一種可控制脈動的靜電幹法循環施釉裝置製造方法
2023-07-20 21:14:06
一種可控制脈動的靜電幹法循環施釉裝置製造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種可控制脈動的靜電幹法循環施釉裝置，包括幹釉粉罐、靜電筒、底座、風機和回收罐，帶有圍牆的靜電筒固定安裝在底座上，靜電筒頂端的封蓋內部設有帶微孔的噴頭，噴頭的進口分別連接帶單向閥的幹釉粉罐和帶預設脈衝控制器的空壓機，靜電筒側壁穿過有傳送帶，傳送帶通過固定在支架上的傳動輪驅動，傳送帶上放置的固定槽兩端設有振蕩器，靜電筒下端依次設有漏料鬥和風機，帶有兩層過濾網的回收罐連接在風機的末端。本實用新型裝置效率高，產率大，而且可以避免針孔以及裂紋等釉表面缺陷，產品釉面質量大大提高，另外能回收幹釉粉，節約陶瓷原料，降低了生產成本，提高了經濟效益。
【專利說明】一種可控制脈動的靜電幹法循環施釉裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及陶瓷製品生產設備領域，具體是一種可控制脈動的靜電幹法循環施釉裝置。
【背景技術】
[0002]傳統的施釉方法都是溼法施釉，這種方法由於受到釉槳流變學性能與乾燥工藝的束縛，不能夠適應不同表面瓷磚的施釉，而且容易出現許多釉表面缺陷，如針孔、裂紋、波紋等問題，因此造成傳統施釉裝置的生產效率低，產量低，產品的質量均普遍較低，而且溼法施釉方法不僅造成原料的大大浪費，成本高，經濟效益低，而且其生產環境條件差，給工作人員帶來很大的危害。
實用新型內容
[0003]本實用新型的目的在於提供一種生產效率高、產品質量好的可控制脈動的靜電幹法循環施釉裝置，以解決上述【背景技術】中提出的問題。
[0004]為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案:
[0005]一種可控制脈動的靜電幹法循環施釉裝置，包括幹釉粉罐、靜電筒、底座、風機和回收罐，所述底座的兩端安裝有基座，所述靜電筒固定安裝在底座上，靜電筒的外圍設有圍牆，靜電筒的頂端固設有封蓋，封蓋的頂端內部設有帶多個微孔的噴頭，噴頭的進口通過單向閥連接幹釉粉罐，所述空壓機連接在噴頭進口與單向閥之間，空壓機的出口管道上安裝有預設脈衝控制器，所述靜電筒側壁穿過有傳送帶，傳送帶通過固定在支架上的傳動輪驅動，傳送帶上放置有多個固定槽，固定槽的兩端均設有振蕩器，固定槽內卡設有坯體，所述靜電筒下端設有漏料鬥，所述風機安裝在漏料鬥下端，所述回收罐連接在風機的末端，回收罐內安裝有位於上層的二級過濾網和位於下層的一級過濾網，且一級過濾網位於回收罐進管口上方，所述回收罐側壁下端設有封門。
[0006]作為本實用新型進一步的方案:所述傳送帶為網狀傳送帶。
[0007]作為本實用新型進一步的方案:所述靜電筒內的電壓為120?150KV。
[0008]作為本實用新型進一步的方案:所述傳動輪和風機上均由調控電機驅動。
[0009]作為本實用新型再進一步的方案:所述預設脈衝控制器、空壓機、傳動輪的調控電機和風機的調控電機均連接在PLC控制器上。
[0010]與現有技術相比，本實用新型的有益效果是:本實用新型裝置採用靜電幹法施釉工藝，效率高，產率大，而且可以完全避免針孔、裂紋以及波紋等釉表面缺陷，使得產品的釉面裝飾質量大大提高，另外回收罐裝置可以回收幹釉粉，節約陶瓷原料，降低了生產成本，同時也改進了過去的釉槳處理方法與操作者的工作環境，提高了經濟效益。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0011]圖1為可控制脈動的靜電幹法循環施釉裝置示意圖。
[0012]圖2為可控制脈動的靜電幹法循環施釉裝置的控制原理圖。
[0013]圖中:1_幹釉粉罐；2_單向閥；3_空壓機；4_預設脈衝控制器；5_封蓋；6-靜電筒圍牆；-坯體；9_固定槽；10-振蕩器；11-傳送帶；12-傳動輪；13_基座；14_底座；15-漏料鬥；16_風機；17-回收罐；1-二級過濾網；19_ 一級過濾網；20_封門；21_支架；22-噴頭；23-微孔。
【具體實施方式】
[0014]下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬於本實用新型保護的範圍。
[0015]請參閱圖1?2，本實用新型實施例中，一種可控制脈動的靜電幹法循環施釉裝置，包括幹釉粉罐1、靜電筒6、底座14、風機16和回收罐17，底座14的兩端安裝有基座13，靜電筒6固定安裝在底座14上，靜電筒6的外圍設有圍牆7，靜電筒6內的電壓為120?150KV，靜電筒6內的高壓比較危險，因此設置的圍牆7有一定的保護作用，減弱了高壓的輻射作用，減少對工作人員的傷害。
[0016]靜電筒6的頂端固設有封蓋5，封蓋5的頂端內部設有帶多個微孔23的噴頭22，噴頭22的進口通過單向閥2連接幹釉粉罐1，空壓機3連接在噴頭22進口與單向閥2之間，空壓機3的出口管道上安裝有預設脈衝控制器4，預設脈衝控制器4有規律的控制空壓機3內的壓縮氣體，並帶著幹釉粉罐I內的幹釉粉進入靜電筒6內，單向閥2的目的則是防止壓縮氣體進入幹釉粉罐I內。
[0017]在預設脈衝控制器4的控制下，壓縮氣體有規律的進入靜電筒6內，並將幹釉粉帶入靜電筒6內，使得中性的幹釉粉粒子帶有負電荷，並隨著壓縮空氣箱帶有正電荷的坯體8移動，幹釉粉粒子密集的附著在坯體8上，靜電施釉噴出的霧滴較細，速度也較慢，使釉層分布均勻，大大提高釉面裝飾質量。
[0018]靜電筒6側壁穿過有網狀的傳送帶11，傳送帶11通過固定在支架21上的傳動輪12驅動，傳送帶11上放置有多個固定槽9，固定槽9的兩端均設有振蕩器10，固定槽9內卡設有坯體，噴過幹釉粉後，有部分幹釉粉沒有附著在坯體8上，便落入傳送帶11以及傳動輪12上，振蕩器10的作用則是振動傳送帶11以及其他部件，將幹釉粉微粒進行收集落入靜電筒6下端的漏料鬥15上，然後通過漏料鬥15下端的風機16的作用進入回收罐17，回收罐17內安裝有位於上層的二級過濾網I和位於下層的一級過濾網19，且一級過濾網19位於回收罐17進管口上方，兩層過濾網對進入回收罐17的幹釉粉進行回收，以節約釉粉資源，回收罐17側壁下端設有封門20，便於將回收後的幹釉粉取出。
[0019]傳動輪12和風機16上均由調控電機驅動，預設脈衝控制器4、空壓機3、傳動輪12的調控電機和風機16的調控電機均連接在PLC控制器上，通過PLC控制器的程序設定，在預設脈衝控制器4的作用下，壓縮空氣和幹釉粉先進入靜電筒6，在高壓的靜電場下附著在坯體上，並進入數次至坯體達到指定的工藝要求，然後便控制振蕩器10和風機16的調控電機工作，將散落的幹釉粉吸入回收罐17內，再控制傳動輪12的調控電機運動，繼續下一個坯體6的施釉工序。
[0020]對於本領域技術人員而言，顯然本實用新型不限於上述示範性實施例的細節，而且在不背離本實用新型的精神或基本特徵的情況下，能夠以其他的具體形式實現本實用新型。因此，無論從哪一點來看，均應將實施例看作是示範性的，而且是非限制性的，本實用新型的範圍由所附權利要求而不是上述說明限定，因此旨在將落在權利要求的等同要件的含義和範圍內的所有變化囊括在本實用新型內。不應將權利要求中的任何附圖標記視為限制所涉及的權利要求。
【權利要求】
1.一種可控制脈動的靜電幹法循環施釉裝置，包括幹釉粉罐(I)、靜電筒(6)、底座(14)、風機(16)和回收罐(17)，所述底座(14)的兩端安裝有基座(13)，其特徵在於，所述靜電筒(6)固定安裝在底座(14)上，靜電筒(6)的外圍設有圍牆(7)，靜電筒(6)的頂端固設有封蓋(5 )，封蓋(5 )的頂端內部設有帶多個微孔(23 )的噴頭(22 )，噴頭(22 )的進口通過單向閥(2)連接幹釉粉罐(1)，空壓機(3)連接在噴頭(22)進口與單向閥(2)之間，空壓機(3)的出口管道上安裝有預設脈衝控制器(4 )，所述靜電筒(6 )側壁穿過有傳送帶(11)，傳送帶(11)通過固定在支架(21)上的傳動輪(12)驅動，傳送帶(11)上放置有多個固定槽(9)，固定槽(9 )的兩端均設有振蕩器(10 )，固定槽(9 )內卡設有坯體(8 )，所述靜電筒(6 )下端設有漏料鬥(15)，所述風機(16)安裝在漏料鬥(15)下端，所述回收罐(17)連接在風機(16)的末端，回收罐(17)內安裝有位於上層的二級過濾網(I)和位於下層的一級過濾網(19)，且一級過濾網(19)位於回收罐(17)進管口上方，所述回收罐(17)側壁下端設有封門(20)。
2.根據權利要求1所述的可控制脈動的靜電幹法循環施釉裝置，其特徵在於，所述傳送帶(11)為網狀傳送帶。
3.根據權利要求1所述的可控制脈動的靜電幹法循環施釉裝置，其特徵在於，所述靜電筒(6)內的電壓為120?150KV。
4.根據權利要求1所述的可控制脈動的靜電幹法循環施釉裝置，其特徵在於，所述傳動輪(12)和風機(16)上均由調控電機驅動。
5.根據權利要求1所述的可控制脈動的靜電幹法循環施釉裝置，其特徵在於，所述預設脈衝控制器(4)、空壓機(3)、傳動輪(12)的調控電機和風機(16)的調控電機均連接在PLC控制器上。
【文檔編號】C04B41/86GK204174114SQ201420589477
【公開日】2015年2月25日 申請日期:2014年10月13日 優先權日:2014年10月13日
【發明者】鄧建華 申請人:江西唯美陶瓷有限公司