溶劑回收系統的製作方法

2023-06-12 19:01:41

專利名稱：溶劑回收系統的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種回收塗敷於基板的塗敷液中的溶劑並進行再利用的溶劑回收系統。
背景技術：
在專利文獻1中公開有如下的被膜形成方法，即沿玻璃基板等的基板運送線，鄰接配置塗敷裝置和減壓乾燥裝置，且通過減壓乾燥裝置使由塗敷裝置塗敷在基板表面上的塗敷液中的溶劑揮發，並使塗敷液乾燥直至運送時不從基板落下的程度，並向下一個工序運送。
並且，在專利文獻2中公開有如下構成，即在減壓處理腔室和真空泵之間，即在真空泵的上遊側配置有溶劑回收裝置。
專利文獻1JP專利第2756596號公報專利文獻2JP特開2005-85814號公報然而，即使在基板尺寸較小塗敷量也較少的場合下，抽真空的配管中有時會積存溶劑，但當基板尺寸達到一米見方時，配管中會積存大量的揮發溶劑。
在專利文獻2中，考慮了在減壓處理腔室和真空泵之間設置收集裝置方法，但當在真空泵的上遊側設置收集裝置時，負荷變大，抽真空則比較費時。尤其是在減壓處理腔室內，有時會將氣氛溫度設為高於溶劑沸點的溫度來進行處理，此時在真空泵的上遊側的配管中容易結露。

發明內容
鑑於上述各點，本發明提供一種不會在配管內積存溶劑，且可有效地從塗敷的塗敷液中回收溶劑並進行再利用的系統。
本發明涉及的溶劑回收系統中，與塗敷裝置鄰接地配置有減壓乾燥裝置，並對在減壓乾燥裝置內揮發的基板表面的塗敷液中的溶劑進行回收，該溶劑回收系統的構成為，在使減壓乾燥裝置內減壓的真空泵的下遊側設置有液化收集裝置，且利用該液化收集裝置對溶劑進行液化並回收。
根據本發明涉及的溶劑回收系統，由於在使減壓乾燥裝置內減壓的真空泵的下遊側設置液化收集裝置，並利用該液化收集裝置對溶劑進行液化並回收，因此揮發的基板表面的塗敷液中的溶劑在液化收集裝置中被冷卻並被液化。由此，揮發的溶劑不會積存於例如減壓乾燥裝置和真空泵之間的配管內。
並且，由於在真空泵的下遊側設置有液化收集裝置，因此不會成為真空泵的負荷，且不會延長對減壓乾燥裝置進行減壓為止的時間。
在上述的溶劑回收裝置中，當其構成為沿基板的運送線配置塗敷裝置及減壓乾燥裝置，並在塗敷裝置上附設預塗敷用的預備滾筒及噴嘴清洗部，且被液化並回收的溶劑經由送液泵被送到預備滾筒及噴嘴清洗部時，可對在預備滾筒或噴嘴清洗部中回收的溶劑進行再利用，可減少清洗劑(新液體)的使用。
根據本發明，不會在配管中積存揮發溶劑，且可對至今未進行過再利用的塗敷液中的溶劑進行再利用，可以實現一種有利於環境衛生且節約成本的溶劑回收系統。


圖1是表示本發明涉及的溶劑回收系統的一個實施方式的簡要圖。
圖2是表示溶劑的再利用處即塗敷裝置的一個實施方式的簡要側視圖。
圖3是表示液化收集裝置的一個實施方式的簡要構成圖。
圖4是預備滾筒的簡要構成圖(放大圖)。
圖5是清洗部的簡要構成圖(放大圖)。
附圖符號說明1 基板送入部；2 塗敷裝置；3 減壓乾燥裝置；4 液化收集裝置；5 溶劑回收用配管；6 送液泵；7 脫水裝置；8 過濾器；9 緩衝罐；21 狹縫噴嘴；22 預備滾筒；23 噴嘴清洗部；24 浸泡槽；25、27 蓋部；26 循環液噴淋噴嘴；28 新液體噴淋噴嘴；29 噴出乾燥氣體的噴嘴；30 刮板；31 排氣用配管；32 真空泵；33 連接真空泵與液化收集裝置的配管；34 來自液化收集裝置的排氣管；35 冷卻管；36板；37 上部件；38 下部件；39 清洗用部件；40 擦拭構件；41 開口；42 狹縫噴嘴的傾斜面。
具體實施例方式
以下基於附圖對本發明的一個實施方式進行說明。
圖1是表示本發明涉及的溶劑回收系統的一個實施方式的簡要圖，圖2是溶劑的再利用處即塗敷裝置的簡要側視圖。
本實施方式中，如圖1所示，溶劑回收系統適用於沿玻璃基板W的運送線的被膜形成裝置。即，沿運送線從上遊側依次配置有基板送入部1、塗敷裝置2及減壓乾燥裝置3。
如圖2所示，在塗敷裝置2中，配置有以一定寬度對基板W的表面塗敷塗敷液的狹縫噴嘴21，且配置有後述的狹縫噴嘴21的預塗敷用的預備滾筒22。在該塗敷裝置2中，還配置有噴嘴清洗部23、及浸泡槽24。
從減壓乾燥裝置3中引出排氣用配管31，在該配管31上配置有真空泵32。
並且，在本實施方式中，尤其在從該真空泵32中引出的配管33上設置有液化收集裝置4。
具體而言，液化收集裝置4並非設置在減壓乾燥裝置3與真空泵32之間的配管31上，而是設置在真空泵32的下遊側，即比真空泵32更靠近排氣側。作為該理由是為了防止如下問題的發生，即不成為真空泵32的負荷而可高效地進行排氣；並且，在真空泵32後溶劑有時會從氣體恢復到液體，並滯留在配管33內；並且，即使不發生滯留時，液體也會流向工廠排氣側等。
液化收集裝置4具有冷卻機構。如圖3所示，該冷卻機構的構成為例如供給冷卻水的配管(冷卻管)35從外部被引到液化收集裝置(罐)內。並且，液化收集裝置本體具有可從外部視覺確認被液化的溶劑量的功能。34是與工廠排氣連接的排氣管。
根據該種構成，可對液化收集裝置本體內進行冷卻而達到較低溫度。由此，由真空泵32通過配管33進入到液化收集裝置4內的揮發溶劑，被冷卻並被液化。
作為其他實施方式，雖未圖示，但可以考慮如下構成，即與液化收集裝置本體的外部緊靠地設置有冷卻水流動的水冷套，將向該水套供給冷卻水的配管引到液化收集裝置4本體內並設為冷卻管，並在該冷卻管內設置有吸熱用的散熱片。由此可進一步提高液化收集裝置本體內的冷卻效果。
並且，通過調整冷卻管內的阻力值及冷卻管的長度，也可以進一步提高冷卻效果。
並且，在減壓乾燥裝置3與真空泵32之間的配管31內，由於處於高真空狀態，因此揮發溶劑未被液化。在比真空泵32更靠近液化收集裝置4一側容易發生液化，且在液化收集裝置4的本體內的空氣溫度降低時發生。
從液化收集裝置4引出有溶劑回收用配管5，在該配管5上設置有送液泵6，並在該送液泵6的下遊側配置有脫水裝置7及過濾器8。並且，在上述構成的液化收集裝置4中被液化的溶劑通過送液泵6被送到緩衝罐9，且積存在緩衝罐9內的溶劑被用於圖2所示的預備滾筒22的清洗及噴嘴清洗部23。
即，如圖4的放大圖所示，預備滾筒22配置在存儲有清洗劑的清洗槽24內。在覆蓋清洗槽24的一側的蓋25上，設置有噴出循環的清洗劑的循環液噴淋噴嘴26，在另一側的蓋27上，設置有新液體噴淋噴嘴28及噴出乾燥氣體的噴嘴29，在這些循環液噴淋噴嘴26及新液體噴淋噴嘴28的下方設置有與預備滾筒22的表面接觸的刮板30。
在該預分配部23內，例如當附著有塗敷液的預備滾筒22旋轉時，從循環液噴淋噴嘴26向預備滾筒22的表面供應清洗劑，並通過刮板30將頑固的附著物刮落。於是，最後預備滾筒22的表面通過由新液體噴淋噴嘴28供給的清洗劑而衝洗得很乾淨。其後，從乾燥氣體噴出噴嘴29向預備滾筒22噴出乾燥氣體，由此清洗劑被吹散，預備滾筒22的表面被乾燥。
在本實施方式中，回收到緩衝罐9內的溶劑，例如可用作從循環液噴淋噴嘴26噴出的清洗劑。由此，無需在預備滾筒22上採用新的清洗劑，減少了清洗劑的使用量。
並且，如圖5的放大圖所示，噴嘴清洗部24構成為在與未圖示的導軌結合的板36上，設置有由上部件37和下部件38構成的清洗用部件39。在上部件37之間夾持有擦拭構件40，朝向該擦拭構件40形成有與清洗劑供給部相通的開口41。
在該噴嘴清洗部24內，一邊由清洗劑供給部的開口41向狹縫噴嘴21的傾斜面42供應清洗劑，一邊通過未圖示的驅動裝置使板沿狹縫噴嘴21的長度方向移動，並利用擦拭構件40對附著於狹縫噴嘴21排出口的塗敷液進行擦拭清洗。
在本實施方式中，回收到緩衝罐9內的溶劑被用作由清洗液供給部的開口41向傾斜面42供應的清洗劑。由此，與預備滾筒22的場合同樣，無需在噴嘴清洗部23內採用新的清洗劑，減少了清洗劑的使用量。
脫水裝置7是用於去除回收的溶劑中所含水分的裝置。該脫水裝置7可根據需要設置。
過濾器8是用於過濾回收的溶劑而去除垃圾等的裝置。該過濾器8也可根據需要設置。
這樣，根據本實施方式的溶劑回收系統，不會在配管31及配管33內積存揮發溶劑，並可縮短減壓所需時間，可使揮發溶劑在液化回收裝置4內冷卻而液化。由此，被液化的溶劑可再次被利用於預備滾筒22及噴嘴清洗部23。
其次，對溶劑回收的具體實施例進行說明。
(實施例1)塗敷液丙二醇甲基醚乙酯(PGMEA)塗敷量100cc減壓極限壓66Pa基板尺寸1100×1250mm在上述條件下，連續塗敷20張(平均每張100cc)，塗敷後回收了從液化收集裝置收集的溶劑。其結果是1.44kg。
因PGMEA的比重為0.965，故塗敷重量為100×0.965×20＝1.93kg。因此，回收率為1.44/1.93＝75％(實施例2)塗敷液3-甲氧基乙酸丁酯(MA比重0.956)丙二醇甲基醚乙酯(PGMEA比重0.965)丙二醇甲醚(PGME比重0.9234)將上述三種溶劑按1∶1∶1混合。
塗敷量99cc減壓極限壓66Pa基板尺寸1100×1250mm在上述條件下，連續塗敷20張(平均每張99cc)，塗敷後回收了從液化收集裝置收集的溶劑。其結果是1.34kg。
因溶劑的平均比重為0.948，故塗敷重量為99×0.948×20＝1.89kg。因此，回收率為1.34/1.89＝70％(實施例3)塗敷液正型抗蝕劑(TFR-6000PM東京應化工業造)塗敷量99cc減壓極限壓66Pa基板尺寸1100×1250mm在上述條件下，連續塗敷10張(平均每張99cc)，塗敷後回收了從液化收集裝置收集的溶劑。其結果是0.56kg。
由於溶劑的平均比重為0.965，且塗敷液中的固體含量為12.5％，所以溶劑(PGMEA)的塗敷重量為99×0.956×10×(1-0.125)＝0.84kg。因此，回收率為0.56/0.84＝67％。
由上述可知，通過設置液化收集裝置4，可在各個實施例中提高揮發溶劑的回收率。
在上述的實施方式中，對將回收的溶劑再利用於預備滾筒22及噴嘴清洗部23的場合進行了說明，但除此以外，也可以用於抗蝕劑的粘度調整，或用作塗敷液。
此時，如果需要的話，也可以在回收的溶劑中添加新液體。此時，可通過在回收系統中添加新液體供給裝置(機構)來實現。
此外，本發明在基板尺寸大型化時效果更為突出。即，隨著基板尺寸的大型化而在減壓乾燥裝置內揮發的溶劑量增多，提高了溶劑的回收率。
此外，本發明不局限於上述實施方式，在不脫離本發明主旨的範圍內可採取其他各種構成。
權利要求
1.一種溶劑回收系統，與塗敷裝置鄰接地配置減壓乾燥裝置，且對在上述減壓乾燥裝置內揮發的基板表面的塗敷液中的溶劑進行回收，該溶劑回收系統的特徵在於，在使上述減壓乾燥裝置內減壓的真空泵的下遊側設置液化收集裝置，利用該液化收集裝置對上述溶劑進行液化並回收。
2.根據權利要求1所述的溶劑回收系統，其特徵在於，利用上述液化收集裝置液化的溶劑，經由送液泵被送到再利用處。
3.根據權利要求1所述的溶劑回收系統，其特徵在於，在上述塗敷裝置上附設有預塗敷用的預備滾筒及噴嘴清洗部，上述被液化並回收的溶劑，經由送液泵被送到上述預備滾筒或噴嘴清洗部。
全文摘要
本發明提供一種可從塗敷的塗敷液中高效地回收溶劑並進行再利用的系統。沿運送線從上遊側依次配置有基板送入部(1)、塗敷裝置(2)及減壓乾燥裝置(3)，從減壓乾燥裝置(3)中引出有排氣用配管(31)，在該配管(31)上設置真空泵(32)，在該真空泵(32)的下遊側配置液化收集裝置(4)，從上述液化收集裝置(4)中引出有溶劑回收用配管(5)，在該配管(5)上設置送液泵(6)，在該送液泵(6)的下遊側配置脫水裝置(7)及過濾器(8)，在液化收集裝置(4)內液化的溶劑，通過送液泵(6)被送到緩衝罐(9)。積存於該緩衝罐(9)內的溶劑被用於預備滾筒(22)的清洗。
文檔編號H01L21/68GK1974459SQ20061014597
公開日2007年6月6日 申請日期2006年11月28日 優先權日2005年11月30日
發明者升芳明, 高瀨真治, 楫間淳生 申請人:東京應化工業株式會社