全自動醫療分析儀及其吸附裝置的製作方法
2023-08-11 12:58:41 1
本發明涉及醫療分析儀技術領域,尤其涉及一種全自動醫療分析儀及其吸附裝置。
背景技術:
在全自動醫療分析儀中,通常需要對反應容器中的反應液體進行清洗。反應液體中的用作藥物載體的磁微粒可重複利用,因此,在清洗反應容器時需要保留磁微粒。
目前,全自動醫療分析儀對反應容器採用旋轉式清洗的方式,將反應容器依次排布在轉盤上,距離轉盤一定位置處設一用於吸附磁微粒的磁體。而距離磁體越遠,磁感應強度越小,磁體的吸附力也就越小。磁體與反應容器間存在一定的間隙,使得磁體對磁微粒的吸附力不足,從而導致磁微粒在清洗的過程中容易被洗滌針帶走,磁微粒的損失率偏高。
技術實現要素:
基於此,有必要提供一種能夠降低磁微粒損失率的全自動醫療分析儀及其吸附裝置。
一種吸附裝置,用於吸附反應容器中的磁微粒,包括:
磁體;以及
伸縮結構,與所述磁體連接,且能帶動所述磁體與所述反應容器貼合。
在其中一個實施例中,還包括轉盤,所述轉盤上設有多個用於放置所述反應容器的安裝槽,所述安裝槽沿所述轉盤的周向排布,且所述安裝槽與所述磁體及所述伸縮結構一一對應設置,所述轉盤內設有容置腔,所述容置腔與所述安裝槽連通,所述磁體及所述伸縮結構置於所述容置腔內,所述伸縮結構帶動所述磁體沿所述轉盤的徑向靠近或遠離所述安裝槽。
在其中一個實施例中,所述伸縮結構包括滑塊及彈性件,所述滑塊與所述磁體連接,所述彈性件的一端與所述滑塊連接,另一端與所述轉盤的內壁連接,所述安裝槽、所述磁體、所述滑塊與所述彈性件沿所述轉盤的徑向依次排布。
在其中一個實施例中,還包括抵接構件,所述抵接構件與所述伸縮結構之間能實現相對轉動,所述抵接構件包括支撐柱及滾輪,所述支撐柱固設於所述轉盤的底部,與所述磁體相對,所述滾輪套設於所述支撐柱上,且位於所述容置腔內;
所述滑塊的底部凸設有弧形塊,所述弧形塊朝向所述安裝槽凸起;
當所述抵接構件與所述伸縮結構相對轉動時,所述滾輪能與所述弧形塊抵接,並推動所述滑塊沿所述轉盤的徑向遠離所述安裝槽。
在其中一個實施例中,所述轉盤包括外盤、內盤及軸承,所述外盤的中部與所述軸承的外圈連接,所述內盤套設於所述外盤內,且與所述軸承的內圈連接;
所述安裝槽間隔排布在所述內盤上,所述外盤與所述內盤圍合形成所述容置腔,所述伸縮結構與所述內盤連接,所述抵接構件與所述外盤連接。
在其中一個實施例中,還包括底板及支腳,所述底板用於承載所述轉盤,所述支腳的一端與所述底板連接,另一端與所述外盤固定連接。
在其中一個實施例中,還包括轉軸及驅動裝置,所述轉軸穿設於所述內盤的中部,所述驅動裝置安裝於所述底板上,且與所述轉軸連接,用於驅動所述轉軸轉動。
在其中一個實施例中,所述驅動裝置為電機。
在其中一個實施例中,所述彈性件為彈簧,所述彈簧位於所述滑塊及所述轉盤的內壁之間的長度小於等於所述彈簧不受外力作用下的長度。
一種全自動醫療分析儀,包括孵育單元、轉移單元及清洗單元,所述轉移單元用於將反應容器在所述孵育單元與所述清洗單元之間轉移,所述清洗單元包括控制臺、清洗臂及上述任一種吸附裝置,所述控制臺與所述清洗臂連接,用於控制所述清洗臂升降,所述清洗臂與所述吸附裝置相對設置,且能靠近或遠離所述吸附裝置。
上述的全自動醫療分析儀及其吸附裝置,磁體能夠與反應容器貼合,消除了傳統裝置的磁體與反應容器間的間隙,保證了反應容器位於磁體產生的最強的磁場區域內,從而在清洗反應液體的過程中,磁微粒能夠被緊緊的吸附在反應容器的內壁上而不會被洗滌針帶走,大大降低了磁微粒的損失率。
附圖說明
圖1為一實施方式的全自動醫療分析儀的結構示意圖;
圖2為圖1的清洗單元的結構示意圖;
圖3為圖2的局部截面示意圖;
圖4為圖2的部分機構示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖及具體實施例對清洗單元及其吸附裝置做進一步說明。
同時參考圖1及圖2,一實施方式的全自動醫療分析儀10包括孵育單元20、轉移單元30及清洗單元40。當位於孵育單元20上的反應容器12中的液體反應完全後,轉移單元30便會將反應容器12轉移到清洗單元40上,由清洗單元40對反應容器12中的液體進行清洗。轉移單元30也能將位於清洗單元40上的經清洗後的反應容器12轉移到孵育單元20上。其中,反應液體中用作藥物載體的磁微粒可重複利用,因此,在清洗時通常需要保留磁微粒。
清洗單元40包括控制臺50、清洗臂60及吸附裝置70。控制臺50與清洗臂60連接,用於控制清洗臂60升降。具體的,控制臺50上設有導軌52,清洗臂60上設有滑塊62,滑塊62與導軌52連接,並能沿導軌52滑動。清洗臂60呈弧形,與吸附裝置70相對設置,在控制臺50的作用下能靠近或遠離吸附裝置70。清洗臂60上設有洗滌針64,洗滌針64用於插入反應容器12中對反應液體進行清洗。
如圖3所示,吸附裝置70用於吸附反應容器12中的磁微粒,包括磁體100以及伸縮結構200。伸縮結構200與磁體100連接,能帶動磁體100與反應容器12貼合。在本實施方式中,磁體100選用磁鐵。
目前,全自動醫療分析儀在對反應容器清洗時,會在距離反應容器一定位置處設一用於吸附磁微粒的磁體。而距離磁體越遠,磁感應強度越小,磁體的吸附力也就越小。磁體與反應容器間存在一定的間隙,使得磁體對磁微粒的吸附力不足,從而導致磁微粒在清洗的過程中容易被洗液針帶走,磁微粒的損失率偏高。
而本實施方式的吸附裝置,磁體能夠與反應容器貼合,消除了傳統裝置的磁體與反應容器間的間隙,保證了反應容器位於磁體產生的最強的磁場區域內,從而在清洗反應液體的過程中,磁微粒能夠被緊緊的吸附在反應容器的內壁上而不會被洗滌針帶走,大大降低了磁微粒的損失率。
如圖2及圖3所示,吸附裝置70還包括轉盤300。轉盤300上設有多個用於放置反應容器12的安裝槽310,安裝槽310沿轉盤300的周向排布,且安裝槽310與磁體100及伸縮結構200一一對應設置,即,每一安裝槽310旁都設有一個磁體100及伸縮結構200。轉盤300內設有容置腔320,容置腔320與安裝槽310連通。磁體100及伸縮結構200置於容置腔330內,伸縮結構200帶動磁體100沿轉盤300的徑向靠近或遠離安裝槽310。
伸縮結構200包括滑塊210及彈性件220。滑塊210與磁體100連接,彈性件220的一端與滑塊210連接,另一端與轉盤300的內壁連接。安裝槽310、磁體100、滑塊210與彈性件220沿轉盤300的徑向依次排布。在本實施方式中,彈性件220比安裝槽310更靠近轉盤的旋轉中心。可以理解,在其他實施方式中,也可以反向排布各元件,即,安裝槽310可以比彈性件220更靠近轉盤的旋轉中心。
另,在本實施方式中,彈性件220為彈簧,可以為拉伸彈簧,也可以為壓縮彈簧。而且,彈簧220位於滑塊210及轉盤300的內壁之間的長度小於等於彈簧220不受外力作用下的長度。即,當向安裝槽310內放入空的反應容器時,磁體100與反應容器也是貼合的。
如圖3及圖4所示,吸附裝置70還包括抵接構件400。抵接構件400與伸縮結構200之間能實現相對轉動。抵接構件400包括支撐柱410及滾輪420。支撐柱410固設於轉盤300的底部,與磁體100相對。滾輪420套設於支撐柱410上,且位於容置腔320內。
滑塊210的底部凸設有弧形塊212,弧形塊212朝向安裝槽310凸起。
當抵接構件400與伸縮結構200相對轉動時,滾輪420能與弧形塊212抵接,並推動滑塊210沿轉盤300的徑向遠離安裝槽310,減小磁微粒與磁體100之間的磁吸力,從而反應容器12能被輕鬆拔出。
因此,抵接構件400的作用是在清洗完反應液體後,將磁體100與反應容器12分離,以便轉移單元30將反應容器12轉移至孵育單元20或其他設備上去。
在本實施方式中,如圖4所示,抵接構件400共設有4個,間隔排布在轉盤300上。可以理解,在其他實施方式中,抵接構件400的數目還可以為1個、2個、3個、5個或者更多。抵接構件400的數目以及安裝位置可以根據實際情況而定。
同時參考圖2、圖3及圖4,轉盤300包括外盤330、內盤340及軸承350。外盤330的中部與軸承350的外圈連接,內盤340套設於外盤330內,且與軸承350的內圈連接。
安裝槽310間隔排布在內盤340上,外盤330與內盤340圍合形成容置腔320,伸縮結構200與內盤340連接,抵接構件400通過螺釘430固定在外盤330上。
如圖2所示,吸附裝置70還包括底板500及支腳600。底板500用於承載轉盤300。支腳600的一端與底板500連接,另一端與外盤330固定連接。即,外盤330為固定盤,不轉動。支腳600共設有3個,以使整個吸附裝置70更為穩固。
吸附裝置70還包括轉軸700及驅動裝置800。轉軸700穿設於內盤340的中部,驅動裝置800安裝於底板500上,且與轉軸700連接,用於驅動轉軸700轉動。在本實施方式中,轉軸700的一端穿設在內盤340上,另一端與底板500通過軸承連接。驅動裝置800選用電機,電機驅動轉軸700轉動時,與之連接的內盤340也會一起轉動。
在本實施方式中,當轉移單元30將孵育單元20上的反應容器12轉移至清洗單元40上後,反應容器12會隨著內盤340一起轉動。當反應容器12轉至洗滌針64正下方時,內盤340停止轉動,控制臺50會控制清洗臂60沿導軌52下降,直至洗滌針64插入反應容器12中為止。此時,磁體100貼合在反應容器12上,吸附反應液體中的磁微粒。在清洗完成後,控制臺50會控制清洗臂60沿導軌52上升,洗滌針64離開反應容器12。當清洗過的反應容器12轉至抵接構件400處時,滑塊210上的弧形塊212會與滾輪420抵接,在滾輪420的擠壓下,滑塊210朝內盤340的中心滑動,帶動磁體100遠離反應容器12,此時,轉移單元30可以將反應容器12從安裝槽310中取出。而且,這時的彈簧220處於壓縮狀態。當內盤340繼續轉動,伸縮結構200離開抵接構件400後,滑塊210在彈簧220的作用下,帶動磁體100沿內盤340的徑向朝安裝槽310移動。伸縮結構200伸長,恢復至能與反應容器12貼合的狀態。
如圖2所示,清洗臂60上還設有激發液針66。激發液針66用於向反應容器12中注入激發液。在磁體100離開反應容器12後,可以讓激發液針66插入反應容器12中向裡面注射激發液。
另,在其他實施方式中,還可以用獨立的電機或者電磁體對磁體進行單獨驅動。電機或者電磁體直接驅動磁體向反應容器12靠近或者遠離。
以上所述實施例的各技術特徵可以進行任意的組合,為使描述簡潔,未對上述實施例中的各個技術特徵所有可能的組合都進行描述,然而,只要這些技術特徵的組合不存在矛盾,都應當認為是本說明書記載的範圍。
以上所述實施例僅表達了本發明的幾種實施方式,其描述較為具體和詳細,但並不能因此而理解為對發明專利範圍的限制。應當指出的是,對於本領域的普通技術人員來說,在不脫離本發明構思的前提下,還可以做出若干變形和改進,這些都屬於本發明的保護範圍。因此,本發明專利的保護範圍應以所附權利要求為準。