不鏽鋼表面處理方法及由該方法製得的外殼的製作方法
2023-06-03 10:16:36
不鏽鋼表面處理方法及由該方法製得的外殼的製作方法
【專利摘要】本發明提供一種不鏽鋼表面處理方法，包括如下步驟：提供不鏽鋼基體；通過多弧離子鍍在不鏽鋼基體表面沉積打底層，該打底層為鈦金屬層；通過多弧離子鍍在所述打底層上沉積過渡層，該過渡層為鋁金屬層；通過磁控濺射方法在所述過渡層上沉積鋁膜；對該形成有打底層、過渡層及鋁膜的不鏽鋼基體進行陽極氧化處理，以使該過渡層及鋁膜被氧化而形成多孔的陽極氧化膜；對該經陽極氧化處理的不鏽鋼基體進行著色處理並封孔，以使不鏽鋼基體表面獲得所需的顏色。本發明還提供一種上述不鏽鋼表面處理方法製得的外殼。
【專利說明】不鏽鋼表面處理方法及由該方法製得的外殼
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種不鏽鋼表面處理方法及由該方法製得的外殼。
【背景技術】
[0002]不鏽鋼具有較高的強度以及很好的耐腐蝕性等優點，經常被用做電子裝置外殼。為了在不鏽鋼外殼表面獲得更好的裝飾性外觀，通常在其表面進行真空鍍膜，真空鍍膜雖然可以獲得金屬感很強的外觀，但顏色較為單調，而且顏色難以控制。相比之下，在鋁材上進行陽極處理能獲得顏色豐富的外觀，但經陽極處理的鋁材電阻高、導熱性低，作為電子裝置外殼不利於散熱，而且手感較差。
【發明內容】
[0003]有鑑於此，本發明提供一種不鏽鋼表面處理方法，可使不鏽鋼表面獲得陽極氧化處理的外觀效果，進而可獲得顏色豐富的外觀。
[0004] 另外，本發明還提供一種由上述方法製得的外殼。
[0005]一種不鏽鋼表面處理方法，包括如下步驟:
提供不鏽鋼基體；
通過多弧離子鍍在不鏽鋼基體表面沉積打底層，該打底層為鈦金屬層；
通過多弧離子鍍在所述打底層上沉積過渡層，該過渡層為鋁金屬層；
通過磁控濺射方法在所述過渡層上沉積鋁膜；
對該形成有打底層、過渡層及鋁膜的不鏽鋼基體進行陽極氧化處理，以使該過渡層及鋁膜被氧化而形成多孔的陽極氧化膜；
對該經陽極氧化處理的不鏽鋼基體進行著色處理並封孔，以使不鏽鋼基體表面獲得所需的顏色。
[0006]一種由上述不鏽鋼表面處理方法製得的外殼，包括不鏽鋼基體，該外殼還包括形成於該不鏽鋼基體表面的鈦形成於不鏽鋼基體表面的打底層及形成於該打底層表面的鋁陽極氧化膜，該打底層為鈦金屬層。
[0007]上述不鏽鋼表面處理方法，先採用多弧離子鍍於不鏽鋼基體表面形成一層鈦金屬作為打底層及採用多弧離子鍍於該打底層上形成該鋁金屬過渡層；再通過磁控濺射方法於該過渡層上形成該鋁膜；最後對鋁膜進行陽極氧化處理，以在不鏽鋼基體表面獲得陽極氧化膜，再通過著色處理使不鏽鋼基體獲得所需的顏色，由此可使不鏽鋼基體具有顏色豐富的外觀。該鈦金屬打底層主要起保護不鏽鋼基體的作用，其可防止不鏽鋼基體在後續陽極氧化處理過程中不被腐蝕，且該打底層通過多弧離子鍍形成，沉積速度快，且與不鏽鋼基體具有較高的結合力。另外，在磁控濺射該鋁膜之前，先通過多弧離子鍍形成該鋁金屬過渡層，該過渡層具有較高的附著力，且與後續的鋁膜具有相同的組成，可提高鋁膜的附著力。而鋁膜採用磁控濺射方法形成，使鋁膜比較細膩、光滑。【專利附圖】
【附圖說明】
[0008]圖1是本發明較佳實施例不鏽鋼表面處理方法的步驟流程圖。
[0009]圖2是本發明較佳實施例不鏽鋼表面處理方法過程中所用真空鍍膜設備的結構示意圖。
[0010]圖3是本發明較佳實施例外殼的剖面不意圖。
[0011]主要元件符號說明
【權利要求】
1.一種不鏽鋼表面處理方法，包括如下步驟: 提供不鏽鋼基體； 通過多弧離子鍍在不鏽鋼基體表面沉積打底層，該打底層為鈦金屬層； 通過多弧離子鍍在所述打底層上沉積過渡層，該過渡層為鋁金屬層； 通過磁控濺射方法在所述過渡層上沉積鋁膜； 對該形成有打底層、過渡層及鋁膜的不鏽鋼基體進行陽極氧化處理，以使該過渡層及鋁膜被氧化而形成多孔的陽極氧化膜； 對該經陽極氧化處理的不鏽鋼基體進行著色處理並封孔，以使不鏽鋼基體表面獲得所需的顏色。
2.如權利要求1所述的不鏽鋼表面處理方法，其特徵在於:沉積該打底層、過渡層及鋁膜是在同一真空鍍膜設備中進行，該真空鍍膜設備包括真空室、位於真空室內的轉架、用以對真空室抽真空的真空抽氣系統、以及若干個弧源裝置。
3.如權利要求2所述的不鏽鋼表面處理方法，其特徵在於:沉積該打底層時，將若干個鈦靶置於真空鍍膜設備的弧源位置上，將不鏽鋼基體固定於所述轉架上，該真空室被抽真空至3X10 —3Pa-8X10 —3Pa後，向真空室內充入惰性氣體，使真空室內壓力為0.1Pa-0.8Pa，調節真空室內溫度為90°C -105°C，對所述鈦靶施加200V-300V的負偏壓，設置偏壓電源的佔空比為40-50%，開啟所述鈦靶的電源，並調節鈦靶電壓為15V-30V，電流為50A-80A，在不鏽鋼基體上沉積該打底層，沉積時間為10-25分鐘。
4.如權利要求1所述的不鏽鋼表面處理方法，其特徵在於:沉積該過渡層時，將若干個鋁靶置於該真空鍍膜設備的弧源位置上，將形成有所述打底層的不鏽鋼基體固定於所述轉架上，該真空室被抽真空至3 X 10 — 3Pa-8 X 10 一 3Pa後，向真空室充入惰性氣體，使真空室內壓力為0.1 Pa-0.9Pa，調節真空室內溫度為90°C _115°C，對所述鋁靶施加200V的負偏壓，設置偏壓電源的佔空比為45%，開啟所述鋁靶的電源，並調節鋁靶電壓為15V-35V，電流為40A-70A，在打底層上沉積該過渡層，沉積時間為25-60分鐘。
5.如權利要求1所述的不鏽鋼表面處理方法，其特徵在於:沉積該鋁膜時，於真空室中設置若干個磁控鋁靶，將形成有所述打底層及過渡層的不鏽鋼基體固定於所述轉架上，該真空室被抽真空至3 X 10 — 3Pa-8 X 10 — 3Pa後，向真空室充入惰性氣體，使真空室內壓力為0.1Pa-0.9Pa，調節真空室內溫度為120°C _130°C，對所述磁控鋁靶施加250V的負偏壓，設置偏壓電源的佔空比為40%，開啟所述磁控鋁靶的電源，並調節電源功率為5kW-6kW，對不鏽鋼基體濺射50-70分鐘，以於所述過渡層表面形成所述鋁膜。
6.如權利要求4所述的不鏽鋼表面處理方法，其特徵在於:所述陽極氧化處理是以不鏽鋼基體為陽極，不鏽鋼片為陰極，以硫酸溶液為電解液；硫酸濃度為190g/L-210g/L，電解液溫度為8°C _13°C，採用恆電壓模式，恆定電壓為13V，處理時間為10min-15min。
7.一種外殼，包括不鏽鋼基體，其特徵在於:該外殼還包括形成於該不鏽鋼基體表面的打底層及形成於該打底層表面的鋁陽極氧化膜，該打底層為鈦金屬層。
8.如權利要求7所述的外殼，其特徵在於:該打底層的厚度為1.5 μ m-2.5 μ m。
9.如權利要求7所述的外殼，其特徵在於:該鋁陽極氧化膜的厚度為18μm-25μm。
【文檔編號】C23C14/35GK103898447SQ201210589228
【公開日】2014年7月2日 申請日期:2012年12月29日 優先權日:2012年12月29日
【發明者】張春傑 申請人:深圳富泰宏精密工業有限公司