光波導路徑的製造方法
2023-08-03 02:43:11 1
專利名稱：光波導路徑的製造方法
技術領域：
poi本發明涉;sje4t信、光信息處理、^fe^^學中廣泛使用的光波導 i^f聖的製造矛法。
背景技術：
0002i光波導^fHa^fe光波導i^封殳備、光絲電路、顏己^t底等光學 設備中，在光通信、光信息處理、M-tot學領域中廣泛i^皮使用。光波導 路徑，通常以規定的圖形形成作為光的逸珞的核，形成下^ir和上包層以^a
蓋該核(例如參照專利文獻l (特開2005~173039號公報))。在制itil樣的光 波導路徑時，通常在襯底上以下包層、核、上^g"這樣的順序疊層形成。
0003在M些下包層、核以;5LL^形^定的圖形時，通常作為VH^ ^M^frf吏用感光性樹脂，在形成該圖形時，定位形成與該圖形對應的開口圖形
的曝iU^模，通過該曝iy^輛射線曝光。然後，把i該 ^光後的部分，經4
曝光部分的溶)^除工序，形^L^的圖形。同一材#^成下^和對;^科己的步驟；在上i^)fbf科己上形成 金屬薄膜的步驟；形成具有it^性的第一感光性樹脂層以便^Ji述下包層以 ^Lhii^r屬薄膜的步驟；4e^上^)jl^ieJi形成的金屬薄膜作為目標定位曝 ^y^模的步驟；和通過該曝ife^模，選##^曝紅錄一感光1*#脂層中下 M上的^^部分，通itJi錄一感光IW"脂層的曝光部賴錄的步驟。其結果，在比較例l中，對準才朽己的目測是困難的。因此，核形^JU 的曝^r^膜的定位以及上包層形成用的曝it^r膜的定位比上述實施例1費時 間。
權利要求
1.光波導路徑的製造方法，其特徵在於包括在襯底上使用同一材料形成下包層和對準標記的步驟；在上述對準標記上形成金屬薄膜的步驟；形成具有透光性的第一感光性樹脂層以便覆蓋上述下包層以及上述金屬薄膜的步驟；把在上述對準標記上形成的金屬薄膜作為目標定位曝光掩模的步驟；和通過該曝光掩模，選擇性地曝光上述第一感光性樹脂層中下包層上的規定部分，通過上述第一感光性樹脂層的曝光部分形成核的步驟。
2. 才N^權利要求l所述的光波導i^聖的制妙法，絲棘於還包拾 在形成上迷核後，形成具有i^it性的第二感光4沐脂層以便在上迷襯底上M上述下^、上述金屬薄膜和上述核的步驟；4e^上述下&J:上形成的金屬薄膜作為目標對上包層形成用的曝i^"模進 4亍^M立的步驟；和通i4Ji牡^g:形成用曝iy^模，選棒^她曝^h述第^i光4謝脂層中下&Jr上的敗部分，^Jl述第4光'l^^脂層的曝光部，成為上^的步驟。
3. 才l^權利要求1或2所述的光波導5^聖的制ii^r法，其中，所述金屬薄 翻 跳 ，
4. ##權利要求1 ~3中4封可一項所述的光波導5^聖的制紗法，其中，第 一感光魁對脂層的厚度為20 nm以上。
5. 才Nt權利要求1 ~4中^f可一項所述的光波導i^聖的制妙法，其中，第 二感光幽對脂層的厚度為20 nm以上。
6. 才財居權利要求1 ~5中任何一項所述的光波導路徑的製造方法，其中，在 光波導5^聖內^^L件。
全文摘要
本發明的目的是提供一種對準標記的目測或者光學檢測容易的光波導路徑的製造方法。在襯底(1)上製造光波導路徑時，在襯底上同時用同一材料形成下包層(2)和對準標記(A)，其後，在襯底上形成核(3)形成用的感光性樹脂層(3a)以便覆蓋其金屬薄膜(B)，把可通過該感光性樹脂層(3a)檢測到的金屬薄膜(B)作為目標，對核(3)形成用的曝光掩模(M2)進行定位。
文檔編號G02B6/13GK101369036SQ200810168679
公開日2009年2月18日 申請日期2008年6月6日 優先權日2007年6月7日
發明者S·R·卡安 申請人:日東電工株式會社