光固化性轉印片、使用該轉印片製備光信息記錄介質的方法和光信息記錄介質的製作方法

2023-05-27 16:21:46

專利名稱：：光固化性轉印片、使用該轉印片製備光信息記錄介質的方法和光信息記錄介質的製作方法
技術領域：
：本發明涉及一種如DVD(數字通用光碟)或CD(光碟)等將大容量的文字、聲音、動畫圖像等信息以數位訊號的方式被記錄和/或可記錄的光信息記錄介質、其製備方法以及可有利地用於所述光信息記錄介質及其製備方法的光固化性轉印片。
背景技術：
：對於在表面上形成凹坑作為數位訊號的已經記錄的光信息記錄介質，廣泛-使用音頻用CD、CD-ROM。最近，也能記錄動畫圖像等的在兩面凹坑記錄的DVD作為CD的下一代記錄介質受到注目，並且逐漸被使用。另外，形成凹坑(pit)和溝槽(groove)的、使用者可記錄的CD-R、CD-RW、DVD-R、DVD畫RW等也被使用。在兩面具有記錄層的DVD中，例如已知有兩面讀耳又方式的DVD，其在分別在一個面上形成有信號碼的兩片透明樹脂基板的該信號碼形成面上分別形成反射層，在這些反射層相互面對的狀態下通過粘合劑層將基板貼合併接合；以及單面讀取方式的DVD，其在分別在一個面上形成信號碼的基板中，在一個基板的信號碼面上形成半透明反射層，並且在另一個基板的信號碼面上形成反射層，在使這些半透明反射層與反射層相面對的狀態下通過粘合劑層將基板貼合併接合。以往，如下進行兩面讀取DVD的製造通常使用具有與前述信號凹坑的凹凸互補配合的凹凸的印模(stamper),將聚碳酸酯樹脂熔融、注塑成型，由此製備6基板，通過濺射等在該凹凸表面沉積鋁等金屬從而形成反射層，以反射層相對的方式用粘合劑將兩片形成有該反射層的透明樹脂基板貼合。2002年2月10日提出了下一代光碟的統一標準"藍光光碟(Blu國rayDisc)"。主要的規格包括記錄容量23.3/25/27GB;雷射波長405nm(藍紫色雷射)；鏡頭數值孔徑(N/A):0.85;光碟直徑120mm;光碟厚度1.2mm;磁軌間距0.32ium等。在上述藍光光碟中，溝的寬度變窄，而且凹坑的尺寸也變小。因此，需要減小讀取雷射的光點，但在減小光點時，容易受到光碟傾斜的影響，想要再現的DVD即使具有輕微彎曲也不能再現。為了彌補這種不利因素，考慮減小基板的厚度，另夕卜，使雷射照射側的凹坑上的覆蓋層的厚度為大約O.lmm。非專利文獻1的68頁記載了符合上述要求的DVD的製造方法。參照圖8來說明。在凹凸表面上具有反射層(或記錄層)6a的光碟基板(l.lmm)4a的該反射層上通過塗布來設置紫外線固化樹脂5A,在凹凸表面上具有反射層(或記錄層)的聚碳酸酯制的印模4b的上面通過塗布來設置紫外線固化樹脂5B。然後，將基板翻轉，將基板和印模粘貼，從印模側照射紫外線而使紫外線固化樹脂5A和5B固化。從紫外線固化樹脂5B的層除去印模4b,在該凹凸面上形成反射層(或記錄層)6b,再於其上形成覆蓋層(厚度約0.1mm)7。在上述方法中，在光碟基板和印模的表面上通過塗布來設置紫外線固化樹脂，此後將該基板翻轉並且與印模粘貼。這樣，需要進行塗布和翻轉的複雜工序，另外，所存在的問題是，在翻轉而將基板與印模粘貼時，具有在粘稠的紫外線固化樹脂相互接觸時產生氣泡等缺點，並且不能實現良好的粘貼。此外，還存在上述紫外線固化樹脂在固化時大幅收縮、所得介質的翹7曲等變形非常顯著的問題。專利文獻l(日本特開2003-272244號公報)公開了能夠改善上述問題的DVD等的光信息記錄介質的製備方法。在該專利中記載了使用包括光固化性組合物的光固化性轉印片的製造方法，該光固化性組合物包含具有光聚合性官能團的反應性聚合物並且通過加壓可變形。也就是說，使用固體狀的上述光固化性轉印片代替上述紫外線固化性樹脂，通過擠壓印模來轉印凹凸面從而能夠避免上述問題。此外，專利文獻2(日本特開2003-123332號乂>才艮)記載了使用具有光聚合性官能團的反應性聚合物的光碟製造用片材。使用使異氰酸甲基丙烯醯氧基乙酯與丙烯酸類共聚物反應而獲得的重均分子量(Mw)600000的聚合物作為光碟製造用片材。專利文獻l:曰本淨爭開2003-272244號/>淨艮專利文獻2:日本特開2003-123332號7>才艮非專利文獻l:NIKKEIELECTRONICS,2001.11.5號
發明內容發明要解決的問題然而，上述光固化性轉印片或光碟製造用片材在紫外線照射而固化時的速度緩慢，用照射時間約1秒(大約300mJ/cm2)的光能量難以獲得充分的固化狀態。因此，在要求該程度的固化速度的實際過程中，上述片材不能令人滿意。這種固化不充分的轉印片不能維持已轉印的凹坑形狀，具有凹坑形狀隨時間變形的問題。另外，在後者的光碟製造用片材中，所使用的聚合物的玻璃化轉變溫度(Tg)很高，也具有凹坑的轉印性差的問題。因此，本發明的目的是提供光固化性轉印片，該光固化性轉印片有利於製造DVD等厚度薄、高容量的光信息記錄介質，並且凹坑等的轉印性和固化性優異。另外，本發明的目的是提供光固化性轉印片，該光固化性轉印片有利於製造DVD等厚度薄、高容量的薄的光信息記錄介質，並且凹坑等的轉印性和固化性優異，而且即使在長條狀片材的巻材狀態下，光固化性轉印層的成分也無滲出，不會引起片材厚度的變動。此外，本發明的目的是提供上述光信息記錄介質的製造方法。還有，本發明的目的是提供由上述製造方法獲得的厚度薄的光信息記錄介質。用於解決問題的方法上述目的通過光固化性轉印片來實現，其特徵在於，所述光固化性轉印片具有由通過加壓可變形的光固化性組合物形成的光固化性轉印層，光固化性組合物含有玻璃化轉變溫度為80°C以上的聚合物和具有光聚合性官能團的反應性稀釋劑。上述本發明的光固化性轉印片的優選實施方案如下所述。1)上述組合物的玻璃化轉變溫度低於20。C。這樣容易獲得優異的轉印性。2)在上述光固化性轉印片中，紫外線照射前的光固化性轉印層的初始應力為600Pa以下，且變成該初始應力的1/e時的+〉弛時間為10秒以下(通過進行蠕變恢復測定來獲得該初始應力和鬆弛時間)。在該情況下，通常，光固化性轉印層的300mJ/cm2的照射量的紫外線照射後的玻璃化轉變溫度為65。C以上。具有上述特定的初始應力和鬆弛時間的光固化性轉印片尤其耐溼熱性等的加速試驗(尤其試驗後的信號的讀取性)沒有9問題，具有優異的耐久性。也就是說，根據本發明人的研究，即使前述短時間的紫外線照射，通過改變反應性稀釋劑等來固化其本身是可能的，但所存在的問題是，殘留應變大，凹坑形狀等隨時間變化，信號讀取的精度降低，例如，光信息記錄介質(光碟)在進行耐溼熱性(80°Cx85%x240h)等耐久性加速試驗時，在試驗後的信號讀取性方面具有問題。尤其，這點已被解決。還有，詳細地說，上述初始應力和鬆弛時間如下來獲得在平行板夾具中在測定溫度50。C、位移10%的條件下對厚度200|im、直徑8mm的樣品片進行蠕變恢復測定。其中，在本發明中，作為裝置，使用粘彈性測定裝置RheoStressRS300進行。上述位移10%的位移相當於下述定義的應變(y:%)。即，用下述式表示，y(%)=R6/hxlOO=6/tan6x100位移10。/。是指該y為10%。R、e和h的關係在圖7中示出。圖6示出了本發明中的初始應力So、以及應力(S)變成So/e時的鬆弛時間^的關係。示出了在上述條件下對轉印層施加應變，並且相對於該應變的初始應力So在除去應變後的應力變化。3)對光固化性轉印層照射t2時間(秒)紫外線後的、用下述式表示的剩餘應力S為500Pa以下，s=s0xe-t2/tl另外，用於獲得上述剩餘應力的照射時間t2如下述來求出。將與測定上述初始應力和+〉弛時間相同的^=羊品在23。C下{呆管48小時之後，使用該樣品，照射紫外線直至達到基準硬度(通常80N/mm(用樣i小硬度計(FisherInstruments^^司製造)測定))，求出用於達到該基準硬度所需的照射時間12,使用該值，通過上述式求得剩餘應力S。因此，照射時間t2是指光固化性轉印層的紫外線照射後的硬度變成80N/mm所需的時間。本發明的光固化性轉印片如上所述固化的轉印層的玻璃化轉變溫度為65。C以上，由此可以實現凹坑形狀的穩定化。進而，通過保持該硬度，同樣可以促進凹坑形狀的穩定化。上述鬆弛時間通常在0.5~8秒的範圍。4)玻璃化轉變溫度為80°C以上的聚合物是丙烯酸類樹脂。5)上述丙烯酸類樹脂是含有至少50質量％曱基丙烯酸甲酯重複單元的丙烯酸類樹脂。通過與反應性稀釋劑適當組合，容易同時獲得良好的轉印性和優異的固化性。6)上述丙烯酸類樹脂是具有聚合性官能團的丙烯酸類樹脂。7)丙烯酸類樹脂是曱基丙烯酸甲酯、醇殘基為碳原子數2~IO個的烷基的(曱基)丙烯酸酯的至少一種、以及(曱基)丙烯酸縮水甘油酯的共聚物，而且，該縮水甘油基與具有聚合性官能團的羧酸反應得到的物質。通過與反應性稀釋劑適當組合，容易同時獲得良好的轉印性和優異的固化性。8)丙烯酸類樹脂是甲基丙烯酸曱酯、醇殘基為碳原子數2~IO個的烷基的(曱基)丙烯酸酯的至少一種、以及具有聚合性官能團的羧酸的共聚物，而且，該羧酸基與(曱基)丙烯酸縮水甘油酯反應得到的物質。通過與反應性稀釋劑適當組合，容易同時獲得良好的轉印性和優異的固化性。9)丙烯酸類樹脂是具有羥基的丙烯酸類樹脂。10)上述具有羥基的丙烯酸類樹脂是甲基丙烯酸曱酯、醇殘基為碳原子數2IO個的烷基的(甲基)丙烯酸酯的至少一種、以及醇殘基為具有羥基的碳原子數為24個的烷基的(曱基)丙烯酸酯的至少一種的共聚物。具有50質量％以上的甲基丙烯酸甲酯是特別優選的。通過與反應性稀釋劑適當組合，容易同時獲得良好的轉印性和優異的固化性。11)此外還包含多異氰酸酯(優選二異氰酸酯)。可以後交聯，以提高轉印前的薄膜的形狀保持性。12)玻璃化轉變溫度為80°C以上的聚合物的重均分子量為100000以上。重均分子量4爭另'J^尤選為100000~300000。^口後述，通過合適地設定所述分子量、丙烯酸類樹脂的組成和反應性稀釋劑的比例，可以獲得優異的轉印性和高的固化速度。13)玻璃化轉變溫度為80°C以上的聚合物含有0.1~10molo/o羥基。14)光固化性組合物含有O.l~10質量％光聚合引發劑。15)380~420nm波長區域的透光率為70。/o以上。16)380~800nm波長區域的透光率為70。/。以上。17)光固化性轉印層的厚度為5~300|im。18)在光固化性轉印層的一個或兩個表面上設有剝離片。19)光固化性轉印片為長條狀，且光固化性轉印層與剝離片的寬度基本相同。本發明涉及光信息記錄介質的製造方法，其特徵在於，包括下述工序(2)~(4):(2)在上述光固化性轉印片的兩面具有剝離片時，除去其中一個剝離片的工序；(3)在表面上具有作為記錄凹坑和/或溝槽的凹凸、進而沿著該凹凸表面的凹凸設置有反射層的基板的該反射層上，按照該光固化性轉印片的光固化性轉印層的表面與該反射層的凹凸表面接觸的方式設置並擠壓它們，形成該光固化性轉印片的表面沿著該反射層的凹凸表面密合的層壓體的工序；以及(4)從該層壓體除去另一個剝離片的工序。上述本發明的製造方法的優選實施方案如下所述。1)在前述工序(2)之前，進行如下工序(1)將光固化性轉印片衝裁為圓盤狀的工序；或者(1)將光固化性轉印片的光固化性轉印層與一個剝離片衝裁為圓盤狀，另一個剝離片保持原樣的工序。2)在進行前述工序(4)之後，進一步包括如下工序(5)將具有作為記錄凹坑和/或溝槽的凹凸的印;f莫的該凹凸表面設置在該層壓體的除去了剝離片的光固化性轉印層的表面上並擠壓它們，形成該光固化性轉印片的表面沿著該凹凸表面粘合的層壓體的工序；(6)通過紫外線照射將具有該印模的層壓體的光固化性轉印層固化，然後除去印模，由此，在光固化性轉印層的表面上設置凹凸的工序。3)以300~畫mJ/cm2(尤其300mJ/cm2)進行前述(6)的紫外線照射。顯示優異的固化性。4)進行0.5~1.5秒紫外線照射。可以進行高速固化。5)在前述(6)中獲得的光固化性轉印層的玻璃化轉變溫度為80。C以上。6)在進行前述工序(5)~(6)之後，進一步包括(7)在光固化性轉印層的凹凸表面上設置反射層的工序。此外，本發明涉及通過上述製造方法獲得的光信息記錄介質。也就是說，一種光信息記錄介質，例如，所述光信息記錄介質是在表面上具有作為記錄凹坑和/或溝槽的凹凸，此外沿著該凹凸表面的凹凸設置有反射層(也包括半透明反射層)的基板的該反射層上包含光固化性組合物的固化層，所述固化層設置成與該反射層的凹凸表面接觸，其特徵在於，所述光固化性組合物是前述光固化性片材的組合物。發明效果本發明的光固化性轉印片是有利於製造DVD等厚度薄、高容量的光信息記錄介質的光固化性轉印片，能夠容易地轉印印模或基板上的凹凸形狀，能夠高速地進行此後的固化，而且能夠良好地維持固化後的轉印形狀。也就是說，本發明的光固化性轉印片包含作為主成分的Tg為80°C以上的聚合物與反應性稀釋劑組合而獲得的光固化性組合物，由此可以兼有上述轉印性和優異的固化性。因此，通過使用本發明的光固化性轉印片，可以高速地製造高精度的光信息記錄介質。尤其，通過使光固化性組合物的Tg為20。C以下，或者通過使紫外線照射前的光固化性轉印層的初始應力為600Pa以下、且將變成該初始應力的1/e時的鬆弛時間設定為10秒以下，由此能夠獲得兼有上述轉印性和優異的固化性，另外可以獲得凹坑等形狀的長期穩定性。因此，通過使用這種光固化性轉印片，可以高速地製造高精度、耐久性優異的光信息記錄介質。另外，本發明的光固化性轉印片由於具有上述構成，即使是在製造時所使用的長條狀片材的巻材形態下，光固化性轉印層的成分也無滲出，片材厚度也無變動，尤其是工作性優異的14光固化性轉印片。尤其，在含有二異氰酸酯時，由於具有後固化，容易獲得上述效果。圖l是示出了根據本發明的光固化性轉印片的實施方案的一個實例的截面圖。圖2是示出了根據本發明的光信息記錄介質製造方法的一個實例的截面圖。圖3是示出了根據本發明的光信息記錄介質的一個實例的截面圖。圖4是用於說明使用雙真空室方式的裝置的擠壓法的示意圖。圖5是示出了實施例中的玻璃化轉變溫度的測定方法的圖。圖6是示出了本發明的初始應力So、紫外線照射時間t2和鬆弛時間^的關係的圖。圖7是示出了用於計算位移的R、e和h的關係的圖。圖8是示出了NIKKEIELECTRONICS中記載的光信息記錄介質的製備方法的步驟的截面圖。附圖標記i兌明11光固化性轉印片12a、12b剝離片21基板23半透明反射層24印模25反射層26有機聚合物薄膜(覆蓋層)1具體實施例方式以下參照附圖來詳細說明本發明的實施方案。圖l是示出了本發明中使用的光固化性轉印片IO的實施方案的一個實例的截面圖。光固化性轉印層ll在兩面具有剝離片12a、12b。剝離片可以只有一個，或者完全沒有。根據使用方法來適當設定。為了通過衝齊壓印模的凹凸表面可以精確地轉印，光固化性轉印層ll是通過加壓容易變形的層，並且是具有優異固化性的層。也就是說，光固化性轉印層11含有玻璃化轉變溫度為80。C以上的聚合物和具有光聚合性官能團的反應性稀釋劑(聚合性單體)(而且，優選其玻璃化轉變溫度低於2(TC)。由此，印模或基板上的凹凸形狀能夠容易地轉印，可以高速地進行此後的固化。另外，由於固化的形狀也具有高的Tg,因此其形狀不會改變，可以長期維持。本發明的優選實施方案設計成光固化性轉印層ll包含含有玻璃化轉變溫度為80°C以上的聚合物和具有光聚合性官能團的反應性稀釋劑的光固化性組合物，並且，紫外線照射前的光固化性轉印層的初始應力為600Pa以下，且i殳計成變為該初始應力的1/e時的鬆弛時間為IO秒以下(優選在0.5~8秒的範圍)(更優選的是，光固化性轉印層在3OOmJ/cm2的照射量下的紫外線照射後的玻璃化轉變溫度為65。C以上)。由此，如上所述，不僅可以容易地轉印印才莫或基板上的凹凸形狀，容易高速地進行此後的固化，而且由於固化的形狀的剩餘應力小、具有高的Tg,因此其形狀也不會改變，尤其可以長期地維持固化形狀(例如，可以獲得凹坑等形狀的長期穩定性)，顯示優異的耐久性。再有，上述紫外線照射前的光固化性轉印層的初始應力和鬆弛時間通過如下方法來獲得在平行板夾具中、在測定溫度1650°C、位移10%的條件下對厚度200)^11、直徑8mm的樣品片進行蠕變恢復測定。此外，優選的是，本發明的光固化性轉印層在照射t2時間(秒)紫外線後的、用下式表示的剩餘應力S為500Pa以下。由此可以有利地獲得固化後的轉印層的剩餘應力變小、耐久性優異例如所形成的凹坑等基本上不隨時間變形的光固化性轉印片。異氰脲酸酯、二三羥曱基丙烷四(甲基)丙烯酸酯等(曱基)丙烯酸酯單體類；多元醇^[t合物(例如乙二醇、丙二醇、新戊二醇、1，6-己二醇、3-曱基-l,5-戊二醇、1,9-壬二醇、2-乙基-2-丁基-1，3-丙二醇、三羥甲基丙烷、二乙二醇、二丙二醇、聚丙二醇、1,4-二羥甲基環己烷、雙酚A聚乙氧基二醇、聚四亞曱基二醇等多元醇類，前述多元醇類與琥珀酸、馬來酸、衣康酸、己二酸、加氫二聚體酸、鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸等多元酸或者它們的酸酐類的反應物即聚酯多元醇類，前述多元醇類與S-己內酯的反應物即聚己內酯多元醇類，前述多元醇類與前述多元酸或它們的酸酐類S-己內酯的反應物，聚石友酸酯多元醇，聚合物多元醇等)和有機多異氰酸酯(例如甲苯二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷-4,4，-二異氰酸酯、二環戊烯基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、2，4,4，-三曱基六亞甲基二異氰酸酯、2，2，，4，-三曱基六亞曱基二異氰酸酯等)以及含羥基的(甲基)丙烯酸酯(例如(曱基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、環己烷-l，4-二羥甲基單(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二(曱基)丙烯酸甘油酯等)的反應物即聚氨酯(甲基)丙烯酸酯；雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂等雙酚型環氧樹脂與(甲基)丙烯酸的反應物即雙酚型環氧(曱基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸酯低聚物類等。這些具有可光聚合的官能團的化合物可以使用一種，或者將兩種以上混合使用。在這些當中，分子量為1000以下，尤其500以下，特別是200~400的化合物是優選的。另外，雙官能化合物是優選的。作為優選的化合物，可以列舉三環癸烷二羥甲基二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(曱基)丙烯酸酯、壬二醇二(曱基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇等(在本發明中，丙烯酸酯類是特別優選的)。按不揮發成分計，相對於光固化性組合物的總量，該反應性稀釋劑的含量優選為20~80質量％,尤其優選為30~70質量％，更尤其優選為4060質量％。另外，聚合物與反應性稀30釋劑的質量比通常為100:40~160,優選為100:60~140,尤其優選為100:80~120。通過這樣設定，300mJ/cm2或500mJ/cm2的紫外線照射後的玻璃化轉變溫度容易成為65。C以上。作為光聚合引發劑，可以使用公知的任何光聚合引發劑，配合後的貯藏穩定性好的光聚合引發劑是理想的。作為這種光聚合引發劑，例如可以使用苯乙酮系，苯偶醯二甲基縮酮等苯偶姻系，二苯甲酮系，異丙基p塞噸酮、2，4-二乙基瘞噸酮等瘞噸酮系。作為其它特殊物質，可以使用甲基苯基乙醛酸酯等。特別優選的是2-羥基-2-曱基-l-苯基丙烷-l-酮、1-羥基環己基苯基酮、2-甲基-l-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基丙烷-l、二苯甲酮等。根據需要，這些光聚合引發劑可以與一種或兩種以上的諸如4-二曱基氨基苯甲酸之類的苯曱酸系化合物或者叔胺系等公知常用的光聚合促進劑以任意比例混合使用。另外，光聚合引發劑可以單獨使用l種或將兩種以上混合使用。在光固化性組合物中，光聚合引發劑的含量優選為O.l~20質量％,尤其優選為1~10質量％。在光聚合引發劑中，作為苯乙酮系聚合引發劑，例如可以使用4-苯氧基二氯苯乙酮、4-叔丁基二氯苯乙酮、4-叔丁基-三氯苯乙酮、二乙氧基苯乙酮、2-羥基-2-曱基-l-苯基丙烷-l-酮、l-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-曱基丙烷-l-酮、l-(4-十二烷基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-l-酮、4-(2-羥基乙氧基)-苯基(2-羥基-2-丙基)酮、1-羥基環己基苯基酮、2-曱基-1-(4-(曱硫基)苯基)-2-嗎啉基丙烷-l等；作為二苯曱酮系聚合引發劑，例如可以使用二苯甲酮、苯曱醯基苯曱酸、苯曱醯基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯曱酮、羥基二苯曱酮、4-苯甲醯基-4，-曱基二苯硫醚、3，3，-二甲基_4-甲氧基二苯甲酮等。作為苯乙酮系聚合引發劑，尤其優選的是2-羥基-2-曱基-1-31苯基丙烷-l-酮、1-羥基環己基苯基酮、2-曱基-l-(4-(曱硫基)苯基)_2-嗎啉丙烷-1。作為二苯甲酮系聚合引發劑，優選的是二苯曱酮、苯曱醯基苯甲酸、苯甲醯基苯曱酸曱酯。另外，作為叔胺系光聚合促進劑，可以使用三乙醇胺、曱基二乙醇胺、三異丙醇胺、4，4，-二曱基氨基二苯曱酮、4，4，-二乙基氨基二苯曱酮、2-二曱基氨基苯曱酸乙酯、4-二曱基氨基苯曱酸乙酯、4-二曱基氨基苯甲酸(正丁氧基)乙酯、4-二曱基氨基苯曱酸異戊酯、4-二甲基氨基苯甲酸2-乙基己酯等。尤其優選的是，作為光聚合促進劑，可以列舉4-二曱基氨基苯甲酸乙酯、4-二曱基氨基苯曱酸(正丁氧基)乙酯、4-二曱基氨基苯甲酸異戊酯、4-二曱基氨基苯曱酸2-乙基己酯等。璃化轉變溫度為20。C以下，並且透光率滿足70%以上。或者，本發明的光固化性轉印層優選將光固化性組合物設計成紫外線照射前的光固化性轉印層的初始應力為600Pa以下，而且變為該初始應力的1/e時的爭^弛時間為IO秒以下(4尤選0.5~8秒的範圍)，另外，光固化性轉印層在300mJ/cm2的照射量紫外線照射後的玻璃化轉變溫度為65。C以上，此外透光率滿足70%以上。因此，除了上述具有光聚合性官能團的反應性稀釋劑和光聚合引發劑以外，根據需要優選添加下述熱塑性樹脂和其它添加劑。作為其它添加劑，可以添加矽烷偶聯劑(粘合促進劑)。該矽烷偶聯劑的實例是乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三(p-曱氧基乙氧基)矽烷、y-甲基丙烯醯氧基丙基三曱氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、y-(2,3-環氧丙氧基)丙基三曱氧基矽烷、y-(2，3-環氧丙氧基)丙基三乙氧基矽烷、(3-(3，4-環氧環己基)乙基三曱氧基矽烷、Y-氯丙基曱氧基矽烷、乙烯基三氯矽烷、y-巰基丙基三曱氧基矽烷、y-氨基丙基三乙氧基矽烷、N-P-(氨基乙基)-y-氨基丙基三曱氧基矽烷等。它們可以單獨使用一種或者將兩種以上混合使用。相對於100質量份上述反應性聚合物，這些矽烷偶聯劑的添加量通常為0.01~5質量份足夠。另外，同樣為了提高粘合性，可以添加含環氧基的化合物。作為含環氧基的化合物，可以列舉三縮水甘油基三(2-羥乙基)異氰脲酸酯、新戊二醇二縮水甘油醚、1，6-己二醇二縮水甘油醚、丙烯酸縮水甘油醚、2-乙基己基縮水甘油醚、苯基縮水甘油醚、苯酚縮水甘油醚、對叔丁基苯基縮水甘油醚、己二酸二縮水甘油酯、鄰苯二曱酸二縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、丁基縮水甘油醚等。另外，通過添加含環氧基的分子量為幾百到幾千的低聚物或者重均分子量為幾千到幾十萬的聚合物可以獲得同樣的效果。相對於100質量份上述反應性聚合物，這些含環氧基的化合物的添加量為O.l~20質量份就足夠。可以單獨添加或者混合添加至少一種上述含環氧基的化合物。作為其它添加劑，為了提高加工性、粘貼等加工性，可以添加烴樹脂。在該情況下，所添加的烴樹脂可以是天然樹脂系、合成樹脂系的任何一種。天然樹脂系適宜使用松香、松香衍生物、薛烯系樹脂。松香可以採用樹膠系樹脂、妥爾油系樹脂、木材系樹脂。作為松香衍生物，可以使用將松香分別氫化、歧化、聚合、酯化、金屬鹽化了的物質。薛烯系樹脂除了可以採用oc-蒗烯、P-蒗烯等闢烯系樹脂以外，還可以使用薛烯酚樹脂。另外，作為其它天然樹脂，還可以使用達瑪樹脂、柯巴樹脂、蟲膠。另一方面，合成樹脂系可以適當採用石油系樹脂、酚醛系樹脂、二曱苯系樹脂。石油系樹脂可以使用脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、共聚物系石油樹脂、氫化石油樹脂、純單體系石油樹脂、古馬隆-茚樹脂。酚醛系樹脂可以採用烷基酚醛樹脂或改性酚醛樹脂。二曱苯系樹脂可以採用二甲苯樹脂、改性二曱苯樹脂。上述烴樹脂等聚合物的添加量可適當選擇，相對於100質量份上述本發明的聚合物，優選為120質量份，更優選為5~15質量份。除了以上添加劑以外，本發明的光固化性組合物還可以少量含有紫外線吸收劑、抗老化劑、染料、加工助劑等。另外，根據情況，還可以少量含有矽膠、碳酸鉤、矽酮共聚物的微粒等添加劑。製備將Tg為80。C以上的聚合物、具有光聚合性官能團的反應性稀釋劑(單體和低聚物)、根據需要的二異氰酸酯和根據需要的其它添加劑均勻混合，用擠出機、輥等混煉，然後通過壓延機、輥、T形模頭擠出、膨脹(inflation)等制膜法製成規定形狀的膜。在使用支撐體時，需要在支撐體上制膜。更優選的本發明的光固化性粘合劑的制膜方法是將各構成成分均勻混合溶解在良溶劑中，用淋塗法、輥塗法、凹版印刷輥(gravureroll)法、邁耶棒法、唇型模頭塗布法等將該溶液塗布在支撐體上的精密地塗有矽酮或氟樹脂的隔片上並將溶劑乾燥的制膜法。另外，光固化性轉印片的厚度優選為1~1200pm，尤其優選為5500jim,特別優選為5~300|am(優選150fim以下)。在比lpm薄時，密封性差，並且有可能不能完全填充透明樹脂基板的凹凸。另一方面，在比1000ium厚時，記錄介質的厚度增大，有可能產生記錄介質的容納、組裝等問題，此外有可能對光線透過產生影響。優選在上述光固化性轉印片的兩側粘貼剝離片。作為剝離片的材料，玻璃化轉變溫度為50。C以上的透明有機樹脂是優選的。作為這種材料，可以使用以聚對苯二甲酸乙34二醇酯、聚對苯二曱酸環己二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系樹脂，尼龍46、改性尼龍6T、尼龍MXD6、聚鄰苯二曱醯胺等聚醯胺系樹脂，聚苯硫醚、聚硫醚碸等酮系樹脂，聚碸、聚醚碸等碸樹脂，以及聚醚腈、聚芳酯、聚醚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚碳酸酯、聚曱基丙烯酸甲酯、三乙醯纖維素、聚苯乙烯、聚氯乙烯等有機樹脂為主成分的透明樹脂基板。在這些當中，聚碳酸酯、聚曱基丙烯酸甲酯、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚對苯二曱酸乙二醇酯是優選使用的。厚度優選為10~200pm，尤其優選為30100|um。作為在表面上具有凹凸的基板21的材料，玻璃化轉變溫度為50。C以上的透明有機樹脂是優選的。作為這種支撐體，可以使用以聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸環己二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系樹脂，尼龍46、改性尼龍6T、尼龍MXD6、聚鄰苯二曱醯胺等聚醯胺系樹脂，聚苯硫醚、聚硫醚碸等酮系樹脂，聚碸、聚醚碸等碸系樹脂，以及聚醚腈、聚芳酯、聚醚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸曱酯、三乙醯纖維素、聚苯乙烯、聚氯乙烯等有機樹脂為主成分的透明樹脂基板。在這些當中，聚碳酸酯、聚曱基丙烯酸曱酯、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚對苯二甲酸乙二醇酯具有優異的轉印性和雙折射，是優選使用的，可以適當使用。厚度優選是200~2000,,尤其優選500~1500,。作為有機聚合物薄膜的材料26，玻璃化轉變溫度為50°C以上的透明有機樹脂是優選的。作為這種支撐體，可以使用以聚對苯二曱酸乙二醇酯、聚對苯二曱酸環己二醇酯、聚萘二曱酸乙二醇酯等聚酯系樹脂，尼龍46、改性尼龍6T、尼龍MXD6、聚鄰苯二甲醯胺等聚醯胺系樹脂，聚苯硫醚、聚硫醚碸等酮系樹脂，聚碸、聚醚碸等碸系樹脂、以及聚醚腈、聚芳酯、聚醚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸曱酯、三乙醯纖維素、聚苯乙烯、聚氯乙烯等有機樹脂為主成分的透明樹脂基板。在這些當中，聚碳酸酯、聚曱基丙烯酸曱酯、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚對苯二曱酸乙二醇酯具有優異的轉印性和雙折射，是優選使用的，可以適當使用。厚度優選為10~200pm，尤其優選為50lOOium。這樣獲得的本發明的光固化性轉印片包括含有玻璃化轉變溫度(Tg)為80。C以上的聚合物的光固化性組合物，此外，光固化性轉印層的380~420nm波長區域的透光率優選為70%以上。另外，光固化性轉印片在380420nm(優選380~800nm)的波長區域的透光率優選為70%以上，這樣可以防止雷射引起的讀取信號的強度降低。此外，380~420nm波長區域的透光率進一步優選為80%以上。本發明的光固化性轉印片由於能夠以精密控制膜厚精度的薄膜狀提供，因此可以容易而高精度地與基板和印模粘貼。另外，這種粘貼特徵在於，可以通過壓接輥、簡易壓力機等簡便方法在20~100。C下臨時壓接，然後用光在常溫下照射l~幾十秒來固化，而且由於本粘合劑特有的自粘力，很難發生層壓體的偏移或剝離，具有在光固化之前可以自由地處理的特點。在固化本發明的光固化性轉印片時，作為光源，可以採用在紫外~可見光區域發光的多種光源，例如可列舉超高壓汞燈、高壓汞燈、j氐壓汞燈，化學燈、氙燈、卣素燈、汞-卣素燈、石友弧燈、白熾燈、雷射燈等。照射時間根據燈的種類、光源強度而定，不能一概而論，可以是0.1秒~幾十秒左右，優選0.5秒~幾秒。紫外線照射量優選為300mJ/cm2以上。另外，為了促進固化，預先將層壓體加熱至3080°C，然後可以用紫外線照射。所得本發明的基板凹凸表面的反射層通過金屬沉積(例如濺射、真空沉積、離子鍍等)在基板上形成反射層來形成。作為金屬，可以列舉鋁、金、銀、它們的合金等。固化片上的半透明反射層可以使用銀等作為金屬來形成。也就是說，需要反射率比上述反射層更低的反射層，成分、膜厚等可以改變。在固化片的反射層上粘貼有機聚合物薄膜時，在其中之一上塗布粘合劑，然後與二者中的另一個重疊並固化。在粘合劑是紫外線固化性樹脂時，通過UV照射來獲得，在熱熔型粘合劑時，在加熱下塗布，然後冷卻來獲得。在本發明的光信息記錄介質的製備中，通常，如上所述以圓盤狀處理，但也可以連續製成片狀，最後加工成圓盤狀。以下通過實施例來詳細說明本發明。實施例通過以下實施例來進一步詳細說明本發明。[實施例1](光固化性轉印片的製備)(含羥基的聚合物l的製備)聚合物配方l々'曱基丙烯酸甲酯甲基丙烯酸正丁酯曱基丙烯酸2-羥乙酯AIBN甲苯醋酸乙酯74.6質量份13.2質量份12.1質量4分1.2質量份70質量^f分30質量份在溫和地攪拌下將上述配方的混合物加熱至70。C,以引發聚合，在該溫度下攪拌8小時，獲得在側鏈上具有羥基的含羥基37的聚合物l(丙烯酸類樹脂)。配製成固體成分為36質量％(聚合物溶液l)。所得聚合物l的Tg為100°C,重均分子量為110000。組合物配方1二異氰酸酯(BXX5627,ToyoInkMfg.Co.，Ltd.製造)1質量份將上述配方的混合物均勻溶解，混煉，整面塗布於剝離片(寬度140mm，長度300m,厚度75ium;商品名No.23,藤森工業(林)製造)上，形成乾燥厚度20nm的光固化性轉印層，在該片材的另一側粘貼與上述相同的剝離片，巻繞成巻材狀，獲得光固化性轉印片的全邊型巻材(直徑260mm)。光固化性轉印層的Tg為(TC。[實施例2](光固化性轉印片的製備)(含丙烯醯基的聚合物2的製備)聚合物配方2甲基丙烯酸甲酯74質量份甲基丙烯酸正丁酯13質量份曱基丙烯酸縮水甘油酯13質量份AIBN1.2質量份曱苯70質量^f分醋酸乙酯30質量份在溫和地攪拌下將上述配方的混合物加熱至70。C,以引發含羥基的聚合物溶液l己二醇二丙烯酸酯(KS-HDDA)IOO質量份IIO質量份Irgacure651(Ciba誦GeigyCorporation製造)氫醌單甲醚(MEHQ)l質量份05質量份聚合，在該溫度下攪拌8小時，獲得在側鏈上具有縮水甘油基的聚合物l(丙烯酸類樹脂)。將丙烯酸(6.6質量份)加入到該聚合物中，加熱至70。C,在該溫度下攪拌5小時，獲得含丙烯醯基的聚合物2。配製成固體成分為36質量％(聚合物溶液2)。所得聚合物2的Tg為IO(TC,重均分子量為110000。組合物配方2含丙烯醯基的聚合物溶液2IOO質量份己二醇二丙烯酸酯(KS-HDDA)IIO質量份二異氰酸酯(BXX5627,ToyoInkMfg.Co.,Ltd.製造)1質量份Irgacure651(Ciba-GeigyCorporation製造)l質量份氫醌單曱醚(MEHQ)0.05質量份將上述配方的混合物均勻溶解，混煉，整面塗布於剝離片(寬度140mm，長度300m,厚度75iam;商品名No.23,藤森工業(林)製造)上，形成乾燥厚度20ium的光固化性轉印層，在該片材的另一側粘貼與上述相同的剝離片，巻繞成巻材狀，獲得光固化性轉印片的全邊型巻材(直徑260mm)。光固化性轉印層的Tg為0。C。[比較例l](光固化性轉印片的製備)(聚合物3(大分子單體3)的製備)聚合物配方3甲基丙烯酸2-乙基己酯70質量份甲基丙烯酸曱酯20質量份甲基丙烯酸2-羥乙酯IO質量份二苯曱酮1.2質量份甲苯70質量份醋酸乙酯30質量份在溫和地攪拌下將上述配方的混合物加熱至60。C,以引發聚合，在該溫度下攪拌10小時，獲得在側鏈上具有羥基的丙烯酸類樹脂。然後，添加5質量份的KarenzMOI(甲基丙烯酸2-異氰酸根合乙酯；昭和電工(林)製造)，在氮氣氣氛下溫和攪拌的同時在5(TC下反應，獲得具有光聚合性官能團的大分子單體溶液3。配製成固體成分為50質量％(聚合物溶液3)。所得聚合物3(大分子單體3)的Tg為30。C,重均分子量為組合物配方3聚合物溶液3IOO質量份己二醇二丙烯酸酯(KS-HDDA)40質量份二異氰酸酯(BXX5627,ToyoInkMfg.Co.，Ltd.製造)1質量份Irgacure651(Ciba-GeigyCorporation製造)l質量份氬醌單甲醚(MEHQ)0.05質量份將上述配方的混合物均勻溶解，整面塗布於剝離片(寬度300mm，長度1000m,厚度75,;商品名No.23，藤森工業(株)製造)上，形成乾燥厚度20ium的光固化性轉印層，在該片材的另一側粘貼與上述相同的剝離片，巻繞成巻材狀，獲得光固化性轉印片的巻材(直徑0.5m)。光固化性轉印層的Tg為0。C。[實施例3]在實施例l中，在含羥基的聚合物l的製備中，使用5質量份聚合物配方1的AIBN，獲得低分子量的具有含羥基的聚合物4。除了使用聚合物4代替實施例1中的聚合物1以外，同樣地獲得光固化性轉印片的巻材。所得聚合物4的Tg為10(TC,重均分子量為30000。光固化性轉印層的Tg為0。C。[比較例2]除了將實施例l中的己二醇二丙烯酸酯由110質量份改變為70質量份以外，同樣地獲得光固化性轉印片的巻材。光固化性轉印層的Tg為3(TC。C比較例3](光固化性轉印片的製備)(含羥基的聚合物5的製備)聚合物配方5曱基丙烯酸曱酯曱基丙烯酸正丁酯曱基丙烯酸2-羥乙酯AIBN甲苯醋酸乙酯32質量份57質量份ll質量份1.2質量份70質量4分30質量4分在溫和地攪拌下將上述配方的混合物加熱至150。C,以引發聚合，在該溫度下攪拌3小時，獲得在側鏈上具有羥基的含羥基的聚合物5(丙烯酸類樹脂)。配製成固體成分為36質量％。所得聚合物5的Tg為60'C,重均分子量為110000。糹且合物配方5含羥基的聚合物溶液5IOO質量份己二醇二丙烯酸酯IIO質量份二異氰酸酉旨(BXX5627,ToyoInkMfg.Co.，Ltd.製造)0.5質量份Irgacure651(Ciba畫GeigyCorporation製造)l質量份氬醌單甲醚(MEHQ)0.05質量份將上述配方的混合物均勻溶解，混煉，整面塗布於剝離片(寬度140mm,長度300m,厚度75pm;商品名No.23,藤森工41業(抹)製造)上，形成乾燥厚度20pm的光固化性轉印層，在該片材的另一側粘貼與上述相同的剝離片，巻繞成巻材狀，獲得光固化性轉印片的全邊型巻材(直徑260mm)。光固化性轉印層的Tg為0。C。[實施例4]在實施例l中，除了不使用二異氰酸酯以外，同樣地獲得光固化性轉印片的巻材。光固化性轉印層的Tg為0"C。(1)光固化性轉印片的評價(1-1)玻璃化轉變溫度(Tg)的測定從所得光固化性轉印片除去兩側的剝離片，裁斷為長度20.0mm、寬度4.0mm(厚度25pm)，製成樣品。使用TMA(熱機械分析)裝置SS6100(SIINanotechnology公司製造)在樣品溫度30~120°C、升溫速率5。C/分鐘、拉伸張力4.9xlSpa的條件下測定樣品的Tg。在以上條件下進行試驗時，獲得圖5所示的圖，穩定區域的切線與從擴展區域的最大傾斜處引出的切線的交點定為玻璃化轉變溫度。(1-2)滲出將實施例1~4或比較例1~3中獲得的巻材在常溫下放置24小時，然後觀察巻材側面的轉印層的滲出。如下評價。〇滲出小於20fim。A:滲出2050ium。x:滲出超過50,。(2)所得光信息記錄介質的評價將光固化性轉印片的巻材衝裁為圓盤狀，然後，除去一個剝離片，將所得的圓盤狀光固化性轉印片配置在銀合金的半透明反射層上，使得轉印片一面與反射層接觸，所述半透明反射層設置在聚碳酸酯基板(厚度l.lmm)的凹凸面上，其中該基板具有注塑成型而形成的作為凹坑的凹凸面。使用矽橡膠製的輥在2kg的負荷下擠壓光固化性轉印片，形成層壓體(對應於圖2的(3))。除去層壓體的光固化性轉印片的另一剝離片，將具有作為凹坑的凹凸面的鎳制印模配置在除去了剝離片的轉印片表面上，使得轉印片表面與印模的凹凸面接觸，並且使用矽橡膠製的輥在2kg的負荷下擠壓印模，形成層壓體，在轉印片表面上轉印印模的凹凸形狀。然後，使用金屬卣化物燈(600mW/cm),使銀合金的半透明反射層介於中間，從光固化性轉印片一側在累計光量300mJ/cm2的條件下照射紫外線(照射距離15cm,照射時間l.O秒)，將轉印片固化。從層壓體剝離印模並除去，在固化的光固化性轉印片的凹凸面上濺射銀合金，形成厚的銀合金反射層(70nm)。通過粘合劑在其上粘貼聚碳酸酯薄膜(厚度70pm;商品名PureAceC110-70,帝人(抹)製造)。由此獲得具有兩層凹凸面的光信息記錄介質。(2)光信息記錄介質的評價(2-1)玻璃化轉變溫度(Tg)的測定對於與(1_1)同樣獲得的樣品，在累計光量300mJ/cm2的條件下照射紫外線，與(l-l)同樣地測定Tg。累計光量(300mJ/cm2)使用FusionUVSystemsJapanKK製造的UVPowerPuck(UV-A帶測定)在層表面測定。(2-2)固化性(Ni印模的剝離性)測定從Ni印模剝離所得的光信息記錄介質所需的力。作為測定器，使用帶有機器人臂的剝離試驗裝置(商品名HEIDON,43新東科學(林)製造)。剝離所需的力越小，固化越好。如下評價〇低於5gf/25mmA:5~10gf/25mmx:超過10gf/25mm(2-3)凹坑轉印性(信號讀取)(初始值、變化量)使用探針顯微鏡SPA-300HV環境控制型單元(SIINanoTechnologyInc.製造)測定所得光信息記錄介質的用印才莫形成的凹坑的深度。如下進行評價。(1)初始j直〇凹i亢;罙度為97nm以上A:凹坑深度為90nm以上、小於97nmx:凹i亢;果度小於90nm。(2)變化量將所得光信息記錄介質在23。C放置48小時後，如上所述測定凹坑深度。如下糹平<介。〇變化量小於lnmA:變化量為l3nmx:變化量超過3nm。所得試驗結果在表l中示出。表ltableseeoriginaldocumentpage44tableseeoriginaldocumentpage45實施例l~4中所獲得的光固化性轉印片顯示具有優異的固化性、凹坑轉印性(尤其凹坑形狀的長期維持性)。然而，實施例3因為聚合物的分子量低，實施例4由於沒有使用二異氰酸酯不能進行後固化，因此二者的滲出性稍差。另一方面，在比較例13中，由於不能滿足本發明的Tg的規定，固化性、凹坑轉印性特別差。(光固化性轉印片的製備)(含羥基的聚合物6的製備)聚合物配方6甲基丙烯酸曱酯74.6質量份曱基丙烯酸正丁酯13.2質量份曱基丙烯酸2-羥乙酯12.1質量份AIBN甲苯醋酸乙酯5質量份50質量份50質量4分在溫和地攪拌下將上述配方的混合物加熱至70。C,以引發聚合，在該溫度下攪拌8小時，獲得在側鏈上具有羥基的含羥基的聚合物6(丙烯酸類樹脂)。配製固體成分為36質量％(聚合物溶液6)。所得聚合物6的Tg為IO(TC,重均分子量為110000。糹且合物配方6含羥基的聚合物溶液6IOO質量份己二醇二丙烯酸酯(KS-HDDA)IIO質量份二異氰酸酯(BXX5627,ToyoInkMfg.Co.,Ltd.製造)1質量份Irgacure651(Ciba國GeigyCorporation製造)l質量4分氬醌單甲醚(MEHQ)0.05質量份將上述配方的混合物均勻溶解，混煉，整面塗布於剝離片(寬度140mm,長度300m,厚度75pm;商品名No.23,籐森工業(抹)製造)上，形成乾燥厚度25nm的光固化性轉印層，在該片材的另一側粘貼與上述相同的剝離片，巻繞成巻材狀，獲得光固化性轉印片的全邊型巻材(直徑260mm)。光固化性轉印層的Tg為0。C。另外，固化後的光固化性轉印層的初始應力為500Pa，+〉弛時間為3秒。[實施例6](光固化性轉印片的製備)(含丙烯醯基的聚合物7的製備)聚合物配方7曱基丙烯酸曱酯74質量份46AIBN甲苯醋酸乙酯甲基丙烯酸正丁酯甲基丙烯酸縮水甘油酉;13質量份13質量份5質量份50質量份50質量份在溫和地攪拌下將上述配方的混合物加熱至70。C,以引發聚合，在該溫度下攪拌8小時，獲得在側鏈上具有縮水甘油基的聚合物l(丙烯酸類樹脂)。將丙烯酸(6.6質量份)加入到該聚合物中，加熱至70。C,在該溫度下攪拌5小時，獲得含丙烯醯基的聚合物7。配製固體成分為36質量％(聚合物溶液7)。所得聚合物7的Tg為100°C,重均分子量為110000。組合物配方7含丙烯醯基的聚合物溶液7IOO質量份己二醇二丙烯酸酯(KS-HDDA)IIO質量份二異氰酸酯(BXX5627,ToyoInkMfg.Co.，Ltd.製造)1質量份Irgacure651(Ciba國GeigyCorporation製造)l質量j分氬醌單曱醚(MEHQ)0.05質量份將上述配方的混合物均勻溶解，混煉，整面塗布於剝離片(寬度140mm,長度300m,厚度75)am;商品名No.23,藤森工業(抹)製造)上，形成乾燥厚度20)am的光固化性轉印層，在該片材的另一側粘貼與上述相同的剝離片，巻繞成巻材狀，獲得光固化性轉印片的全邊型巻材(直徑260mm)。光固化性轉印層的Tg為0。C。另外，固化後的光固化性轉印層的初始應力為400Pa，；^弛時間為3秒。[比較例4]在實施例5中，將組合物配方6中的己二醇二丙烯酸酯乂人IIO47質量份改變為70質量份，除此之外，同樣地獲得光固化性轉印片的巻材。光固化性轉印層的Tg為0。C。另外，固化後的光固化性轉印層的初始應力為2000Pa，*>弛時間為30秒。[比4交例5](光固化性轉印片的製備)(聚合物8的製備)聚合物配方8甲基丙烯酸正丁酯甲基丙烯酸曱酯曱基丙烯酸2-羥乙酯二苯曱酮甲苯醋酸乙酯57質量^f分32質量份ll質量份5質量份30質量份30質量^f分在溫和地攪拌下將上述配方的混合物加熱至60。C，以引發聚合，在該溫度下攪拌10小時，獲得在側鏈上具有羥基的丙烯酸類樹脂。然後，添加5質量份的KarenzM0I(曱基丙烯酸2-異氰酸根合乙酯；昭和電工(株)製造)，在氮氣氣氛下溫和攪拌的同時在50。C下反應，獲得具有光聚合性官能團的大分子單體溶液8。配製固體成分為36質量％(聚合物溶液8)。所得聚合物8的Tg為30。C,重均分子量為110000。糹且合物配方8聚合物溶液8IOO質量份己二醇二丙烯酸酯(KS-HDDA)110質量份二異氰酸酯(BXX5627，ToyoInkMfg.Co.，Ltd.製造)1質量份Irgacure651(Ciba岡GeigyCorporation製造)l質量"f分氫醌單曱醚(MEHQ)0.05質量份將上述配方的混合物均勻溶解，整面塗布於剝離片(寬度300mm,長度1000m,厚度75,;商品名No.23，藤森工業(抹)製造)上，形成乾燥厚度20iim的光固化性轉印層，在該片材的另一側粘貼與上述相同的剝離片，巻繞成巻材狀，獲得光固化性轉印片的巻材(直徑0.5m)。光固化性轉印層的Tg為O"C。另外，固化後的光固化性轉印層的初始應力為400Pa，鬆弛時間為3秒。(1)光固化性轉印片的評價(實施例5、6以及比較例4、5)(1-1)玻璃化轉變溫度(Tg)的測定從所得光固化性轉印片除去兩側的剝離片，裁斷為長度20mm、寬度4mm(厚度25jam),製成樣品。使用TMA(熱機械分析)裝置SS6100(SIINanotechnology公司製造)在樣品溫度30~120°C、升溫速率5。C/分鐘、拉伸張力4.9xlSpa的條件下測定樣品的Tg。在以上條件下進行試驗時，獲得如圖5所示的圖，穩定區域的切線與從擴展區域的最大傾斜處引出的切線的交點定為玻璃化轉變溫度。(1-2)轉印片的轉印層的初始應力和鬆弛時間的測定通過在平行板夾具中，在測定溫度50。C、位移10%的條件下，對上述實施例5、6和比較例4、5中獲得的轉印片的轉印層的厚度200nm、直徑8mm的樣品片進行蠕變恢復測定來獲得。作為測定裝置，使用粘彈性測定裝置RheoStressRS300。(2)所得光信息記錄介質的評價將光固化性轉印片的巻材衝裁為圓盤狀，然後，除去一個剝離片，所得的圓盤狀光固化性轉印片配置在銀合金的半透明反射層上，使得轉印片一面與反射層接觸，所述半透明反射層49設置在聚碳酸酯基板(厚度l.lmm)的凹凸面上，其中該基板具有通過注塑成型而形成的作為凹坑的凹凸面。4吏用矽橡膠製的輥在2kg的負荷下擠壓光固化性轉印片，形成層壓體(對應於圖2的(3))。除去層壓體的光固化性轉印片的另一剝離片，將具有作為凹坑的凹凸面的鎳制印模配置在除去了剝離片的轉印片表面上，使得片表面與印模的凹凸面接觸，並且使用矽橡膠製的輥在2kg的負荷下擠壓印模，形成層壓體，在轉印片表面上轉印印模的凹凸形狀。然後，使用金屬卣化物燈(600mW/cm)，使銀合金的半透明反射層介於中間，從光固化性轉印片一側在累計光量300mJ/cm2的條件下照射紫外線(照射距離20cm,照射時間l.O秒)，將轉印片固化。從層壓體剝離並除去印模，在固化的光固化性轉印片的凹凸面上'濺射銀合金，形成厚的銀合金高反射層(70nm)。通過粘合劑在其上粘貼聚碳酸酯薄膜(度70ium;商品名PureAceC110-70,帝人(抹)製造)。由此獲得具有兩層凹凸面的光信息記錄介質。(2)光信息記錄介質的評價(2-1)玻璃化轉變溫度(Tg)的測定對於與(1-1)同樣獲得的樣品，在累計光量3OOmJ/cm2的條件下照射紫外線，與(l-l)同樣地測定Tg。累計光量(300mJ/cm2)使用FusionUVSystemsJapanKK製造的UVPowerPuck(UV-A帶測定)在層表面測定。(2-2)轉印層固化後的剩餘應力如前所述，在光固化性轉印層上照射t2時間(秒)紫外線之後的剩餘應力S用下述式表示。[其中，So表示紫外線照射前的光固化性轉印層的前述初始應力(Pa),而且tl表示變成該初始應力的l/e時的前述^^弛時間(秒)。J將與測定前述初始應力和鬆弛時間相同的樣品在23°C下保管48小時之後，使用該樣品照射紫外線，直至達到基準硬度(80N/mm(用微小硬度計(FisherInstruments公司製造)測定))，求出用於達到該基準硬度所需的照射時間t2,使用該值，通過上述式計算剩餘應力S。照射時間12在與上述光信息記錄介質製造條件相同的條件下為l秒。(2-3)凹坑轉印性(凹坑的深度、調製(modulation)、抖動(jitter))(2-3-l)使用探針顯微鏡SPA-300HV環境控制型單元(SIINanoTechnologyInc.製造)測定所得光信息記錄介質的印模形成的凹坑的深度。如下進4於評《介。〇凹》亢;果度為97nm以上△:凹坑j果度為90nm以上、小於97nmx:凹坑j果度小於90nm。(2-3-2)使用時間間隔分析儀TA723(橫河電機(抹)製造)測定所得光信息記錄介質的上述凹坑信號的調製。評價如下。〇0.70以上A:小於0.70、0.65以上x:小於0.65。(2-3-3)使用時間間隔分析儀TA723(橫河電機(抹)製造)所得光信息記錄介質的上述凹坑信號的抖動。如下評價。〇6.0%以下A:超過6.0%、7.5%以下x:超過7.5%。(2-4)耐久性試驗後的變化量(2-4-1)將所得光信息記錄介質在23。C放置48小時後，和上述同樣測定凹坑深度。如下評價。〇變化量小於lnmA:變化量為l3nmx:變化量超過3nm。(2-4-2)將所得光信息記錄介質在23。C力t置48小時後，和上述同樣測定調製。如下評1"介。〇變化量小於0.02△:變4b量為0.02~0.05x:變化量超過0.05。(2-4-3)將所得光信息記錄介質在23。C放置48小時後，和上述同樣測定抖動。如下評價。〇變化量小於1.0%A:變化量為1.0~3.0%x:變化量超過3.0%。所得試驗結果在表2中示出。表2實施例5實施例6比豐交例4比豐交例5(轉印層組成)聚合物6(含OH基)100100聚合物7(含丙烯醯基)100聚合物8(大分子單體)100KS-HDDA11011070110Irg.6511111BXX5627111152tableseeoriginaldocumentpage53印性。另一方面，在比較例4和5中，不能滿足本發明的初始應力、；^弛時間和轉印層固化後的Tg的^f壬何一項井見定，因此，凹坑轉印性及其耐久性特別差。產業上的可利用性通過使用本發明的光固化性轉印片，可以快速製造高精度的光信息記錄介質。權利要求1.一種光固化性轉印片，其特徵在於，所述光固化性轉印片具有由通過加壓可變形的光固化性組合物形成的光固化性轉印層，光固化性組合物含有玻璃化轉變溫度為80℃以上的聚合物和具有光聚合性官能團的反應性稀釋劑。2.根據權利要求l所述的光固化性轉印片，其中，光固化性組合物的玻璃化轉變溫度低於20°C。3.根據權利要求1或2所述的光固化性轉印片，其中，光固化性轉印層的紫外線照射前的初始應力為600Pa以下，且變成該初始應力的1/e時的鬆弛時間為IO秒以下，通過進行蠕變恢復測定來獲糹尋該#刀始應力和+〉弛時間。4.根據權利要求l~3的任一項所述的光固化性轉印片，其中，光固化性轉印層的300mJ/cn^紫外線照射後的玻璃化轉變溫度為65。C以上。5.根據權利要求l~4的任一項所述的光固化性轉印片，其中，對光固化性轉印層照射t2時間(秒)紫外線後的、用下述式表示的剩餘應力S為500Pa以下，S=S。xe拙其中，s。表示紫外線照射前的光固化性轉印層的前述初始應力(Pa),並且tl表示變成該初始應力的1/e時的前述+^弛時間(秒)。6.根據權利要求3~5的任一項所述的光固化性轉印片，其中，木>弛時間在0.5~8秒的範圍。7.根據權利要求l~6的任一項所述的光固化性轉印片，其中，玻璃化轉變溫度為80。C以上的聚合物是丙烯酸類樹脂。8.根據權利要求7所述的光固化性轉印片，其中，丙烯酸類樹脂是含有至少50質量％甲基丙烯酸曱酯重複單元的丙烯酸類樹脂。9.根據權利要求7或8所述的光固化性轉印片，其中，丙烯酸類樹脂是具有聚合性官能團的丙烯酸類樹脂。10.根據權利要求79的任一項所述的光固化性轉印片，其中，丙烯酸類樹脂是曱基丙烯酸甲酯、醇殘基為碳原子數2IO個的烷基的(甲基)丙烯酸酯的至少一種、以及(曱基)丙烯酸縮水甘油酯的共聚物，而且，該縮水甘油基與具有聚合性官能團的羧酸反應得到的物質。11.根據權利要求79的任一項所述的光固化性轉印片，其中，丙烯酸類樹脂是甲基丙烯酸甲酯、醇殘基為碳原子數2IO個的烷基的(曱基)丙烯酸酯的至少一種、以及具有聚合性官能團的羧酸的共聚物，而且，該羧酸基與(曱基)丙烯酸縮水甘油酯反應得到的物質。12.根據權利要求7或8所述的光固化性轉印片，其中，丙烯酸類樹脂是具有羥基的丙烯酸類樹脂。13.根據權利要求7、8或12所述的光固化性轉印片，其中，丙烯酸類樹脂是甲基丙烯酸甲酯、醇殘基為碳原子數2~10個的烷基的(甲基)丙烯酸酯的至少一種、以及醇殘基為具有羥基的碳原子數為2~4個的烷基的(曱基)丙烯酸酯的至少一種的共聚物。14.根據權利要求l~13的任一項所述的光固化性轉印片，其中，光固化性組合物進一步含有二異氰酸酯。15.根據權利要求l~14的任一項所述的光固化性轉印片，其中，玻璃化轉變溫度為80。C以上的聚合物的數均分子量為IOOOOO以上。16.根據權利要求l~15的任一項所述的光固化性轉印片，其中，玻璃化轉變溫度為80。C以上的聚合物的重均分子量為IOOOOO以上。17.根據權利要求l~16的任一項所述的光固化性轉印片，其中，光固化性組合物進一步含有O.l~10質量％光聚合引發劑。18.根據權利要求l~17的任一項所述的光固化性轉印片，其中，380~420nm波長區域的透光率為70。/。以上。19.根據權利要求l~18的任一項所述的光固化性轉印片，其中，380~800nm波長區域的透光率為70。/。以上。20.根據權利要求l~19的任一項所述的光固化性轉印片，其中，光固化性轉印層的厚度為5~300|Lim。21.根據權利要求l~20的任一項所述的光固化性轉印片，其中，在光固化性轉印層的一個或兩個表面上設有剝離片。22.根據權利要求21所述的光固化性轉印片，其中，光固化性轉印片為長條狀，並且光固化性轉印層與剝離片的寬度基本相同。23.—種光信息記錄介質的製造方法，其特徵在於，包括下述工序(2)~(4):(2)在權利要求21或22所述的光固化性轉印片的兩面具有剝離片時，除去其中一個剝離片的工序；(3)在表面上具有作為記錄凹坑和/或溝槽的凹凸、進而沿著該凹凸表面的凹凸設置有反射層的基板的該反射層上，按照該光固化性轉印片的光固化性轉印層的表面與該反射層的凹凸表面接觸的方式設置並擠壓它們，形成該光固化性轉印片的表面沿著該反射層的凹凸表面密合的層壓體的工序；以及(4)從該層壓體除去另一個剝離片的工序。24.根據權利要求23所述的光信息記錄介質的製造方法，其中，在前述工序(2)之前，進行如下工序(1)將光固化性轉印片衝裁為圓盤狀的工序；或者(1)將光固化性轉印片的光固化性轉印層與一個剝離片衝裁為圓盤狀，另一個剝離片保持原樣的工序。25.根據權利要求23或24所述的光信息記錄介質的製造方法，在進行前述工序(4)之後，進一步包括如下工序(5)將具有作為記錄凹坑和/或溝槽的凹凸的印模的該凹凸表面設置在該層壓體的除去了剝離片的光固化性轉印層的表面上並擠壓它們，形成該光固化性轉印片的表面沿著該凹凸表面密合的層壓體的工序；(6)通過紫外線照射將具有該印模的層壓體的光固化性轉印層固化，接著除去印模，從而在光固化性轉印層的表面上設置凹凸的工序。26.根據權利要求25所述的光信息記錄介質的製造方法，其中，用至少300~800mJ/cm2的照射能量進行前述(6)的紫外線照射。27.根據權利要求25或26所述的光信息記錄介質的製造方法，其中，進行0.5~1.5秒前述(6)的紫外線照射。28.根據權利要求25~27的任一項所述的光信息記錄介質的製造方法，其中，在前述(6)中獲得的光固化性轉印層的玻璃化轉變溫度為65。C以上。29.根據權利要求25~28的任一項所述的光信息記錄介質的製造方法，其中，在進行前述工序(5)(6)之後，進一步包括(7)在光固化性轉印層的凹凸表面上設置反射層的工序。30.—種光信息記錄介質，其通過權利要求23~29的任一項所述的製造方法來獲得。全文摘要本發明提供一種光固化性轉印片，所述光固化性轉印片有利於製造DVD等厚度薄、高容量的光信息記錄介質，凹坑等的轉印性和固化性優異。一種光固化性轉印片，其特徵在於，所述光固化性轉印片具有由通過加壓可變形的光固化性組合物形成的光固化性轉印層，所述光固化性組合物含有玻璃化轉變溫度為80℃以上的聚合物和具有光聚合性官能團的反應性稀釋劑。本發明還提供了使用該轉印片製造光信息記錄介質的方法和光信息記錄介質。文檔編號G11B7/24038GK101512646SQ200680055840公開日2009年8月19日申請日期2006年9月14日優先權日2006年9月14日發明者北野秀樹,小坪秀史,村山賢治,稻宮隆人申請人:株式會社普利司通