衝洗噴嘴和洗淨設備的製作方法
2023-07-19 00:24:11
專利名稱：衝洗噴嘴和洗淨設備的製作方法
技術領域：
本發明是關於一種衝洗噴嘴和採用該衝洗噴嘴的洗淨設備，特別是一種適用於對基板進行清洗的衝洗噴嘴和採用該衝洗噴嘴的洗淨設備。
背景技術：
在半導體和液晶顯示器的製程中，都需用到大量純水對晶圓或玻璃基板進行清洗，被洗淨後的晶圓或玻璃基板才能投入下一工序。
上述清洗製程中相應需要採用洗淨設備進行清洗，一種現有技術的洗淨設備如圖1所示，該洗淨設備1包括一刷洗槽11、一高壓衝洗槽12、一終洗槽13和一乾燥室14。該刷洗槽11、高壓衝洗槽12、終洗槽13和乾燥室14順次相連。
該洗淨設備1的作業流程如圖2所示，詳述如下。
首先，將一待清洗的基板2置入該刷洗槽11內，多個滾筒111支撐該基板2並將其向前傳送，同時，該刷洗槽11內的多個刷洗裝置112移動毛刷113，使該毛刷113接觸該基板2，進行刷洗動作。該毛刷113可以採用旋轉的方式對基板2的兩表面21、22進行刷洗，也可依靠基板2自身的移動進行刷洗。該刷洗槽11內的基板2一般是水平放置。
經刷洗後的基板2被傳送到高壓衝洗槽12的多個滾筒121上，該高壓衝洗槽12內設置有多個高壓衝洗噴嘴122，該衝洗噴嘴122內的水壓一般為6到10Mpa，其分別對基板2的兩表面21、22進行純水衝洗，以高壓使純水對基板2產生一定衝擊力，從而衝洗掉基板2上的異物。
經高壓衝洗後的基板2被傳送到終洗槽13內的多個滾筒131上，該終洗槽13內設置有多個衝洗噴嘴132，該衝洗噴嘴132內的水壓一般為0.4Mpa，其分別對基板2的兩表面21、22進行純水衝洗，以徹底洗淨基板2。
最後，被洗淨的基板2被傳送到乾燥室14內的多個滾筒141上，該乾燥室14內設置多個氣刀(Air Knife)142，該氣刀142將高壓空氣連續噴射到基板2的兩表面21、22，將基板2上的殘留的純水蒸發掉。
一起參照圖3和圖4，基板2在高壓衝洗槽12和終洗槽13內傳輸時，是與水平面3成一定角度θ，以便於噴射到基板2上純水自高處向低處流動。而且，該現有技術洗淨設備1所採用噴嘴122的多個噴水孔1221是以孔徑相同、間距一致的方式設置。該終洗槽13內的衝洗噴嘴132的設計也與噴嘴122相同。
但是，該洗淨設備1存在如下缺點因為該衝洗噴嘴122的噴水孔1221是以孔徑相同、間距一致的方式設置，正對傾斜基板2高處的噴水孔1221將純水噴射到基板2後，該純水會自動流往傾斜基板2的低處，進而對基板2的低處產生清洗作用，而正對傾斜基板2低處的噴水孔1221依然將相同量的純水噴射到基板2，該低處的純水僅對基板2低處進行衝洗後，隨即流掉，該種衝洗噴嘴122的設計容易導致大量純水的浪費。
發明內容為克服現有技術的衝洗噴嘴容易導致大量純水浪費的問題，本發明提供一種可節省純水使用量的衝洗噴嘴。
本發明還提供一種採用上述衝洗噴嘴的洗淨設備。
本發明解決技術問題所採用的技術方案是提供一種衝洗噴嘴，其包括一管體和多個孔，該管體內具有流體通道，該多個孔朝同一方向設置在該管體上，其孔徑沿管體逐漸減小。
本發明的洗淨設備包括一衝洗噴嘴，該衝洗噴嘴包括一管體和多個孔，該管體內具有流體通道，該多個孔朝同一方向設置在該管體上，其孔徑沿管體逐漸減小。
相較於現有技術，因為本發明衝洗噴嘴的多個孔是將孔徑沿管體逐漸減小設計，在對傾斜設置的基板進行清洗時，孔徑大的孔正對基板的高處，孔徑小的孔正對基板的低處，孔徑大的孔噴射出較多量的純水對基板進行清洗，而且該純水同時流動至基板的低處，起到清洗作用，相應，正對基板低處的孔即可噴射少量的純水，對基板低處進行清洗，本發明的衝洗噴嘴既可以起到對基板的洗淨作用，同時又可以節省純水的使用量。
圖1是一種現有技術洗淨設備的平面示意圖。
圖2是圖1所示的洗淨設備的作業流程示意圖。
圖3是圖2所示的洗淨設備的衝洗噴嘴的平面示意圖。
圖4是圖2所示的洗淨設備的衝洗噴嘴與基板的位置關係示意圖。
圖5是本發明衝洗噴嘴第一實施方式的平面示意圖。
圖6是本發明衝洗噴嘴的第一實施方式與基板的位置關係示意圖。
圖7是本發明衝洗噴嘴第二實施方式的平面示意圖。
圖8是本發明衝洗噴嘴第二實施方式的立體示意圖。
具體實施方式
如圖5所示，是本發明衝洗噴嘴第一實施方式的平面示意圖。該衝洗噴嘴5包括一管體51和多個噴水孔52，其中，該管體51為圓筒狀，其內具有流體通道，該多個噴水孔52是朝同一方向設置在該管體51上，其孔徑沿管體51逐漸減小，而且，該多個噴水孔52是在該管體51上以間距L逐漸減小分布。
如圖6所示，本發明衝洗噴嘴5在對傾斜設置的基板4進行清洗時，孔徑大的孔52正對基板4的高處，孔徑小的孔52正對基板4的低處，孔徑大的孔52噴射出較多量的純水(圖未示)對基板4進行清洗，而且該純水同時流動至基板4的低處，起到清洗作用，相應，正對基板4低處的孔52即可噴射少量的純水，對基板4低處進行清洗，本發明的衝洗噴嘴5可以起到對基板4的洗淨作用，同時可以節省純水的使用量。
如圖7和圖8所示，分別是本發明衝洗噴嘴第二實施方式的平面示意圖和立體示意圖。該衝洗噴嘴7包括一管體71和多個噴水孔72，其中，該管體71為圓筒狀，其內具有流體通道，該多個孔72是朝同一方向設置在該管體71上，其孔徑沿管體71逐漸減小，而且，該多個孔72是在該管體71上以等間距E分布。
本發明的衝洗噴嘴5、7均可取代現有技術洗淨設備所用的噴嘴，從而形成本發明的洗淨設備，其也可達到節省純水使用量的效果，在此不再對本發明的洗淨設備進行贅述。
權利要求
1.一種衝洗噴嘴，其包括一管體和多個孔，該管體內具有流體通道，該多個孔設置在該管體上，其特徵在於該多個孔朝同一方向設置，其孔徑沿管體逐漸減小。
2.如權利要求1所述的衝洗噴嘴，其特徵在於該多個孔在該管體上是以等間距分布。
3.如權利要求1所述的衝洗噴嘴，其特徵在於該多個孔在該管體上是以間距逐漸減小分布。
4.一種洗淨設備，包括一衝洗噴嘴，該衝洗噴嘴具有一管體和多個孔，該管體內具有流體通道，該多個孔設置在該管體上，其特徵在於該多個孔朝同一方向設置，其孔徑沿管體逐漸減小。
5.如權利要求4所述的洗淨設備，其特徵在於該多個孔在該管體上是以等間距分布。
6.如權利要求4所述的洗淨設備，其特徵在於該多個孔在該管體上是以間距逐漸減小分布。
7.如權利要求4所述的洗淨設備，其特徵在於進一步包括一清洗槽，該衝洗噴嘴設置在該清洗槽內。
8.如權利要求4所述的洗淨設備，其特徵在於進一步包括一刷洗槽，該刷洗槽與該清洗槽相連。
9.如權利要求4所述的洗淨設備，其特徵在於進一步包括一乾燥室，該乾燥室與該清洗槽相連。
10.如權利要求9所述的洗淨設備，其特徵在於該乾燥室設置多個氣刀。
全文摘要
本發明公開一種衝洗噴嘴，其包括一管體和多個孔，該管體內具有流體通道，該多個孔朝同一方向設置在該管體上，其孔徑沿管體逐漸減小。本發明還提供一種採用上述衝洗噴嘴的洗淨設備。
文檔編號B05B1/20GK1695818SQ20041002726
公開日2005年11月16日 申請日期2004年5月15日 優先權日2004年5月15日
發明者陳奕諺, 詹育穎, 許文誠, 王敬龍 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司, 群創光電股份有限公司