X射線設備以及用於x射線設備的檢測單元的製作方法

2023-06-06 14:46:46 2

專利名稱：X射線設備以及用於x射線設備的檢測單元的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種x射線設備，具有
a) 用於透射物體的X射線輻射源，所述X射線輻射源能夠藉助第一 驅動器件沿著運行軌道運行；和
b) 檢測單元，X射線在穿透所述物體後射到所述檢測單元上，所述檢 測單元能夠藉助第二驅動器件沿著一檢測運行軌道運動。
此外本發明涉及一種用於X射線設備的檢測單元，所述檢測單元具有 至少一個至少二維分辨的檢測器，所述檢測器具有輻射敏感的表面。
背景技術：
在開頭所述的X射線設備中，檢測單元通常包括一內置的二維分辨的 檢測器，所述檢測器具有一平的輻射敏感表面，例如可以是可數字式讀出 的存儲膜/存儲膠片、CCD傳感器或CMOS傳感器。
在X射線攝影時，X射線輻射源和檢測單元同時圍繞一公共的轉動中 心運動，其中該轉動中心與檢測器的間距和轉動中心與X射線輻射源的間 距之間的比例保持不變。
在轉動時，X射線輻射源和檢測單元沿相反方向在平行的直線軌道上 運行，其中轉動中心在與X射線輻射源和檢測單元的軌道平行的軌道上移 動。
這樣設置檢測器，使得其朝向輻射源的平面表面平行於檢測單元的軌 #， X射線輻射源相應於檢測單元的位置這樣轉動，使得X射線在穿 透待透射物體後射到檢測單元或檢測器上。
對於醫用X射線i殳備，所述物體涉及患者的身體部分，特別是在x射線設備的口腔應用中涉及患者的頜弧或齒弧。
在X射線輻射源和檢測單元沿著其軌道運行期間形成多個單像 (Einzelaufnahme )，所述單像共同形成一總圖像。
每個單像對應於一個窄、平的投影區域，在該投影區域中被X射線穿 透的患者組織清晰地成像。簡單地說，將單像的各個窄的豎直區域組合在 一起。
通過^f吏檢測單元和X射線輻射源在一運動平面中同時運動，僅在一個 平面、即所謂的焦平面中清晰地成像，所述焦平面平行於檢測單元和X射 線輻射源的運動平面並包含轉動中心。平行於所述焦平面的平面隨著與焦 平面的距離的增加和偏角的增加以模糊或不清晰的方式成像。
上述標準方法的缺點是，僅能在焦平面中精確地檢測物體的X射線密 度，這經常不足以進行充分的診斷。
為了克服(所述缺點)，研發了應用計算機的層析攝影法，其中X射 線輻射源和檢測單元以180。圍繞物體轉動，對於轉動的每個角度階段都 檢測X射線圖像。由多個這樣攝影的二維X射線圖像，可以通過計算量大 的方法來計算X射線密度的三維數據。
應用計算機的層析攝影法的缺點是，由於攝下多個X射線圖像所以在 攝影期間對患者施用的X射線劑量非常高。此外為獲得希望的三維圖像必 須進行大量的計算。
此外，檢測的數據量經常比相應的專門診斷所需的量大很多，這同樣 以不必要的X射線劑量進行。

發明內容
本發明的目的在於，提供一種X射線設備以及用於X射線設備的檢測 單元，通過所述X射線設備和檢測單元能以較低的X射線劑量產生多個高 解析度的分圖像/半像/剖面圖像(Schnittbilder)，其中保持較低的計算量。 對於開頭所述的X射線設備，所述目的由此實現 c)所述檢測單元包括至少兩個檢測器，所述檢測器ca) 對X光起反應；和
cb) 平行間隔地前後設置；
其中
d)所述檢測器分別僅吸收射到所述檢測器上的X射線的一部分。 對於與開頭所述的檢測單元，所述目的由此實現 a )設置至少兩個檢測器，所述檢測器設置成使得檢測器的表面彼此平 行地延伸；和
b)所述檢測器僅部分地吸收X射線。
換句話說，輻射敏感的檢測器表面沿輻射方向前後設置。對於給定的 攝影參數在其中清晰成像的焦平面的位置與所述檢測器距輻射源的間距相 關，所述才聶影參數例如包括X射線電壓、膝光時間、射束電流和射束橫截 面積等。
因為在至少兩個沿輻射方向間隔的檢測器的情況下也形成檢測器與X 射線輻射源的(至少)兩個不同間距，所以每個檢測器具有一個焦平面， 所述焦平面與另 一檢測器的焦平面相隔。
這樣便能夠利用 一次攝影產生與檢測器的數量對應的多個層析圖/層 析X射線圖。
本發明的較有利設計方案在從屬權利要求中給出。


下面藉助附圖詳細闡述本發明的實施例。其中示出了 圖1是示意性示出的X射線設備的俯視圖； 圖2是根據圖1所示的X射線設備的透視圖； 圖3是傳感器單元的第一實施例； 圖4是傳感器單元的第二實施例；
圖5是用於說明根據圖1和圖2的X射線設備的可能的工作原理的示 意圖，其中示出了具有三個檢測器的檢測單元；
圖6是與圖5對應的示意圖，其中示出了具有五個檢測器的檢測單元；
8圖7示出了一個圖表，其中示出X射線強度根據X射線穿過的檢測器
數量而實質性地下降；
圖8在為圓弧形的頜部段成像時的成像條件的示意圖。
具體實施例方式
在圖1和圖2中，X射線設備總地以10標註。
X射線i殳備10包括X射線輻射源12和檢測單元14， 二者由可動的鉸接杆系/連杆結構(Gelenkgestange) 16支承。所述鉸接杆系能夠藉助具有活塞杆20的液壓缸18沿z方向運行，其中液壓缸18固定在未示出的殼體壁或相應的框架上。
在圖1和圖2示出的xyz坐標系中，z軸與活塞杆20的軸線重合，x軸和y軸分別在空間中固定。
活塞杆加在其自由端上支承有一雙關節結構(Doppelgelenk) 22。所述雙關節結構22的第一關節件24可以通過一電機26圍繞z軸轉動，並通過一內支承杆28剛性地與臂關節32的第一關節件30連接。
臂關節32的第二關節件34能夠通過一電機36圍繞z軸轉動，並通過一外支承杆38剛性地與端關節42的第一關節件40連接。
端關節42的可通過一電機44圍繞z軸轉動的第二關節件46支承險測單元14。
上述部件24至46形成鉸接杆系16的第一主臂48。第二主臂48'具有與主臂48相同的部件；所述部件在圖l和圖2中利用相應的加有撇(')的附圖標記來標註。
端關節42'的第二關節件46'支承X射線輻射源12。
X射線輻射源12和檢測單元14基本上以相同的高度處於在共同的xy平面中，為此目的，與主臂48的相應部件相比，主臂48'的部件24'至46'在豎直尺寸相同的情況下上、下交換。
如圖1所示，電才幾26、 36、 44以及26'、 36'、 44'分別通過導線50、52、 54和5(T、 52\ 54'與一控制/計算單元連接。X射線輻射源12通過導線58與控制/計算單元56通信，從而可以通過所述控制/計算單元調節攝影M,例如X射線輻射源12的X射線電壓、啄光時間、射束電流和射束橫截面積。
相應的參數可以藉助於鍵盤55輸入控制/計算單元56中。
此外，控制/計算單元56通過一導線60與 一在此未示出的控制閥連接，通過所述控制閥可以使壓力介質泵與液壓缸18連接，由此可以調節(液壓)缸杆20的位置以及鉸接杆系16在z軸上的位置。
此外，X射線設備IO包括一發光單元94，該發光單元將在下面更為精確地闡述。
在圖3中示出了傳感器單元14的實施例。所述傳感器單元包括一殼體62，所述殼體的材料不能被可見光穿透、而能被X射線穿透。在此，上部的蓋壁64以部分剖去的方式示出。
垂直於蓋壁64的側壁66具有5個防止光入射的狹縫68,所述狹縫彼此均勾地間隔並垂直於所述蓋壁64延伸。在所述殼體內，在平行於側壁66的側壁70上、在蓋壁64上以及在與所述蓋壁平行的側壁上(在圖3中不可見)設置有導槽72，其中設置在蓋壁64的內側上的其它導槽由於清晰的原因而未4皮示出。
在導槽72中設置可數字式讀出的檢測膜74，所述檢測膜通過狹縫68插入殼體62的導槽72中。
檢測膜74具有朝向輻射源的平的表面75,所述檢測膜由這種材料製造，使得所述檢測膜不是完全地而是僅部分地吸收射入的X射線，這將在下面進一步闡述。
例如常規的卣化銀X射線膜、存儲膜以及X射線膜和存儲膜組合物具有這種性質。存儲膜在透明塑料基質中包含具有一色心的磷光體顆粒，所述磷光體顆粒可以在X光的作用下i^穩定的激勵狀態。通過以讀寫雷射束(Lese-Laserstrahl)進行掃描，可以將所述激勵狀態引入更高的激勵狀態，這個狀態在發出螢光的情況下快速地衰減。通過檢測螢光可以讀出存儲膜的潛像。
10圖4中示出了與圖3相應的檢測單元14的另一實施例，其中插入CCD檢測器或CMOS檢測器76代替檢測膜74。所用的檢測器76具有一輻射敏感的平的表面77,所a面在操作條件下指向X射線輻射源12,所述檢測器分別僅部分地吸收射入的X射線。
檢測器76可以是通用的感應可見光的CCD檢測器或CMOS檢測器，所述CCD檢測器或CMOS檢測器具有(部分地)吸收X射線的發光材料層或者設置在相應的螢光屏後。
通過配置殼體62,將檢測膜74或檢測器76如此前後排列地設置在檢測單元14中，使得其在操作條件下指向X射線輻射源的平的表面75或者77相互平4亍。
在應用CCD檢測器或CMOS檢測器76時，所述CCD檢測器或CMOS檢測器通過多股的數據傳輸線纜78 (在圖l和圖2中以虛線示出)與控制/計算單元56連接。當控制/計算單元56接收數據時，所述控制/計算單元直接分析所述數據進而由此產生每個檢測器76的二維圖像，或者為了進行分析可將所述數據從控制/計算單元56傳輸到外部的計算機(在此未示出)。
數據傳輸線纜78還可以由無線的數據傳輸線路代替，例如紅外數據傳輸線路、藍牙數據傳輸線路等。
殼體62的約定地朝向X射線輻射源12的側壁(在圖3和圖4中以附圖標記80來標註)由僅以較小的程度吸收X射線的材料製成，例如由聚對苯二甲酸乙二酯製成的黑色薄膜或者由原子序數低的金屬製成的薄金屬
當應用具有自己的不透光罩的CCD檢測器或CMOS檢測器76時，也可以完全省去殼體62的側壁80。 一般僅需要用於平行間隔地保持檢測器76的殼體部件。
與在圖3和圖4中示出的檢測膜74或檢測器76的數目不同，殼體62也可以容置多於或少於5個檢測膜74或檢測器76。特別是可以考慮3個檢測膜74或檢測器76，也可以應用7個、9個和更多的檢測器74或76以及其它的數目的檢測器。
還可以在檢測單元14中組合有檢測膜和檢測器，以便共同獲益於二者在解析度、靈敏度以及提供可視覺感知的圖像的速度方面的特別優點。
在圖5和圖6中示出了 X射線設備IO的可能工作模式，其中使用的檢測單元14分別具有3個檢測器74A、 B、 C或76A、 B、 C (圖5 )和5個檢測器74A、 B、 C、 D、 E或76A、 B、 C、 D、 E (圖6)。
分別示出了檢測單元14的運動的兩個變型以實線示出的運動，其中檢測膜74或檢測器76保持平行於運行路徑88;以虛線示出的運動，其中檢測膜74或者檢測器76共同轉動以垂直於X射線。
作為待透射的物體，示例性地示出了患者齒弧的圓弧形部段82，該圓弧形部段還在圖1中示出。
圖5以三個不同位置RA、 RB、 RC示出X射線輻射源12。通過藉助於電機26'和36M吏鉸接杆系16的主臂48'運動以使X射線輻射源12沿著直線的輻射源運行軌道86運行，X射線輻射源12在攝影時經過這三個位置。
在X射線輻射源12運行期間，藉助於電機44'使該輻射源如此轉動，使得X射線輻射源12的輻射發射孔84總是指向檢測單元14的方向。
通過相應地驅動電機26和36，藉助主臂48又使檢測單元14在攝影時反向於X射線輻射源12的運動而沿著直線的檢測單元運行軌道88運行。這意味著，如圖5和圖6所示，當X射線輻射源12處於位置RA、 RB和RC時，檢測單元14分別位於位置SA、 SB和SC。
藉助電機44使檢測單元14在沿著運行軌道88運動時如此圍繞z軸轉動，使得檢測膜74或檢測器76的分別在xz平面中延伸的輻射敏感表面75或77總是平行於運行軌道88。這可以在圖5和圖6中清楚地看出。
對於X射線輻射源12和檢測單元14的不同於圖5和圖6所示的位置，可相應地理解各條件。
如果要在多個相應彎曲的焦平面中檢測整個齒弧，適當的是在檢測單元14前方設置有對X射線起作用的一豎直(在z方向上延伸)的狹縫100，所述狹縫總是被X射線垂直地射入，如圖8所示，並將轉動中心置於中間焦平面90B夕卜。
在X射線輻射源12圍繞齒弧82運動期間，三個設置在後方的檢測膜74A、 74B、 74C不僅轉過X射線輻射源12的轉動角度，而且相對於X射線狹縫100直線移動，如圖8中對三個攝影位置所示的那樣。
在此基於齒弧82的近似圓弧形的部段作為實例，X射線輻射源12與齒弧內的柱形焦平面間距固定地移動，從而所述X射線輻射源總是垂直於所述焦平面。
三個檢測膜74A、 74B和74C (或者三個檢測器76 )利用X射線狹縫100同樣與各自的焦平面90A、卯B、 90C保持固定間距，並轉it^目同的角度。在此，轉動中心92處於焦平面90A、 90B、卯C的中心或曲率中心，所述焦平面清晰地在檢測膜74A、 74B和74C上成寸象。
為此，存儲膜74在轉過角度w時如此移動，使得例如點Pl變為pr ，點P2變為P2'。
如果其它的存儲膜74A和74C移動了相同的距離，則通過檢測膜組、狹縫100和X射線輻射源12的這種運動形式，在前後排列的檢測膜74A、74B、 74C上記錄下圖像，所述圖像分別對應於焦平面90A、 90B、卯C中的分圖像。
通過改變在膜組中的各檢測膜74的間距，可以控制各圓形焦平面90A、 90B、 90C的間距。
同樣可以不同地選擇檢測膜74A、 74B、 74C的平動速度。由此也可以影響焦平面的間距。如果例如檢測膜74C沿檢測器運行路徑88的方向快速移動，則相應的焦平面卯C向外運動。
X射線輻射源12和檢測單元14的整個運動歷程在攝影期間這樣彼此協調，即如開頭所述，在檢測器74或76上的各單像的窄的豎直攝影區域組合地成像以得到 一 總圖像。
由於在檢測單元14中設置多個僅部分地吸收射入的X射線的檢測膜74或檢測器76,在各個檢測膜74或檢測器76上分別產生齒弧82的不同分圖像。
在圖5的檢測單元14中設置有三個檢測膜74A、 74B和74C。在各檢 測膜上成4象的剖面分別對應於由實線示出的焦平面卯A、卯B和90C。
如圖5所示，焦平面90A、卯B和90C與檢測膜74A、 74B、 74C在 檢測單元14內的布置方式相應地前後排列。
在焦平面卯A與卯B間以及90B與卯C間的間距d與X射線輻射源 12、檢測單元14以及容置在檢測單元中的檢測膜74彼此間的相對布置結 構有關。
基於X射線輻射源12和檢測單元14直接相對設置的位置，如在X射 線輻射源12的位置RB和檢測單元14的位置SB的情況下，兩個相鄰焦 平面90之間的間多巨d可以如下求得
如果a是中央檢測膜74B與轉動中心92之間的間距，b是X射線輻 射源12與轉動中心92之間的間距，c是兩個相鄰檢測膜74A與74B和厶 或74B與74C之間的間距，則在兩個相鄰焦平面卯A與卯B和/或90B與 90C之間的間距d根據以下公式計算
d = b x c/ ( a +b )
各個間距在圖5和圖6中以相應的字母來標註，其中在附圖中示出的 比例在數量方面不與實際的比例相符。
在應用三個檢測膜74A至74C時，相應地形成三個相互間存在間距d 的焦平面卯A至卯C。
在此，將X射線輻射源12的用於計算焦平面90的位置和間距d的以 及用於確定間距b的位置理解成平均的X射線起始點、例如X射線陰極的 平均位置。
在附圖中，X射線輻射源12示意性地以圓柱形示出，其中假設X射 線的平均起始點處於圃柱形的軸向中心。
在圖6中示出了檢測單元14的布置結構，其使用5個檢測膜74A至 74E。相對於根據圖5所示的實施例，檢測單元14具有一更接近X射線輻 射源12的方向設置的附加存儲膜7492和一在檢測單元14的相反側^:置的附加檢測膜74E。
相應地，焦平面90A、 90B、 90C、卯92或者90E分別在檢測膜74A 至74E上清晰地成像，其中每兩個相鄰的焦平面90相互間存在間距d中， 所述間距根據上面給出的公式計算。
基於檢測膜74的實例說明的對間距d的計算對於CCD檢測器或 CMOS檢測器76相似地實現。為了確定間距a和b，在此將輻射敏感表面 77的位置作為參考值。
通過X射線輻射源12和檢測單元14的相對布置形式，以及通過^f吏用 多個前後設置的檢測膜74或檢測器76或者二者的組合，可以利用在多個 前後設置的焦平面90中的僅一次攝影使物體的X射線密度在各個檢測膜 74或檢測器76上清晰地成像。對此必要的X射線劑量一一例如對於牙齒 的、口腔的X射線攝影，這在此以齒弧82為例說明——與對口腔的標準 單次攝影的數量^4目同。
透過一檢測膜74或檢測器76的X射線到達一設置在該檢測膜74或 檢測器後方的檢測膜74或檢測器76,從而能以相同的輻射加載產生與所 用的檢測膜74或檢測器76的數量對應的分圖像。
在圖7中示出了一個圖表，該圖表示出在一組十個口腔標準檢測膜中 X光強度下降，其中管電壓為70kV，對應於約35keV的平均X射線能量。
如在圖7中可以實質性地看出，X射線在穿透多個檢測膜之後仍具有 較高的強度，所述強度足以在後續的檢測膜上分別產生圖像。
處於焦平面卯外的平面在檢測器74或76上模糊地顯示。
在使用檢測膜74時，在數字式讀出後能夠利用傳統的圖像處理裝置對 所檢測的分圖像進行再處理，所述圖像處理裝置刪除來自位於相應的檢測 膜74的相應焦平面卯外的像平面的平均X射線密度。
在應用CCD檢測器76或CMOS檢測器76時，圖像處理自動地通過 控制/計算單元56或者如所述地通過外部計算機來實現。
上述發光單元94以X射線輻射源12和檢測單元14的高度安裝在雙 關節22上。所述發光單元相應於所用的檢測器74或76的數量線性地在各
15xz平面中將光投射到物體82上，例如分別藉助於一發光二極體陣列。
各自對應於一光束的兩個xz平面之間的間距和位置分別與焦平面卯 之間的間距d和焦平面90的位置一致。
這樣便可將參考線投射到物體82的外輪廓上，以便在X射線攝影前 相應於焦平面90的位置調整物體82。
單個發光二極體陣列96可以藉助於電機98在y軸上運行，在使用不 同的檢測單元14時，其中在各檢測器74或76之間的間距c不同，單個發 光二極體陣列96相應於所計算的間距d相對定位。
上述用於形成多個分圖像的基本原理並非僅能在X射線輻射源12和 檢測單元14的軌道86和88是直線的情況下應用。
還可以考慮例如應用在所謂的曲面體層攝影 (Panoramar6ntgenaufhahmen )中，其中X射線輻射源和檢測單元在弓 形的軌道上運動。
可以對上述實施例進行以下的進一步改變
檢測單元14包括以下檢測器類型中的至少兩種卣化銀膜、存儲膜、 基於圖像轉換器的檢測器。
檢測單元14包括至少兩個檢測膜74和/或檢測器76，所述檢測膜和/ 或檢測器對由X射線輻射源12發出的X射線的反應不同。
在此，檢測器的X射線有效橫截面積優選地沿輻射方向增加。
如果將檢測器有效橫截面積的增加選擇成使得各檢測器吸收的X光的 量基本上相同，則由各檢測器產生的圖像基本上具有相同的灰度和相同的 對比度。
如果為檢測單元的檢測器中的至少一個設置一伺服驅動裝置，所述祠 服驅動裝置使所述檢測器在沿著檢測軌道運動時平行或不平行於檢測器平 面進行附加的運動，則可以由此控制相應的焦平面的位置。
在此附加的運動優選與檢測單元14的4於程成比例。
優選地，附加的運動還與所考慮的檢測器距檢測單元在輻射方向上觀 察的中心的間距成比例。
1權利要求
1.一種X射線設備，具有a)用於透射物體(82)的X射線輻射源(12)，所述X射線輻射源能夠藉助第一驅動器件(48′)沿著一源軌道(86)運動；和b)檢測單元(14)，X射線在透射所述物體(82)後射到所述檢測單元上，所述檢測單元能夠藉助第二驅動器件(48)沿著一檢測軌道(88)運行，其特徵在於，c)所述檢測單元(14)包括至少兩個檢測器(74；76)，所述檢測器ca)對X光起反應；和cb)平行間隔地前後設置；其中d)所述檢測器(74；76)——必要時最後一個檢測器例外——分別僅吸收射到所述檢測器上的X射線的一部分。
2. 根據權利要求1所述的X射線設備，其特徵在於，所述檢測器(74; 76)的垂直於輻射方向的主表面基本上是平面。
3. 根據權利要求1或2所述的X射線設備，其特徵在於，所述檢測 器(74 )是檢測膜(74 )，尤其是存儲膜。
4. 根據權利要求1或2所述的X射線設備，其特徵在於，所述檢測 器(76 )是CCD檢測器或CMOS檢測器。
5. 根據權利要求1至4中任一項所述的X射線設備，其特徵在於， 設置有三到十一個檢測器(74; 76)。
6. 根據權利要求5所述的X射線設備，其特徵在於，設置有三個檢 測器(74; 76)。
7. 根據權利要求5所述的X射線設備，其特徵在於，設置有五個檢 測器(74; 76)。
8. 根據權利要求5所述的X射線設備，其特徵在於，設置有七個檢測器(74; 76)。
9. 根據權利要求1至8中任一項所述的X射線設備，其特徵在於， 設置有一發光單元(94)，所述發光單元將一線圖案投射到所述物體(82) 的外輪廓上，所述線圖案對應於焦平面(90)的位置和數量。
10. 根據權利要求9所述的X射線設備，其特徵在於，所述發光單元 (94)包括與所述焦平面(卯)的數量對應的發光二極體陣列(96)。
11. 一種檢測單元，該檢測單元用於根據權利要求1至10中任一項 所述的X射線設備，所述檢測單元包括至少一個檢測器(74; 76)，所述 檢測器至少是二維分辨的並對X光敏感，其特徵在於，a) 設置至少兩個檢測器(74; 76)，所述檢測器平行間隔地設置；b) 所述檢測器(74; 76)僅部分地吸收X射線，必要時最後一個檢 測器例外。
12. 根據權利要求11所述的檢測單元，其特徵在於，設置一殼體(62 ), 所述殼體除了輸入窗(80)外由不透光的材料製成。
13. 根據權利要求11或12所述的檢測單元，其特徵在於，在所述殼 體(62)的側壁(66)中設置有開口 (68)，通過所述開口能夠將所述檢 測器(74; 76)插入所述殼體(62)中。
14. 根據權利要求11至13中任一項所述的檢測單元，其特徵在於， 所述檢測器(74; 76)設置在所述殼體(62)內的導槽(72)中。
15. 根據權利要求11至14中任一項所述的檢測單元，其特徵在於， 所述殼體(62)的側壁(80)包括塑料膜、特別是由聚對苯二曱酸乙二酯 製成的黑色膜。
16. 根據權利要求11至14中任一項所述的檢測單元，其特徵在於， 所述殼體(62)的側壁(80)是由原子序數低的金屬製成的箔片，所述金 屬僅以很小的程度吸收X射線。
17. 根據權利要求11至16中任一項所述的檢測單元，其特徵在於， 設有檢測膜(74)、特別是存儲膜作為所述檢測器。
18. 根據權利要求11至17中任一項所述的檢測單元，其特徵在於， 設有CCD檢測器(76 )或CMOS檢測器(76 )作為所述檢測器(76 )。
19. 根據權利要求11至18中任一項所述的檢測單元，其特徵在於， 為所述檢測單元(14)設置一伺服驅動裝置(44),所述伺服驅動裝置使 所述檢測單元(14)在沿著檢測軌道(88)運動時保持平行於所述檢測軌 道(88 )。
20. 根據權利要求11至17中任一項所述的檢測單元，其特徵在於， 為所述檢測單元(14)設置一伺服驅動裝置(44)，所述伺服驅動裝置使 所述檢測單元 14)在沿著檢測軌道(88)運動時保持垂直於輻射方向。
21. 根據權利要求11至20中任一項所述的檢測單元，其特徵在於， 所述檢測單元(14)包括以下檢測器類型中的至少兩種卣化銀膜、存儲 膜、基於圖像轉換器的檢測器。
22. 根據權利要求11至21中任一項所述的檢測單元，其特徵在於， 所述檢測單元(14)包括至少兩個檢測器(74; 76)，所述至少兩個檢測 器對由X射線輻射源(12)發出的X射線的反應不同。
23. 根據權利要求22所述的檢測單元，其特徵在於，所述檢測器(74; 76)的X射線有效橫截面積沿輻射方向增加。
24. 根據權利要求23所述的檢測單元，其特徵在於，將所述有效橫 截面積的增加選擇成使得各檢測器(74; 76)中吸收的X光的量基本上相 同。
25. 根據權利要求11至24中任一項所述的檢測單元，其特徵在於， 為所述檢測單元(14)的檢測器(74; 76)中的至少一個設置一伺服驅動 裝置，所述祠服驅動裝置使所述檢測器(74; 76 )在沿檢測軌道(88 )運 動時進行附加的運動，所述附加的運動平行於檢測器平面或者不平行於該 檢測器平面。
26. 根據權利要求25所述的檢測單元，其特徵在於，所述附加的運 動與所述檢測單元(14)的行程成比例。
27. 根據權利要求25或26所述的檢測單元，其特徵在於，所述附加的運動與所考慮的檢測器(74; 76)距所述檢測單元(14)在輻射方向上 觀察的中心的距離成比例。
全文摘要
本發明涉及一種X射線設備(10)，其具有X射線輻射源(12)和檢測單元(14)，所述檢測單元(14)包括多個檢測器(74)，所述檢測器僅吸收射到所述檢測器上的X射線的一部分，並平行間隔地前後設置。通過X射線設備或檢測單元可以實現，利用一次攝影獲得被透射物體的、相應於間隔的焦平面的多個分圖像。
文檔編號G01N23/04GK101686823SQ200880014197
公開日2010年3月31日 申請日期2008年3月7日 優先權日2007年4月30日
發明者M·湯姆斯 申請人:杜爾牙科股份有限公司