雷射束照射裝置及用該裝置製造有機發光顯示裝置的方法
2023-07-05 11:48:51
雷射束照射裝置及用該裝置製造有機發光顯示裝置的方法
【專利摘要】在此提供了一種雷射束照射裝置及用該裝置製造有機發光顯示裝置的方法。雷射束照射裝置，包括：雷射源，配置成發射光；準直器，配置成校準所發射的光；掃描儀，配置成調整校準後的光以改變其照射方向；第一透鏡部，配置成聚焦調整後的光以在密封部上照射雷射束；相機，配置成接收穿過所述掃描儀的可視光；熱感應部，配置成接收穿過所述掃描儀的紅外光；以及控制部，配置成控制所述雷射束的移動方向和強度。
【專利說明】雷射束照射裝置及用該裝置製造有機發光顯示裝置的方法
[0001]相關申請的交叉引用
[0002]本申請要求於2013年5月31日提交的第10-2013-0063083號韓國專利申請的權利，該申請在此通過引用併入以用於所有目的，如同其已完全在本文中闡述。
【技術領域】
[0003]本公開涉及用於密封基板的雷射束照射裝置以及通過採用該裝置製造有機發光顯示裝置的方法。
【背景技術】
[0004]近來，可攜式和薄型式平板顯示裝置越來越多地被用作電子設備的顯示器。在平板顯示裝置中，電致發光顯示裝置為具有諸如視角寬、對比度好、以及響應時間快的特點的一種自發光型顯示裝置，並且作為下一代顯示裝置備受矚目。並且，與無機發光顯示裝置相t匕，以有機材料形成發射層的有機發光顯示裝置以較好的亮度、驅動電壓、和相應時間特點而著稱，並且可以實現多色發光。
[0005]通常，有機發光顯示裝置具有包括在一雙電極之間的發射層的、排列有一個或多個有機層的配置結構。
[0006]對有機發光顯示裝置而言，當溼氣或氧氣從周圍的環境滲透到裝置內部時電極材料可能被氧化和剝落，並且由此縮短了有機發光裝置的使用壽命、降低了發光效率、以及使得發光顏色衰退。
[0007]因此，為了防止溼氣的滲透，在有機發光顯示裝置的製造中通常地執行將有機發光裝置與外部隔離的密封工序。傳統的密封方法包括:在有機發光顯示裝置的第二電極上層疊有機薄膜和諸如聚酯纖維(PET)的有機聚合物的方法；以及在封裝基板中形成溼氣吸收劑、給封裝基板充入氮氣體、和用諸如環氧樹脂的密封劑密封封裝基板的邊緣的方法。
[0008]但是，由於這些方法無法百分之百地防止諸如溼氣和氧氣的損害性因素從外部滲透，並且這些方法實施起來非常複雜，因此在未進行修改的前提下無法將這些應用於對溼氣非常脆弱的有機發光顯示裝置。為了解決這樣的問題，開發出了通過採用諸如熔塊的密封劑提高有機發光裝置基板和封裝基板之間粘性的基板-密封方法。
[0009]通過採用以塗布在玻璃基板上的熔塊密封有機發光顯示裝置的結構，完全地密封在有機發光裝置基板和封裝基板之間的空間，因此可以更有效地保護有機發光顯示裝置。
[0010]在用諸如熔塊的密封劑密封基板的方法中，將熔塊塗布在有機發光顯示裝置的密封部上，並且雷射束照射裝置把雷射束照射在移動中的有機發光顯示裝置的密封部上以固化熔塊，從而密封基板。
【發明內容】
[0011]本發明示例性實施例提供了一種用於將期望的雷射強度局部地輸送給密封部的雷射束照射裝置，以及採用該裝置製造有機發光顯示裝置的方法。
[0012]根據本發明一示例性實施例，提供一種雷射束照射裝置，包括:雷射源，配置成發射光；準直器，配置成校準所發射的光；掃描儀，配置成調整校準後的光以改變其照射方向；第一透鏡部，配置成聚焦調整後的光以在密封部上照射雷射束；相機，配置成接收穿過所述掃描儀的可視光；熱感應部，配置成接收穿過所述掃描儀的紅外光；以及控制部，配置成控制所述雷射束的移動方向和強度。
[0013]根據一示例性實施例，提供一種雷射束照射裝置，包括:雷射源，用於發射光；準直器，配置成校準所發射的光；掃描儀，配置成調整校準後的光以改變其照射方向；第一分色鏡，配置成反射調整後的光；第一透鏡部，配置成聚焦所述反射的光以在密封部上照射雷射束；相機，配置成接收入射到第一透鏡部上並且穿過所述第一分色鏡的可視光；熱感應部，配置成接收入射到所述第一透鏡部上並且穿過所述第一分色鏡的紅外光；以及控制部，配置成控制所述雷射束的移動方向和強度。
[0014]根據一示例性實施例，提供一種採用雷射束照射裝置製造有機發光顯示裝置的方法，包括:形成有機發光部；形成圍繞所述有機發光部的密封部，所述密封部被形成在第一基板或第二基板上；對準所述第一基板和所述第二基板；以及照射雷射束，以使得所述雷射束在執行旋轉運動時沿著所述密封部移動，並且當所述雷射束執行所述旋轉運動時改變所述雷射束的強度。
[0015]應當理解，以上的總體說明和以後的詳細說明為示例性的和解釋性的，並且意在提供對要求保護的發明的進一步解釋。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0016]通過參考附圖詳細地說明示例性實施例，將使得本發明的上述特徵及其它特徵及其優點變得更為清楚。
[0017]圖1為雷射束照射裝置和有機發光顯示裝置的部分截面圖。
[0018]圖2為圖1的雷射束照射裝置和有機發光顯示裝置的部分俯視圖。
[0019]圖3為說明根據一示例性實施例的雷射束照射裝置的示意圖。
[0020]圖4為說明根據一示例性實施例的雷射束照射裝置的示意圖。
[0021]圖5為說明根據一示例性實施例的雷射束的運動路徑的示意圖。
[0022]圖6為說明根據一示例性實施例的雷射束的旋轉運動和直線運動的示意圖。
[0023]圖7為說明根據一示例性實施例的雷射束的旋轉運動中雷射束的強度變化示意圖。
【具體實施方式】
[0024]以下，參考附圖更詳細地說明本發明示例性實施例。通過包含附圖從而提供對本發明的進一步理解，附圖併入和構成本申請的一部分，其用於說明本發明的實施例，並與說明書一同用於解釋本發明的原理。
[0025]在圖中，為了清楚可能誇大了層、膜、面板、區域等的厚度。在整個說明書中，相同的附圖標記指代相同的要素。應當理解，當諸如層、膜、區域、或者基板在另一要素「上」時，其可以直接在其它要素上面或者可以存在介入要素。相反，當要素「直接」在另一要素「上」時，不存在介入要素。應當理解，為了本公開的目的，「x、Y、和Z中至少一個」可以解釋為僅X、僅Y、僅z、或者X、Y、和Z的任意兩個或多個的組合(例如，XYZ、XYY、TL、ZZ)。
[0026]圖1為有機發光顯示裝置1000和雷射束照射裝置I和2的部分截面圖。圖2為圖1的雷射束照射裝置I和2和有機發光顯示裝置1000的部分俯視圖。
[0027]參考圖1和圖2，將有機發光部30和圍繞有機發光部30的密封部40設置在第一基板10和第二基板20之間，並且將可以從雷射束照射裝置I和/或2發射的雷射束60照射在密封部40上。
[0028]根據一示例性實施例，有機發光部30形成在第一基板10上。第一基板10可以為適於支撐在其上面覆蓋的結構的基板。第一基板10可以包括:柔性材料、玻璃基板、石英基板等等。例如，可以以玻璃形成第一基板。
[0029]根據一不例性實施例，第二基板20為用於封裝形成在第一基板10上的有機發光部30的封裝基板，並且可以包括使得雷射束60穿過其中的基板，如下面將要進行說明的。第二基板20可以包括:柔性材料、玻璃基板、石英基板等等。例如，可以以玻璃形成第二基板20。
[0030]進一步地，有機發光部30可以包括:一個或多個有機發光裝置(簡稱為0LED)(未圖不)，在有機發光裝置中設置有一個或多個有機層(未圖不)，有機層包括位於第一電極(未圖示)和第二電極(未圖示)之間的發射層。在此，第一電極(未圖示)可以用作供應空穴的陽極，第二電極(未圖示)可以用作供應電子的陰極。
[0031]根據是否採用薄膜電晶體(TFT)控制OLED的驅動，可以將OLED分為無源矩陣型和有源矩陣型。本公開的示例性實施例均可應用於無源矩陣和有源矩陣型。
[0032]根據一示例性實施例，可以將密封部40形成在與上述的有機發光部30相鄰的第二基板20上。例如，可以將密封部40形成在第二基板20上以圍繞有機發光部30。
[0033]密封部40可以形成閉環，以防止有機發光部30與外部的溼氣或氧氣接觸。
[0034]如圖1和圖2所示，將形成閉環的密封部40的每個角落處形成為具有特定曲率的曲線形狀。但是該主題的示例性實施例並不限於此。例如，可以將密封部40的每個角落處形成為具有小曲率或者沒有曲率的、基本上為直角的形狀。
[0035]根據一示例性實施例，適當的密封劑可以用作確保在第一基板10和第二基板20之間的密封能力的密封部40，並且更有效地保護有機發光部30。通過諸如絲網印刷方法或筆點膠方法的多種方法，可以將密封劑形成為具有特定寬度FW。密封劑可以為有機和/或無機材料。例如，密封劑可以為熔塊。
[0036]根據一示例性實施例，在將密封部40形成在第二基板20上並且將有機發光部30形成在第一基板10上之後，可以將第一基板10和第二基板20相互對準。但是，該主題的示例性實施例並不限於此。例如，可以在將密封部40形成在已形成有有機發光部30的第一基板10上之後，將第一基板10與第二基板20進行對準和耦合。
[0037]並且，雖然在附圖中示出了提供一個有機發光部30的示例，但是本領域的普通技術人員會意識到在第一基板10和第二基板20之間可以提供多個有機發光部30和分別圍繞多個有機發光部30的多個密封部40。
[0038]雷射束照射裝置I和2可以沿著設置在第一基板10和第二基板20之間的密封部40的路徑照射雷射束60。雷射束60可以以具有平頂輪廓的點波束的形式照射在密封部40上。
[0039]根據一示例性實施例，可以將第一基板10安裝在基板臺70上，從而使得基板臺70在第一基板10下方。通過移動基板臺70，可以相對移動雷射束60照射在密封部40上的位置。可選地/附加地，通過雷射束照射裝置I和2的運動可以移動雷射束60的位置。
[0040]圖3為說明根據一示例性實施例的雷射束照射裝置I的示意圖。
[0041]參考圖3，根據一示例性實施例的雷射束照射裝置I可以包括:雷射源110、掃描儀120、第一透鏡部130、相機140、熱感應部150、控制部160、照明部170、第一分色鏡181、和第二分色鏡182。
[0042]雷射源110可以產生雷射。根據一實施例，從雷射源110可以發射具有808nm波長的雷射。
[0043]準直器115可以與雷射源110的輸出連接。準直器115將從雷射源110發射的光改變為校準光191。準直器115可以具有50nm的焦距。
[0044]可以將掃描儀120設置在來自準直器115的校準光191的路徑上。通過第一分色鏡181，可以將來自準直器115的校準光191反射到掃描儀120上。
[0045]掃描儀120可以包括:反射部(未圖不)，用於將來自準直器115的校準光191反射到密封部40上；以及驅動部(未圖示)，用於驅動反射部。反射部(未圖示)的一部分可以使用精確地控制雷射束的位置和速度的檢流計反射鏡，例如用於根據一示例性實施例的雷射束60的旋轉運動。檢流計反射鏡在450nm至2600nm波段可以具有高反射性。
[0046]根據一示例性實施例，可以將第一透鏡部130設置在穿過掃描儀120的光的路徑上。通過第一透鏡部130，可以收集穿過掃描儀120的光。第一透鏡部130可以包括F-theta透鏡。F-theta透鏡可以具有80nm的焦距。
[0047]根據一示例性實施例，被密封部40反射的所有波長的光穿過掃描儀120。
[0048]例如，被密封部40反射的可視光193入射至相機140。因此，通過相機140，可以與密封操作同步地提供與操作有關的可視信息。根據一示例性實施例，相機140可以為電荷率禹合器件(charged coupled device,簡稱為CCD)相機。
[0049]聚焦透鏡143可以與相機140耦合。聚焦透鏡143可以用於調整反饋到相機140的圖像的放大率。例如，聚焦透鏡143可以具有80nm的焦距。帶通濾波器146可以與聚焦透鏡143耦合。帶通濾波器146可以為只讓532nm至615nm波段的光穿過的濾波器。
[0050]根據一示例性實施例，被密封部40反射的紅外(IR)光194入射至熱感應部150。因此，通過熱感應部150，可以與密封操作同步地提供與密封操作有關的熱量信息。例如，熱感應部150可以為高溫計或IR相機。
[0051]聚焦透鏡153可以與熱感應部150耦合。聚焦透鏡153可以具有40nm或80nm的焦距。IR阻斷過濾器156可以與聚焦透鏡153耦合。IR阻斷過濾器156能夠防止紅外光洩漏至外部。
[0052]根據一示例性實施例，控制部160控制雷射束60的移動方向和強度。控制部160可以包括:用於控制檢流計反射鏡(未圖示)的程序，其中檢流計反射鏡(未圖示)控制雷射束60的位置和速度以使得雷射束60具有不同的強度和旋轉的移動；以及雷射驅動器，用於在雷射束60的每個旋轉運動分段中改變雷射束60的強度。
[0053]根據一示例性實施例，照明部170可以在密封部40上照射光以照亮密封部40的周圍。照明部170可以使用發光二極體(LED)，並且具有532nm波長以避免與雷射束60的波段、可以用作實時測量的可視光波段，以及可以用作實時測量的IR波段重疊。
[0054]可以將第一分色鏡181設置在穿過準直器115的光的路徑和被密封部40反射並穿過掃描儀120的所有波長的光的路徑上。第一分色鏡181可以在穿過準直器115的光波長上具有高反射率，並且可以在可視光波段和IR波段具有高透明度。例如，第一分色鏡181可以在808nm波段具有高反射率，並且可以在532nm至615nm和1.5 μ m至2.3 μ m波段具有高透明度。因此來自雷射源110和準直器115的光被第一分色鏡181反射，併入射到掃描儀120。在被密封部40反射並穿過掃描儀120的所有波長的光中，具有與來自雷射源110和準直器115的光相同的波段的光192被第一分色鏡181過濾掉。在被密封部40反射並穿過掃描儀120的所有波長的光中,可視光193和紅外光194穿過第一分色鏡181。
[0055]可以將第二分色鏡182設置在穿過第一分色鏡181的光的路徑上。第二分色鏡182可以在可視光波段具有高反射率，並且可以在IR波段具有高透明度。例如，第二分色鏡182可以在532nm至615nm波段具有高反射率，並且可以在1.5 μ m至2.3 μ m波段具有高透明度。因此，可視光193被第二分色鏡182反射併入射至相機140，並且紅外光194穿過第二分色鏡182併入射至熱感應部150。由此，通過相機140，可以與密封操作同步地提供可視信息；並且通過熱感應部150，可以與密封操作同步地提供熱量信息。
[0056]從雷射源110發射的光通過準直器115被改變為校準光191，被第一分色鏡181反射，並且入射至掃描儀120。入射至掃描儀120的光方向可以被掃描儀120改變，並且由此可以將雷射束60照射在密封部40上。
[0057]在被密封部40反射的所有波長的光中，具有與從雷射源110發射的光的波段相同的光的方向被掃描儀120改變，並且被第一分色鏡181過濾掉。在被密封部40反射的所有波長的光中，可視光193的方向被掃描儀120改變，穿過第一分色鏡181，被第二分色鏡182反射，並且照射到相機140上。在被密封部40反射的所有波長的光中，紅外光194的方向被掃描儀120改變，穿過第一分色鏡181和第二分色鏡182，並且照射到熱感應部150上。
[0058]圖4為說明根據一示例性實施例的雷射束照射裝置2的示意圖。
[0059]參考圖4，根據一示例性實施例的雷射束照射裝置2可以包括:雷射源210、掃描儀220、第二透鏡部230、相機240、熱感應部250、控制部260、照明部270、第三分色鏡281、第四分色鏡282、和第五分色鏡283。
[0060]雷射源210可以產生雷射。例如，從雷射源210可以發射具有808nm波長的雷射。
[0061]準直器215可以與雷射源210的輸出連接。準直器215將從雷射源210發射的光改變為校準光291。準直器215可以具有30nm焦距。
[0062]可以將掃描儀220設置在來自準直器215的校準光291的路徑上。來自準直器215的校準光291可以直接地入射至掃描儀220。
[0063]掃描儀220可以包括:將來自準直器215的校準光291反射到密封部40的反射部(未圖示)；以及驅動反射部的驅動部(未圖示)。反射部(未圖示)的一部分可以使用檢流計反射鏡，根據一示例性實施例，所述檢流計反射鏡對於雷射束60的旋轉運動精確地控制雷射束的位置和速度。檢流計反射鏡可以在808nm波段具有高反射率。
[0064]根據一示例性實施例，可以將第二透鏡部230設置在穿過掃描儀220的光292的路徑上。穿過掃描儀220的光292可以被第三分色鏡281反射，並且照射在第二透鏡部230上。穿過掃描儀220的光292可以被第二透鏡部230收集。第二透鏡部230可以包括F-theta透鏡。F-theta透鏡可以具有2」到3」的尺寸。
[0065]根據一示例性實施例，被密封部40反射的所有波長的光穿過第二透鏡部230。
[0066]例如，被密封部40反射的可視光293入射至相機240。通過相機240，可以與密封操作同步地提供與操作相關的可視信息。相機240可以為CCD相機。
[0067]聚焦透鏡243可以與相機240耦合。聚焦透鏡243可以用於調整反饋到相機240的圖像的放大率。聚焦透鏡243可以具有10nm的焦距。帶通濾波器246可以與聚焦透鏡243耦合。帶通濾波器246可以為只允許525nm波段的光穿過的濾波器。
[0068]根據一示例性實施例，被密封部40反射的紅外光294入射至熱感應部250。因此，通過熱感應部250，可以與密封操作同步地提供與操作有關的熱量信息。熱感應部250可以為高溫計或IR相機。
[0069]IR阻斷過濾器256可以與熱感應部250耦合。阻斷過濾器256能夠隔絕具有與雷射源210的光的波長相同的波長的光。IR阻斷過濾器256可以隔絕具有808nm波長的光，由此可以只讓紅外光到達熱感應部150。
[0070]根據一示例性實施例，控制部260控制雷射束60的移動方向和強度。控制部260可以包括:用於控制檢流計反射鏡(未圖示)的程序，其中檢流計反射鏡(未圖示)控制雷射束60的位置和速度以使得雷射束60具有不同的強度和旋轉的移動；以及雷射驅動器，用於在雷射束60的每個旋轉運動分段中改變雷射束60的強度。
[0071]根據一示例性實施例，照明部270在密封部40上照射光以照亮密封部40的周圍。照明部270可以使用發光二極體，並且具有532nm波長以避免與雷射束60的波段、可以用作實時測量的可視光波段、以及可以用作實時測量的IR波段重疊。
[0072]可以將第三分色鏡281設置在穿過掃描儀220的光292的路徑上和被密封部40反射並穿過第二透鏡部230的所有波長的光的路徑上。第三分色鏡281可以在雷射源210的波段具有高反射率，並且可以在可視光波段和IR波段具有高透明度。例如，第三分色鏡281可以在808nm波段具有高反射率，並且可以在532nm波段和1，OOOnm至7，OOOnm波段具有高透明度。因此來自掃描儀220的光被第三分色鏡281反射，並且入射至第二透鏡部230。在被密封部40反射並穿過第二透鏡部230的所有波長的光中，具有與來自雷射源210和準直器215的光相同的波段的光292被第三分色鏡281過濾掉。在被密封部40反射並穿過第二透鏡部230的所有波長的光中，可視光293和紅外光294穿過第三分色鏡281。
[0073]可以將第四分色鏡282設置在穿過第三分色鏡281的光的路徑上。第四分色鏡282可以在可視光波段具有高反射率，並且可以在IR波段具有高透明度。例如，第四分色鏡282可以在525nm波段具有高反射率，並且可以在100nm至7000nm波段具有高透明度。因此，可視光293被第四分色鏡282反射，而紅外光294穿過第四分色鏡282併入射至熱感應部250。由此，通過熱感應部250，可以與密封操作同步地提供與操作有關的熱量信息。
[0074]可以將第五分色鏡283設置在被第四分色鏡282反射的光的路徑上。第五分色鏡283可以在可視光波段具有高反射率。例如，第五分色鏡283可以在525nm波段具有高反射率。因此，可視光293被第五分色鏡283反射，並且入射至相機240。由此，通過相機240，可以與密封操作同步地提供與操作相關的可視信息。
[0075]從雷射源210發射的光通過準直器115被改變為校準光291，並且入射至掃描儀220。通過掃描儀220可以改變入射至掃描儀220的光方向，並且穿過掃描儀220的光292被第三分色鏡281反射。被第三分色鏡281反射的光可以被第二透鏡部230收集，由此可以將雷射束60照射到密封部40上。
[0076]在被密封部40反射的所有波長的光中，具有與從雷射源210發射的光的波段相同的光穿過第二透鏡部230，並且被第三分色鏡281過濾掉。在被密封部40反射的所有波長的光中，可視光293穿過第二透鏡部230和第三分色鏡281，被第四分色鏡282和第五分色鏡283反射，並且照射到相機240上。在被密封部40反射的所有波長的光中，紅外光294依次穿過第二透鏡部230、第三分色鏡281、和第四分色鏡282，並照射到熱感應部250上。
[0077]圖5為說明根據一不例性實施例的雷射束60的運動路徑P的不意圖。圖6為說明根據一示例性實施例的雷射束60的旋轉運動R和直線運動T的示意圖。圖7為說明根據一示例性實施例的雷射束60的旋轉運動R中雷射束60的強度變化示意圖。
[0078]參考圖5和圖6，根據一示例性實施例的雷射束60具有結合有旋轉運動R和直線運動T的運動路徑P，並且沿著密封部40的密封路徑緩慢移動。如上所述，可以將雷射束60的運動路徑P設計為具有例如適當地相互重疊的環形軌跡。就是說，可以有意地將環形軌跡適當地予以相互重疊，從而將最適宜的能量傳輸給熔塊以有效地進行密封。雷射束60可以以特定的旋轉半徑r0執行旋轉運動R。雷射束60可以以具有平頂輪廓的點波束形式進行照射。參考圖6，雷射束60以點波束的形式圍繞軸線執行旋轉半徑為r0的旋轉運動R0根據一示例性實施例，當點波束的中心點畫一個圓回到原點時，雷射束60可以完成旋轉運動R的一個環(或者一個周期)。
[0079]通過掃描儀120和220和控制部160和260，可以執行雷射束60的旋轉運動R。通過線性電機可以移動雷射束照射裝置I和2，從而雷射束60可以執行直線運動T。並且，位於密封部40下方的基板臺70移動，從而雷射束60可以執行直線運動T。
[0080]為了使得期望的光束變形(morphing)成為可能，雷射束60的截面直徑應當足夠大，但是可以小於密封部40的寬度FW。具體地，點波束的直徑可以為熔塊寬度的1/4至3/4倍。
[0081]進一步地，根據一示例性實施例，在執行點波束的旋轉運動R過程中，基本上為環狀的點波束可以被旋轉，從而在旋轉一個圓周期間其環形軌跡不會重疊。因此，點波束的最小旋轉半徑可以被確定為在旋轉一個圓周期間點波束的環形軌跡不重疊的最小的旋轉半徑。因此，最小的旋轉半徑可以為點波束的半徑。例如，當點波束的直徑為1.3_時，點波束旋轉運動R的最小的旋轉半徑為0.65mm。例如，當點波束的直徑為1.3mm,並且點波束旋轉運動R的最小的旋轉半徑r0為1.3mm時,基於點波束旋轉運動R的最外面的圓周的直徑為 3.9mm。
[0082]雷射束60可以以比直線運動T更快的速度循環地執行旋轉運動R。當熔塊寬度為10mm時，點波束旋轉運動R的旋轉頻率可以為50Hz或更高。例如，旋轉頻率可以在40 - 60Hz範圍內。雷射束60以高速循環地執行旋轉運動R，從而使得期望的光束變形成為可能。
[0083]參考圖7，當雷射束60執行旋轉運動R時，可以改變雷射束60的強度。
[0084]雷射束60具有結合有旋轉運動R和直線運動T的運動路徑P，並且雷射束60的強度在旋轉運動R的每個分段中被改變。因此，使得期望的光束變形變為可能，並且可以將期望的多樣化的雷射強度傳輸給熔塊。
[0085]根據一示例性實施例，將旋轉運動R路徑的圓周以特定的角度α分割為多個分段，並且分段可以有不同的雷射強度。通過控制部160和260的雷射驅動器支持這些變化。根據一示例性實施例，可以以45度間隔分割旋轉運動R路徑的圓周。因此，可以將旋轉運動R路徑的圓周分割為第一分段S1、第二分段S2、第三分段S3、第四分段S4、第五分段S5、第六分段S6、第七分段S7、和第八分段S8。第一分段SI具有第一雷射束強度，第二分段S2具有第二雷射束強度，第三分段S3具有第三雷射束強度，第四分段S4具有第四雷射束強度，第五分段S5具有第五雷射束強度,第六分段S6具有第六雷射束強度,第七分段S7具有第七雷射束強度，以及第八分段S8具有第八雷射束強度。
[0086]雷射束60具有結合有旋轉運動R和直線運動T的運動路徑P，旋轉運動R路徑的圓周被分割為具有不同強度的8個分段，並且控制8個分段的強度，由此實現了期望的光束輪廓。因此，在熔塊下部層的類型被局部地改變或其幾何形狀被改變的分段中，光束輪廓可根據改變隨時調整，從而防止了對局部排線等的損傷。並且，熔塊角落處內部的雷射強度應當減少到約角落處外部的雷射強度的一半，並且由於可以在角落處調整光束輪廓，因此可以維持角落處的外部和內部的密封質量一致。
[0087]根據本發明的示例性實施例，在未對周圍器件進行熱損壞的前提下可以執行高質量熔塊密封工序。
[0088]雖然參考示例性實施例圖示並說明了本發明，但是本領域的普通技術人員會理解在未脫離本發明宗旨和權利要求書確定的範圍的前提下可進行多種在形式上和細節上的改變。
【權利要求】
1.一種雷射束照射裝置，包括: 雷射源，配置成發射光； 準直器，配置成校準所發射的光； 掃描儀，配置成調整校準後的光以改變其照射方向； 第一透鏡部，配置成聚焦調整後的光以在密封部上照射雷射束； 相機，配置成接收穿過所述掃描儀的可視光； 熱感應部，配置成接收穿過所述掃描儀的紅外光；以及 控制部，配置成控制所述雷射束的移動方向和強度。
2.根據權利要求1所述的雷射束照射裝置，進一步包括: 分色鏡，配置成將來自所述準直器的校準後的光反射至所述掃描儀，並且對具有與雷射相同的波長並且入射到所述掃描儀的光進行過濾。
3.根據權利要求1所述的雷射束照射裝置，進一步包括: 分色鏡，配置成將所述可視光反射到所述相機上，並且使得所述紅外光穿過並照射到所述熱感應部上。
4.根據權利要求1所述的雷射束照射裝置，進一步包括: 照明部，配置成將照明光照射在所述密封部上。
5.根據權利要求1所述的雷射束照射裝置，其中， 所述控制部進一步配置成使所述雷射束在執行旋轉運動時沿著第一方向移動。
6.根據權利要求5所述的雷射束照射裝置，其中， 所述旋轉運動的頻率在50 - 60Hz範圍內。
7.根據權利要求5所述的雷射束照射裝置，其中， 所述控制部進一步配置成將所述雷射束的所述旋轉運動控制為使得所述雷射束形成在一個旋轉運動周期期間不重疊的軌跡。
8.根據權利要求5所述的雷射束照射裝置，其中， 所述掃描儀包括:檢流計反射鏡，配置成使得所述旋轉運動能夠實現；以及 所述控制部配置成控制所述檢流計反射鏡。
9.一種採用雷射束照射裝置製造有機發光顯示裝置的方法，所述方法包括: 形成有機發光部； 形成圍繞所述有機發光部的密封部，所述密封部被形成在第一基板或第二基板上； 對準所述第一基板和所述第二基板；以及 照射雷射束，以使得所述雷射束在執行旋轉運動時沿著所述密封部移動，以及當所述雷射束執行所述旋轉運動時改變所述雷射束的強度。
10.根據權利要求9所述的方法，其中， 所述第一基板和第二基板中的至少一個使得所述雷射束穿過。
11.根據權利要求9所述的方法，其中， 所述旋轉運動的頻率在50 - 60Hz範圍內。
12.根據權利要求9所述的方法，其中， 所述旋轉運動被執行為使得所述雷射束形成在一個旋轉運動周期期間不重疊的軌跡。
13.根據權利要求9所述的方法，其中， 通過掃描儀執行所述旋轉運動，所述掃描儀包括配置成改變所述雷射束的照射方向的檢流計反射鏡；以及 通過控制部控制所述檢流計反射鏡，所述控制部配置為控制所述檢流計。
14.根據權利要求9所述的方法，其中， 通過所述雷射束照射裝置，以小於所述旋轉運動速度的速度執行沿著所述第一方向的直線運動。
15.根據權利要求9所述的方法，其中， 當所述雷射束執行所述旋轉運動時，以45度間隔控制所述雷射束的所述強度。
16.根據權利要求9所述的方法，其中， 以點波束的形式照射所述雷射束，以及 通過包括程序以進行控制的控制部控制所述雷射束的強度和移動方向。
17.根據權利要求16所述的方法，其中， 所述點波束的直徑小於所述密封部的寬度。
18.根據權利要求9所述的方法，其中， 所述密封部包括熔塊。
19.根據權利要求18所述的方法，其中， 所述熔塊形成閉環以圍繞所述有機發光部。
【文檔編號】H01L51/56GK104347823SQ201410231251
【公開日】2015年2月11日 申請日期:2014年5月28日 優先權日:2013年5月31日
【發明者】李廷敏, 亞歷山大·奧洛溫斯基, 埃爾馬·格倫, 海德龍·金德 申請人:三星顯示有限公司, 弗勞恩霍夫應用研究促進協會