一種雙保護厄他培南結晶體及其製備方法

2023-07-24 13:09:26 3

專利名稱：一種雙保護厄他培南結晶體及其製備方法
技術領域：
本發明涉及一種雙保護厄他培南結晶體及其製備方法，具體說，是涉及一種GR， 5R，6S) -3- [ (3S，5S) -5- [ (3-羧基苯基)氨基甲醯基]-N-對硝基苄氧羰基_吡咯烷_3_基] 硫-6-[(1 -1-羥乙基]-4-甲基-7-氧代-1-氮雜雙環[3. 2. 0]庚-2-烯-2-甲酸對硝基苄基酯結晶體及其製備方法，屬於有機化學技術領域。
背景技術：
厄他培南鈉(ertapenem sodium)是由英國AstraZeneca公司發明，後轉讓給默克公司作進一步研究開發，是新的帶有4位(R)甲基的注射用廣譜長效碳青黴烯類抗生素， 2002年在美國首次上市，其結構式如式I所示
權利要求
1. 一種雙保護厄他培南結晶體，具有如下所示的化學結構式
2.根據權利要求1所述的雙保護厄他培南結晶體，其特徵在於還具有圖2所示的頂譜圖、圖3所示的DSC譜圖及圖4所示的DSC-TG譜圖。
3.根據權利要求1所述的雙保護厄他培南結晶體，其特徵在於在粉末X射線衍射下，在衍射角度 2 θ 為 5. 2° 士 0.1°，9.1° 士 0.1°，10.4° 士 0.1°，15.3° 士 0.1°， 17.2° 士 0.1°，17.7° 士 0.1°，21.7° 士 0. 1°，22.6° 士 0. 1°，25.2° 士 0. 1° 處有特徵峰。
4.一種權利要求1所述的雙保護厄他培南結晶體的製備方法，其特徵在於，包括如下步驟a)使碳青黴烯母核MAP和厄他培南側鏈進行縮合反應，反應結束，將反應液倒入pH值為4 6的緩衝液與酯類溶劑形成的混合溶劑中，萃取分層，再向有機層內加入緩衝液洗滌；b)有機層用無水硫酸鈉乾燥、過濾後，於O 30°C攪拌析晶，過濾，洗滌濾餅，真空幹O
5.根據權利要求4所述的雙保護厄他培南結晶體的製備方法，其特徵在於在步驟b)， 在O 30°C攪拌析晶1 M小時後，再於O 30°C滴加非極性烷烴類溶劑，滴畢過濾。
6.根據權利要求4所述的雙保護厄他培南結晶體的製備方法，其特徵在於洗滌濾餅的溶劑為酯類溶劑與非極性烷烴類溶劑形成的混合溶劑。
7.根據權利要求6所述的雙保護厄他培南結晶體的製備方法，其特徵在於洗滌濾餅的溶劑為酯類溶劑與非極性烷烴類溶劑以11體積比形成的混合溶劑。
8.根據權利要求4或6或7所述的雙保護厄他培南結晶體的製備方法，其特徵在於 所述的酯類溶劑為甲酸甲酯、甲酸乙酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸異丙酯或乙酸丁酯。
9.根據權利要求4或6或7所述的雙保護厄他培南結晶體的製備方法，其特徵在於 所述的非極性烷烴類溶劑為正己烷、環己烷、正戊烷、正庚烷或石油醚。
10.根據權利要求4所述的雙保護厄他培南結晶體的製備方法，其特徵在於所述的緩衝液為磷酸二氫鉀緩衝液、磷酸氫二鉀緩衝液、磷酸二氫鈉緩衝液或磷酸氫二鈉緩衝液。
11.根據權利要求4所述的雙保護厄他培南結晶體的製備方法，其特徵在於所述的緩衝液與酯類溶劑的體積比為1 3 3 1。
12.根據權利要求4所述的雙保護厄他培南結晶體的製備方法，其特徵在於進行真空乾燥的溫度為20 40°C。
全文摘要
本發明公開了一種雙保護厄他培南結晶體及其製備方法，所述的雙保護厄他培南結晶體具有

圖1所示的粉末X射線衍射譜圖。該結晶體的製備是首先使碳青黴烯母核MAP和厄他培南側鏈進行縮合反應，反應結束，將反應液倒入pH值為4～6的緩衝液與酯類溶劑形成的混合溶劑中，萃取分層，再向有機層內加入緩衝液洗滌；有機層用無水硫酸鈉乾燥、過濾後，於0～30℃攪拌析晶，過濾，洗滌濾餅，真空乾燥。本發明提供的雙保護厄他培南結晶體穩定性好，純度高，為後續製備高純度、質量穩定的厄他培南奠定了基礎和提供了保證；且本發明的製備方法簡單，原料價廉易得，易於實現規模化，符合工業化生產要求，具有實用推廣價值。
文檔編號C07D477/20GK102432611SQ201110350990
公開日2012年5月2日 申請日期2011年11月9日 優先權日2011年11月9日
發明者劉軍, 呂鋒, 安曉霞, 畢光慶, 胡猛 申請人:上海希邁醫藥科技有限公司, 江蘇迪賽諾製藥有限公司