用所述清潔表面。所公開的清潔表面組合了使用粘合劑以大大提高捕獲汙垢、粉塵和碎屑的能力，且同時可再使用。所述可再活化的粘合劑為可再活化的壓敏粘合劑，所述可再活化的壓敏粘合劑為聚合前體，所述聚合前體包含單體組分、至少2.0phr的疏水性二氧化矽、一種或多種聚合引發劑、一種或多種交聯劑化合物，並且所述聚合前體基本上不含極性共聚單體，所述單體組分包含一種或多種丙烯酸烷基酯，所述一種或多種丙烯酸烷基酯的烷基具有平均4-14個C原子。
【專利說明】具有可再活化的粘合劑的清潔表面
【背景技術】
[0001]本發明涉及一種具有可再活化的粘合劑的清潔表面。特別地，本發明涉及一種具有可再活化的粘合劑和間隔元件的清潔表面。
[0002]布料、擦拭物、拖把用於擦拭和清潔覆蓋有汙垢、粉塵和碎屑的表面。通常，大多數布料、擦拭物和拖把不能有效捕獲和保留大大小小的汙垢和碎屑粒子。已開發如美國專利7，691，760中所示的清潔片，其在清潔片的工作表面上包括粘合劑，以協助保留汙垢和碎屑粒子。地板清潔系統的另一設計，如美國專利7，757，334中所示，包括協助保留汙垢和碎屑粒子的粘合劑片材的疊堆，並具有上覆的框架以允許間隔粘合劑片材與進行清潔的表面。然而，對於兩種設計，一旦粘合劑負載，則片材不再能夠保留粒子並被廢棄。
【發明內容】
[0003]本發明所公開的清潔表面包括可再活化的粘合劑以捕獲和保持汙垢、粉塵和碎屑，並且包括間隔元件以允許清潔表面在待清潔的表面之上滑移。可再活化的粘合劑可被洗滌乾淨，但一旦乾燥，重新獲得捕獲和保持汙垢、粉塵和碎屑的能力，從而可再使用清潔表面。所公開的清潔表面組合了使用粘合劑以大大提高汙垢、粉塵和碎屑的捕獲的能力，且同時可再使用。
[0004]在一個實施例中，清潔表面包括凸起部分和凹入部分，凸起部分包括隔離物，凹入部分包括可再活化的壓敏粘合劑。可再活化的壓敏粘合劑為聚合前體，聚合前體包含單體組分、至少約2.0phr的疏水性二氧化矽、一種或多種聚合引發劑、一種或多種交聯劑化合物，並且聚合前體基本上不含極性共聚單體，單體組分包含一種或多種丙烯酸烷基酯，一種或多種丙烯酸烷基酯的烷基具有平均4-14個C原子。
[0005]在一個實施例中，隔離物包括上覆可再活化的壓敏粘合劑的開孔清潔片。在一個實施例中，清潔表面包括清潔擦拭物，清潔擦拭物包括凸起部分和凹入部分，凹入部分包括可再活化的壓敏粘合劑。在一個實施例中，清潔表面為清潔工具的一部分，清潔工具的一部分包括凸起部分和凹入部分，凹入部分包括可再活化的壓敏粘合劑。在一個實施例中，隔離物可從可再活化的壓敏粘合劑去除。在一個實施例中，可再活化的壓敏粘合劑可被洗滌乾淨，但一旦乾燥，則重新獲得捕獲和保持汙垢、粉塵和碎屑的能力。在一個實施例中，可再活化的壓敏粘合劑包含4至25phr之間的疏水性二氧化娃。在一個實施例中，相對於粘合劑的前體的質量，丙烯酸烷基酯的濃度為75重量％或更高。在一個實施例中，交聯劑化合物具有如下濃度，濃度產生可通過使用濃度為0.15phr或更高的三丙二醇二丙烯酸酯作為參照交聯劑化合物而獲得的交聯密度。在一個實施例中，凸起部分佔清潔表面積的至少25%。在一個實施例中，凸起部分從凹入部分延伸至少1mm。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0006]圖1為清潔表面的透視圖；
[0007]圖2為圖1的清潔表面的分解透視圖；[0008]圖3為圖1的清潔表面的側視圖；
[0009]圖4為清潔表面的第二實施例的透視圖；
[0010]圖5為應用於清潔工具的圖4的清潔表面的透視圖；
[0011]圖6為清潔表面的第三實施例的透視圖。
[0012]雖然以上說明的附圖和圖片示出了本發明的一些實施例，但正如討論中所指出的那樣，還可以想到其他的實施例。在所有情況下，本發明僅示例性而非限制性地展示了本發明。應當理解，本領域的技術人員可以設計出許多其他的修改和實施例，這些修改和實施例落入本發明的範圍和精神內。
[0013]附圖可未按比例繪製。
【具體實施方式】
[0014]清潔表面10包括凸起部分12和凹入部分14，凸起部分12包括間隔物30，凹入部分14包括可再活化的壓敏粘合劑20。
[0015]清潔表面10為旨在與待清潔的表面接觸的表面，並能夠捕獲和保留汙垢、粉塵和碎屑。清潔表面10可為用於清潔工具40的組件的一部分，如圖1-3所示和描述。清潔表面10可為可獨立地使用或應用於清潔工具的擦拭物、布料或膜狀結構，如圖4-5所示和描述。清潔表面10可為清潔工具40的一部分，如圖6所示和描述。
[0016]清潔表面10上的隔離物30提供了在待清潔的表面與包含粘合劑20的清潔表面10的部分之間的距離。如果粘合劑20完全接觸待清潔的表面，則清潔表面10將過於強烈地附接至被清潔的表面而不會滑移。隔離物30可有助於防止粘合劑20與待清潔的表面完全接觸。此外，隔離物30通常從待清潔的表面提升整個清潔表面10，由此暴露清潔表面10的更大面積，特別是更大的包含粘合劑的面積，以用於接收粉塵和碎屑。
[0017]存在至少一個隔離物30。然而，在一些實施例中，存在多個隔離物30。隔離物30可以以多種方式在清潔表面10上布置。隔離物30可為在整個清潔表面10上的互連網絡，如圖1-3所示。這種互連網絡可為具有矩形、圓形或裝飾性形狀的孔的網格。隔離物30可獨立地設置於清潔表面10上，如圖4-5和圖6所示。隔離物30可為與預期擦拭方向平行、垂直或正交設置的襯墊，或可為波狀、鋸齒狀、螺旋狀或簡單地裝飾性的。如果包括多個隔離物30，則隔離物30本身可彼此平行或可以任何其他非平行方式設置。
[0018]隔離物30可為可去除地連接至清潔表面10，如圖1-3所示。通常，為了易於使用，互連網絡設置的隔離物30 (如擦拭物)可以此方式連接至清潔表面10。隔離物30可永久連接至清潔表面10，如圖4-5和6所示。在一個實施例中，隔離物30為永久固定至清潔表面10的單獨的結構，如圖4-5所示。在一個實施例中，隔離物30從清潔表面10的一部分一體化形成，如圖6所示。
[0019]由於隔離物30與待清潔的表面直接接觸，因此優選地，隔離物為具有不損壞待清潔的表面的材料。對於清潔硬質表面，隔離物30通常為適形的開放材料，適形的開放材料本身可捕獲和保留粉塵和碎屑，並允許在硬質表面之上滑移。對於清潔軟質織物狀表面(如地毯)，則隔離物應該為平滑的低摩擦表面，以允許在待清潔的表面上平滑滑移。
[0020]可用於隔離物30的材料的例子為非織造織物、織造織物、針織織物、泡沫、海綿、紗、成排的剛毛、擠出聚合物。對於擠出的股線，合適的材料包括聚丙烯、聚乙烯或烯烴共聚物和其他熱塑性塑料。隔離物的橫截面可為諸如圓形、橢圓形、矩形的形狀。
[0021]在清潔表面10處的可再活化的壓敏粘合劑20為粘性的，以從待清潔的表面捕獲和保留汙垢、粉塵和碎屑。壓敏粘合劑20為可再活化的，這意味著粘合劑可被洗滌乾淨，但一旦乾燥，重新獲得捕獲和保留汙垢、粉塵和碎屑的能力。因此，可再使用可再活化的壓敏粘合劑20。合適的粘合劑20公開於歐洲專利0736585中，專利的公開內容以引用方式併入本文，其部分如下。合適的可再活化的壓敏粘合劑用於可得自明尼蘇達州聖保羅的3M公司(3M Company, St.Paul MN)的 Scotch? Mounting Squares 中。
[0022]粘合劑20通過聚合包含一種或多種丙烯酸烷基酯的前體獲得，一種或多種丙烯酸烷基酯的烷基具有平均4-14個C原子，前體基本上不含強極性共聚單體，前體還包含至少約2phr的疏水性二氧化矽，或一種或多種聚合引發劑和一種或多種交聯化合物，一種或多種交聯化合物具有如下濃度，濃度產生可通過使用濃度為0.15phr或更高的三丙二醇二丙烯酸酯作為參照交聯劑而獲得的交聯密度。術語Phr或pph意指每百份樹脂的份數，並提供例如交聯組分(或另一組分)相對於可聚合單體組分的質量的質量比。
[0023]可去除PSA材料的前體包含一種或多種丙烯酸烷基酯，一種或多種丙烯酸烷基酯的烷基具有平均4-14個C原子。術語平均4-14個C原子意指相對於丙烯酸烷基酯組分的質量，在一個實施例中為4-14個之間的C原子,在另一實施例中為4-12個之間的C原子。
[0024]可用的丙烯酸烷基酯(即，丙烯酸烷基酯單體)包括非叔烷基醇的直鏈或支鏈的單官能不飽和丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，其烷基具有4至14個、特別是4至12個碳原子。這些低級丙烯酸烷基酯的例子包括但不限於丙烯酸正丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸己酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸正辛酯、丙烯酸2-甲基丁酯、丙烯酸異壬酯、丙烯酸正壬酯、丙烯酸異戊酯、丙烯酸正癸酯、丙烯酸異癸酯、甲基丙烯酸異癸酯、丙烯酸異冰片酯、丙烯酸4-甲基-2-戊酯和丙烯酸十二烷基酯。
[0025]前體包含至多5種、特別是1_4種丙烯酸烷基酯。如上定義的丙烯酸烷基酯的烷基中的碳原子的平均數在一個實施例中為4-14之間，在另一實施例中為4-12之間，在另一實施例中為5-10之間。相對於PSA的前體的質量，丙烯酸烷基酯組分的濃度在一個實施例中為至少75重量％，在另一實施例中為至少85重量％。
[0026]極性共聚單體的存在通常不利於PSA對水和有機溶劑的抗性，並限制PSA的可去除性和可再活化性。
[0027]術語極性單體包括中等極性和強極性單體。極性(即氫鍵能力)常常通過使用諸如「強」、「中等」和「差」的術語進行描述。強極性單體的例子為丙烯酸、甲基丙烯酸和丙烯醯胺，而N-乙烯基內醯胺(例如N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基己內醯胺、丙烯腈和二甲基氨基丙基甲基丙烯酸酯)為中等極性單體的典型例子。
[0028]通常，PSA不含極性共聚單體。在不添加極性單體的情況下，可獲得粘性、剝離強度、內聚強度、剪切強度、對水和有機溶劑的抗性、可再活化性和光學透明性的優良平衡。添加極性共聚單體組分通常明顯降低對水和有機溶劑的抗性，特別是降低可再活化性，這不利地影響了所需混合物，將可去除PSA的性質降低至不希望的或甚至不可接受的程度。然而，在一些情況中，例如對於顯示出高交聯密度(TPGDA濃度> lphr，特別是> 2phr)、高的靜態剪切值和低的粘附力值的PSA材料，可添加少量的極性共聚單體，以改進PSA材料的耐磨性。然而，強極性共聚單體的濃度不應超過0.5phr,在一個實施例中應小於0.25phr,在一個實施例中應小於0.lphr。可使用至多1.0phr的略微更高量的中等極性共聚單體。然而，中等極性共聚單體的量通常小於0.5phr,在一個實施例中小於0.25phr。
[0029]PSA的前體也包含填料組分，填料組分在一個實施例中包含至少2.0phr，在另一實施例中至少3.0phr，在另一實施例中至少4.0phr的疏水性二氧化矽。在一個實施例中，疏水性二氧化矽的量為5-25phr之間。在另一實施例中，疏水性二氧化矽的量為5-20phr之間，特別是5-15phr之間。
[0030]疏水性二氧化矽可例如作為「Aerosil 」R972、R974或R976購自哈諾的德固賽公司(Degussa7Hanau);作為TS-720購自伊利諾斯州塔斯科拉的卡伯特Cab-O-Sil部門(CabotCab-O-Sil Division, Tuscola, Illinois)。在美國專利 2，859，198 (Sears 等人)中，提出可通過用有機娃氧燒材料處理細分無機固體含娃材料(如二氧化娃)而使該材料的表面為疏水性的。根據US4，136，081 (Schultz)，二氧化矽「可用諸如氯矽烷、矽氮烷、烷氧基矽烷和環狀矽氧烷的有機矽材料進行處理，以產生疏水性表面」(第6欄，第47-52行)。
[0031]如上給出的疏水性二氧化矽材料的列舉，以及對用於製備疏水性二氧化矽材料的一些選定方法的描述為示例性的而非限制性的。在一個實施例中，用於製備PSA材料的疏水性二氧化矽顯示出至少10m2/g、特別是至少50m2/g的表面積。在一個實施例中，疏水性二氧化矽的表面積為50至400m2/g之間(B.ET.表面積)。
[0032]與PSA材料的前體的其他組分組合的疏水性二氧化矽的具體選擇產生性質的突出且有利的平衡。前體中的疏水性二氧化矽用
[0033]*親水性二氧化矽取代產生如下PSA材料，PSA材料顯示出不利的剝離值和相對較差的可再活化性，特別是在由細分或粉末狀粒子(如粉塵)汙染之後。當親水性二氧化矽與PSA的前體的其他組分混合時，獲得僅至多約4phr的載量的均勻可用的分散體，而疏水性二氧化矽允許至多25phr或甚至更高的濃度。使用親水性二氧化矽可得到的有限範圍的濃度產生PSA材料的更低的機械強度，並限制配製人員控制PSA材料的性質的可能性。
[0034]*多糖填料(如纖維素纖維、澱粉纖維或棉纖維)取代產生具有有限的可再活化性的PSA材料，特別是在由細分或粉末狀粒子(如粉塵)汙染之後。混合多糖填料與前體的其他組分產生如下PSA材料，PSA材料在增加的交聯劑濃度下在平滑表面(例如不鏽鋼或玻璃)上顯示出降低的剪切強度，而優選的PSA材料顯示相反的表現。此外，包含纖維素填料的PSA材料為白色不透明的。
[0035]*其他無機填料(例如細分氧化鐵、氧化鈦、碳酸1丐(calcium carbones)或炭黑)取代會不利影響所得PSA材料的粘附力、靜態剪切、光學透明度、粘度和/或可塗敷性。
[0036]*其他有機填料(例如聚合物微球)取代常常不利影響所得PSA材料的粘附力和/或光學性質。
[0037]PSA材料的填料組分主要由一種或多種疏水性二氧化矽組成，一種或多種疏水性二氧化矽的表面積和/或所用的製備方法可不同。填料組分通常包含至少75重量％、在一個實施例中至少85重量％、在一個實施例中100重量％的一種或多種疏水性二氧化矽，以填料組分的質量計。
[0038]前體包含交聯劑組分以增加所得PSA材料的內聚強度和拉伸強度。可用的交聯劑包括苯甲醛、乙醛、蒽醌、各種二苯甲酮型和乙烯基-滷代甲基-S-三嗪型化合物(例如2，4-雙(三氯甲基)-6-對甲氧基苯乙烯基-S-三嗪。優選的是聚丙烯酸官能單體，例如三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇、1，2-乙二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯或1，12-十二烷二醇二丙烯酸酯。可為取代的或未取代的如上所列的化合物旨在為示例性的，決不是限制性的。
[0039]交聯組分通常包含1-5種、在一個實施例中1-3種、在一個實施例中1-2種交聯劑組分。在一個實施例中，交聯劑化合物為1，6_己二醇二丙烯酸酯和三丙二醇二丙烯酸酯。
[0040]相對於如下報導交聯密度:可通過使用各種量的三丙二醇二丙烯酸酯(TPGDA)作為參照交聯劑組分，在標準化反應條件(本體光聚合，濃度為0.24phr的光引發劑:由汽巴-蓋吉公司(Ciba Geigy)供應的Irgacure651 ;來自UV燈的曝光率為900_1500mJ/cm2的UV輻照，UV燈的90%的發射為300至400nm之間，最大值為351nm ;室溫；常壓；排除氧)下獲得的交聯密度。
[0041]前體包含如下濃度的一種或多種交聯劑化合物:濃度提供可通過使用濃度為
0.15phr或更高、優選0.30phr或更高的TPGDA作為參照交聯化合物在另一相同前體中在相同外部條件下獲得的交聯密度。對於更低的交聯劑濃度，機械強度、可去除性和可再活化性不足，且不滿足所有的實際要求，特別是在疏水性二氧化矽的載量小於5、特別地小於3phr的情況中。前體優選顯示出可通過使用濃度不超過5.0phr的TPGDA而獲得的交聯密度，因為在值以上時，在大多數表面上，即使是在平滑表面(例如光澤紙或聚酯膜)上的剪切強度往往變得過低。
[0042]在一個實施例中，前體包含濃度為提供可通過使用濃度為0.3-4.5phr的TPGDA而獲得的交聯密度的一種或多種交聯劑化合物。TPGDA的濃度在一個實施例中為0.4至
4.0phr之間。在一個實施例中，TPGDA的濃度優選為1.0phr或更高，在一個實施例中為1.0至4.5phr之間。
[0043]可通過應用通常已知的聚合方法(如本體聚合、溶液聚合、乳液聚合或懸浮聚合)獲得PSA材料。由於環境原因，常常優選本體聚合，以避免使用有機溶劑。
[0044]聚合反應優選藉助聚合引發劑而開始，並優選經由自由基聚合機制進行。聚合引發劑的可用的例子包括可光激發的引發劑，例如苯偶姻醚(例如苯偶姻甲基醚、苯偶姻異丙基醚、取代的苯偶姻醚(如茴香偶姻甲基醚))、苯乙酮(例如2，2-二乙氧基苯乙酮)或α -酮醇(例如2-甲基-2-羥基-苯丙酮)，和/或可熱活化的引發劑，例如有機過氧化物(例如過氧化苯甲醯和月桂基過氧化物)和2，2_偶氮雙(異丁腈)。在一個實施例中，弓丨發劑組分包含1-3種之間、在一個實施例中1-2種之間的引發劑化合物。在一個實施例中，引發劑組分僅包含一種光引發劑。在一個實施例中，引發劑組分以0.012phr的量、在一個實施例中0.05-1.0Ophr之間的量、在一個實施例中0.1-0.5phr的量存在。
[0045]在一個實施例中，將引發劑組分中的一部分添加至部分聚合至通常2-30%的程度的丙烯酸烷基酯組分，以形成可塗布粘度在普通室溫下為例如300-20，OOOcps (Brookfield)的眾料。眾料的粘度可適應待添加的疏水性二氧化娃的量。對於例如15phr或更高的疏水性二氧化矽的高載量，漿料的粘度通常不超過l，000cps，在一個實施例中為25至l，000cps之間。對於疏水性二氧化矽的較低載量，粘度通常不小於l，500cps，在一個實施例中為l，750cps或更高。前體的粘度也可通過添加通常少於5phr的少量的聚合物添加劑而進行調節，聚合物添加劑通常為例如W094/000，052中描述的可光聚合的聚丙烯酸酯。聚合通常作為描述於例如US4，181,752中的光聚合而進行。在一個實施例中，使用UV黑光進行聚合，UV黑光在280至400nm之間具有超過60 %、優選超過75 %的它們的發射光譜，且強度為約0.1至約25mW/cm2之間。曝光率通常為900-1，500mJ/cm2之間。可通過去除輻射源或熱源，和/或引入例如自由基清除氧而停止聚合。
[0046]隨後將包含疏水性二氧化矽的填料組分添加至預聚漿料。當疏水性二氧化矽的量超過約Sphr時，使用高剪切混合器(如塗料磨機)以獲得均勻的分散體。通過這樣做並通過適當調節預聚漿料的粘度，對於高達約25phr的載量，可獲得可用的且基本上均勻的分散體。
[0047]將所獲得的分散體與引發劑組分的剩餘部分和任選的其他輔劑混合，其他輔劑例如鏈轉移劑、聚合物添加劑(如例如描述於EP0349216或EP0352901中的那些)、溶劑、阻燃齊U、顏料、著色劑、氣味遮蔽劑和/或帶材領域已知的其他輔劑。
[0048]為了製備PSA膜，將所獲得的如上分散體或混合物塗布於背襯、載體纖維網或剝離襯墊上，並在惰性(即無氧)氣氛(例如氮氣氛)中聚合。在上下文中，術語膜用於描述一種結構，結構的厚度基本上小於其長度或寬度，並具有兩個基本上平行的相對表面。如本文所用，術語膜包括例如片材、帶狀物、帶材和盤。
[0049]內聚強度、拉伸強度、伸長、剪切強度和剝離粘附力為相關的，並主要受到交聯密度、填料載量和粘合層的厚度的影響。PSA材料為可再活化的和/或顯示出對汙染的低敏感度。即使在被粉塵、汙垢或有機化合物等嚴重汙染之後，PSA材料的表面也可通過施用例如水溶液、低級醇(如甲醇或乙醇)或丙酮而清潔。PSA層可用水衝洗並乾燥。即使在數個汙染和再活化循環之後，粘附力也恢復至基本上新制的未汙染的PSA層的粘附力，恢復至新制的未汙染的PSA層的粘附力的高百分比，或恢復至新制的未汙染的PSA層的粘附力的極高百分比。
[0050]在低交聯密度的範圍內，發現參數的如下組合是特別有用的:
[0051]*可通過使用0.15至0.5phr之間的TPGDA濃度而獲得的交聯密度
[0052]*10_25phr之間的疏水性二氧化矽
[0053]*50-1，000 μ m 厚度的層
[0054]隔離物30形成凸起部分12，並從凹入部分14延伸，凹入部分14包括粘合劑20。取決於隔離物30的布置，可存在一個或多個凸起部分12和一個或多個凹入部分14。在一個實施例中，凸起部分12從凹入部分14延伸至少1mm。在一個實施例中，凸起部分12從凹入部分14延伸至少5mm。在一個實施例中，凸起部分12覆蓋清潔表面的面積的至少10%。在一個實施例中，凸起部分覆蓋清潔表面的面積的至少25%。在一個實施例中，凸起部分基本上不含粘合劑。
[0055]圖1為清潔表面10的一個實施例的透視圖。圖2為圖1的清潔表面10的分解透視圖。圖3為圖1的清潔表面10的側視圖。在該實施例中，清潔表面10為具有上覆的清潔片50的清潔工具40的一部分，上覆的清潔片50為具有孔54的網際網路。粘合劑20包括於清潔工具40的表面上。清潔片50可從清潔工具40的粘合劑20去除。當施用至清潔工具40時，清潔片50在凸起部分14處形成隔離物30，從而暴露在清潔片50的孔54處的粘合劑20。
[0056]為了清潔表面，將清潔片50施用至清潔工具40的粘合劑20之上。清潔表面10接觸待清潔的表面。粉塵、汙垢和碎屑被捕獲並包含於清潔片50中，以及通過清潔片50的孔54而附接至粘合劑20。當結束清潔時，去除清潔片50，或洗滌清潔片50以用於之後的用途，或丟棄清潔片50。洗滌粘合劑20，從而去除汙垢、粉塵和碎屑。一旦乾燥，粘合劑20重新獲得捕獲和保持汙垢、粉塵和碎屑的能力，使得可重新使用清潔表面。
[0057]圖4為清潔表面10的第二實施例的透視圖。圖5為應用於清潔工具40的圖4的清潔表面10的透視圖。在該實施例中，清潔表面10為清潔片50的形式，清潔片50可獨立使用以用於清潔，或者如圖5所示可與清潔工具40組合使用。清潔片50的表面包括隔離物30和粘合劑20，隔離物30形成清潔表面10的凸起部分12，粘合劑20位於清潔表面10的凹入部分14處。隔離物30彼此間隔，以在清潔表面10處暴露粘合劑20。隔離物30以線性平行片段示出。應理解，可使用多種隔離物設計和布置，只要粘合劑20中的一部分在清潔表面10處暴露即可。
[0058]為了清潔表面，清潔片50獨立地使用以清潔表面。在另一實施例中，清潔片50應用於清潔工具40之上。清潔片50可以以多種已知方式(如機械固定或粘合劑固定)可去除地固定至清潔工具40。清潔表面10接觸待清潔的表面。汙垢、粉塵和碎屑由粘合劑20捕獲和保留。取決於用於隔離物30的材料，隔離物30也可捕獲和保留材料。當結束清潔時，去除清潔片50，或洗滌清潔片50以用於之後的用途，或丟棄清潔片50。洗滌粘合劑20，從而去除汙垢、粉塵和碎屑。一旦乾燥，粘合劑20重新獲得捕獲和保持汙垢、粉塵和碎屑的能力，使得可重新使用清潔表面10。
[0059]圖6為清潔表面10的第三實施例的透視圖。在該實施例中，清潔表面10為清潔工具40的一部分。隔離物30和粘合劑20直接在清潔工具40上，隔離物30形成凸起部分12，粘合劑20形成凹入部分14。清潔工具40上的隔離物30可包含許多各種形狀和構造。清潔表面10可直接用於清潔表面，或者可包括上覆的清潔片，如圖1-3所示。隔離物30可直接由構成清潔工具40的相同材料(例如泡沫)形成。在一個實施例中，隔離物30可為永久固定至清潔工具40表面的材料。
[0060]為了清潔表面，可使用或不使用上覆清潔片。清潔表面40接觸待清潔的表面。汙垢、粉塵和碎屑由穿過上覆清潔片中的孔的粘合劑20或與表面直接接觸的粘合劑20捕獲和包括。在具有或不具有上覆清潔片50的情況下，隔離物30提供清潔工具40的滑移。當結束清潔時，如果包括清潔片50的話，則去除清潔片50，或洗滌清潔片50以用於之後的用途，或丟棄清潔片50。另外，洗滌包括粘合劑20的清潔工具40，從而去除汙垢、粉塵和碎屑。一旦乾燥，粘合劑20重新獲得捕獲和保持汙垢、粉塵和碎屑的能力，使得可重新使用清潔工具40。
[0061]儘管本文已示出和描述了具體實施例，但是應當理解，這些實施例僅是示例性地展示了應用本發明原理時可設計的許多可能的具體布置。本領域中具備普通技能的人員可根據這些原理在不脫離本發明精神和範圍的情況下設計出許多不同其它結構。因此，本發明的範圍不應限於本專利申請中的結構，而只應受權利要求的文字的結構及其等同結構的限制。
【權利要求】
1.一種清潔表面，包括: 凸起部分，所述凸起部分包括隔離物； 凹入部分，所述凹入部分包括可再活化的壓敏粘合劑； 其中所述可再活化的壓敏粘合劑為聚合前體，所述聚合前體包含單體組分、至少約2.0phr的疏水性二氧化矽、一種或多種聚合引發劑、一種或多種交聯劑化合物，並且所述聚合前體基本上不含極性共聚單體，所述單體組分包含一種或多種丙烯酸烷基酯，所述一種或多種丙烯酸烷基酯的烷基具有平均4-14個C原子。
2.根據權利要求1所述的清潔表面，其中所述隔離物包括上覆所述可再活化的壓敏粘合劑的開孔清潔片。
3.根據權利要求1所述的清潔表面，其中所述清潔表面包括清潔擦拭物，所述清潔擦拭物包括所述凸起部分和凹入部分，所述凹入部分包括所述可再活化的壓敏粘合劑。
4.根據權利要求1所述的清潔表面，其中所述清潔表面為清潔工具的一部分，所述清潔工具的一部分包括所述凸起部分和凹入部分，所述凹入部分包括所述可再活化的壓敏粘合劑。
5.根據權利要求1所述的清潔表面，其中所述隔離物可從所述可再活化的壓敏粘合劑去除。
6.根據權利要求1所述的清潔表面，其中所述可再活化的壓敏粘合劑能夠被洗滌乾淨，但一旦乾燥，重新獲得捕獲和保持汙垢、粉塵和碎屑的能力。
7.根據權利要求1所述的清潔表面，其中所述可再活化的壓敏粘合劑包含4至25phr之間的疏水性二氧化矽。
8.根據權利要求1所述的清潔表面，其中相對於所述粘合劑的所述前體的質量，所述丙烯酸烷基酯的濃度為75重量％或更高。
9.根據權利要求1所述的清潔表面，其中所述交聯劑化合物具有如下濃度，所述濃度產生可通過使用濃度為0.15phr或更高的三丙二醇二丙烯酸酯作為參照交聯劑化合物而獲得的交聯密度。
10.根據權利要求1所述的清潔表面，其中所述凸起部分佔清潔表面積的至少25%。
11.根據權利要求1所述的清潔表面，其中所述凸起部分從所述凹入部分延伸至少1mm。
12.一種清潔工具組件，包括: 清潔表面，所述清潔表面包括可再活化的壓敏粘合劑，其中所述可再活化的壓敏粘合劑為聚合前體，所述聚合前體包含單體組分、至少約2.0phr的疏水性二氧化矽、一種或多種聚合引發劑、一種或多種交聯劑化合物，並且所述聚合前體基本上不含極性共聚單體，所述單體組分包含一種或多種丙烯酸烷基酯，所述一種或多種丙烯酸烷基酯的烷基具有平均4-14個C原子； 清潔片，所述清潔片包括多個孔； 其中所述清潔片應用於所述清潔表面之上，使得通過所述清潔片的所述孔暴露所述可再活化的壓敏粘合劑。
13.—種清潔片,包括: 背部表面；和與所述背部表面相對的清潔表面，所述清潔表面包括凸起部分和凹入部分，所述凸起部分包括隔離元件，所述凹入部分包括可再活化的壓敏粘合劑； 其中所述可再活化的壓敏粘合劑為聚合前體，所述聚合前體包含單體組分、至少約.2.0phr的疏水性二氧化矽、一種或多種聚合引發劑、一種或多種交聯劑化合物，並且所述聚合前體基本上不含極性共聚單體，所述單體組分包含一種或多種丙烯酸烷基酯，所述一種或多種丙烯酸烷基酯的 烷基具有平均4-14個C原子。
【文檔編號】C09J7/02GK103945751SQ201280054275
【公開日】2014年7月23日 申請日期:2012年11月2日 優先權日:2011年11月11日
【發明者】斯科特·J·圖曼, 斯考特·D·皮爾森, 利奧伊德·S·瓦西拉科斯 申請人:3M創新有限公司