補償微光刻投射曝光系統的通道缺陷的設備及方法

2023-06-07 16:10:51

補償微光刻投射曝光系統的通道缺陷的設備及方法
【專利摘要】本發明涉及一種微光刻投射曝光設備的照明系統，其包含：(a)多個通道，每個通道引導部分光束且至少一個通道包含至少一個缺陷；及（b)至少一個光學元件，其布置在具有該至少一個缺陷的該至少一個通道中，該光學元件適配於至少部分補償該通道的部分光束的至少一個缺陷。
【專利說明】補償微光刻投射曝光系統的通道缺陷的設備及方法

【技術領域】
[0001] 本發明涉及補償微光刻投射曝光系統的通道缺陷的領域。

【背景技術】
[0002] 微光刻投射曝光系統用於生產微結構組件，尤其是諸如集成電路（1C)的半導體 組件。微光刻投射曝光系統的必要組件包含光源、照明裝置或照明系統及投射物鏡或投射 系統。在使用深紫外光（DUV)波長範圍的電磁輻射的現代投射曝光系統中，光源通常是準 分子雷射系統（248nm的氟化氪（KrF)準分子雷射器、193nm的氟化氦（ArF)雷射、或157nm 波長氟化物（F2)的準分子雷射）。
[0003] 照明系統的性質決定微光刻投射曝光系統所能達到的成像質量及晶片產量。照 明系統必須能夠從光源形成光束以用於各種可能的照明模式或設定。使用各種設定（如 具有不同相干度的環形場照明及/或雙極或四極離軸照明）以在基板上布置的感光層中 產生光刻掩模的結構元件的最佳成像對比。同時，投射曝光系統必須具有合理的工藝窗 口（process window)。例如，可使用離軸傾斜照明以利用二光束幹涉增加焦深（depth of focus，DoF)，以及還增加總體系統的分辨能力。
[0004] 由於產生波長減小（尤其在DUV波長範圍中）的電磁輻射的工作量及成本大大增 力口，照明系統必須以最高效率產生各種設定。此外，在照明模式中，光學強度分布必須盡可 能一致，因為任何不均勻性將減少要在基板上成像的特徵元件的臨界尺寸（CD)。
[0005] 為了滿足這些需求，將光源的光束分離或分成多個部分光束，並通過光學照明系 統中的微結構光學組件將這些光束單獨地成形和/或引向不同通道。使用分開及引導部分 光束的不同原理的微光刻照明系統例如公開在US2004/0108167 A1及W0 2005/026843 A2 中。
[0006] 術語"通道"在此處及下文中是指照明系統中的體積（volume)，部分光束通過此體 積從通過分開輸入光束而產生的位置行進至與其它部分光束疊加或組合的位置。
[0007] 微光刻投射曝光系統的投射物鏡收集透射通過掩模的光並將其聚焦於分配在基 板上的感光層或光刻膠上，基板布置在投射物鏡的焦平面中。基板通常是半導體晶片，如矽 晶片。
[0008] 由於半導體工業中不斷增加的集成密度，光刻投射曝光系統必須將越來越小的結 構投射至光刻膠上。為了滿足此要求，如已經提到的，投射曝光系統的曝光波長已從電磁光 譜的近紫外光跨越中間紫外光而移至深紫外光區。現在，通常使用193nm的波長曝光晶片 上的光刻膠。結果，以逐漸增加的解析度製造微光刻投射曝光系統變得越來越複雜，且因此 也變得越來越昂貴。未來，投射曝光系統將使用電磁光譜的極紫外光（EUV)波長範圍中明 顯更小的波長（如，在l〇nm-15nm的範圍中）。
[0009] 在給定波長，投射曝光系統的解析度可通過增加其投射系統的數值孔徑（NA)而 增加。M.Totzeck 等人在文獻"Polarization influence on imaging"（J.Microlith.，Mi crolab.，Microsyst·，4 (3) (Jul-S印 2005)，p.031108-1 - 031108-15))中對以下進行了討 論：對於高ΝΑ投射系統，照明光束的偏振對於投射曝光系統的解析度具有重大的影響。
[0010] 因此，為了能夠控制微光刻照明系統的出射光束的相干度，需要控制其偏振狀態。 已知在照明系統以及投射系統的光瞳平面和/或掩模平面中調整預定偏振分布以優化圖 像對比度的各種方法。一些不詳盡的示例列舉如下：W0 2005/069081 A2、W0 2005/031467 A2、US 6191880 Bl、US 2007/0146676A1、TO 2009/034109 A2、TO 2008/019936 A2、TO 2009/100862 A1、EP 1879071 A2、及 DE 102004011733 Al。
[0011] 以上所提文獻說明照明系統的總光束或一些子光束（包含單獨通道的許多部分 光束）的偏振控制。另一方面，單獨通道中可能有缺陷，如由有缺陷或較差光學組件引起的 單獨部分光束的偏振缺陷。其中一個或幾個部分光束可能具有改變的或甚至不明確的偏振 狀態的部分光束的疊加可導致無法預期的總光束的偏振狀態。此情況造成優選狀態下的強 度（intensity in preferred state,簡稱IPS)的減少，使其可能落在預定閾值以下。
[0012] 因此，本發明的目的在於提供補償部分光束通道內的部分光束的缺陷的設備及方 法。


【發明內容】

[0013] 根據本發明的第一方面，提供一種如權利要求1所述的方法。在實施例中，一種微 光刻投射曝光設備的照明系統包含：(a)多個通道，每個通道引導部分光束且至少一個通 道包含至少一個缺陷；及（b)至少一個光學元件，其布置在具有該至少一個缺陷的該至少 一個通道中，該光學元件適配於至少部分補償該通道的部分光束的至少一個缺陷。
[0014] 通過補償部分光束通道內的缺陷，避免部分光束的局部缺陷可能使通過疊加從照 明系統出射的幾個部分光束以照明掩模而形成的光束的質量降低。尤其，疊加幾個良性部 分光束及單一有缺陷部分光束可導致減損從照明系統出射的第二數量總光束。此減損可導 致對照明系統的（一個或多個）照明光束的複雜校正措施。
[0015] 由於光學元件僅最低限度地影響相應通道中部分光束的光束特性，插入光學元件 並不需要對部分光束的補償措施。另一方面，補償缺陷有效增加從照明系統出射的（一個 或多個）光束的優選狀態下的強度（IPS)。
[0016] 另外一方面，至少一個缺陷包含至少一個通道中部分光束的偏振變化。另一方面， 至少一個光學元件通過修改部分光束的偏振來至少部分補償至少一個缺陷。
[0017] 照明系統通道中的缺陷的一個示例是部分光束的偏振變化。此偏振變化的來源可 能是接口及塗層處的反射和/或透射和/或光束通道中光學組件的雙折射。雙折射可為固 有的或材料雙折射和/或可由光學組件的底座（mounting)造成的應變所引致。通過選擇 性修改部分光束的偏振，可至少部分補償偏振變化。
[0018] 根據另外一方面，至少一個光學元件包含至少部分補償部分光束的偏振變化的應 變引致雙折射。在另一有利效應中，應變引致雙折射包含將局部持續修改的至少一個布置 引入光學元件在其光學有關區外的區域中。
[0019] 眾所周知，在透明材料中引入局部變形會造成局部應變引致雙折射變化。基於描 述引致的局部變形依據引入局部變形所用雷射束的參數的模型，可控制在光學元件材料中 局部引致的應變分布。因此，可將預定局部應變分布引入光學元件中。此應變分布造成相 應雙折射分布。
[0020] 在優選實施例中，在光學元件的光學無關區中引入一個或幾個局部持續修改的布 置。深遠的應變分量在光學元件的光學有關區中延伸，並造成至少部分補償相應通道中光 學缺陷的應變引致雙折射分布。可藉助計算機系統從所需雙折射分布計算局部持續修改的 布置。
[0021] 在光學元件的光學有關區外的區域中引入局部持續修改的（一個或多個）布置的 構造具有以下優點：局部持續修改的布置對於部分光束的光子沒有任何影響。此外，局部持 續修改的布置不會使光學元件的光學有關區的光學特性惡化（degrade)。
[0022] 在本說明書中，術語"實質上（essentially) "是指在最先進測量技術的解析度極 限以下的數量變化。
[0023] 光學元件的光學有關區是光束或部分光束穿過光學元件或光束或部分光束從光 學元件反射的區域。光學元件的所有其它區域部分則是光學無關區。
[0024] 另外一方面，二維反射鏡陣列的反射鏡將通過至少一個光學元件的部分光束引向 與預定目標光瞳一致的光瞳的外邊緣。
[0025] 雙折射引起的延遲顯示光瞳平面中光束上的對稱變化。其從光瞳中心朝向光瞳邊 緣增加。因此，通過將穿過至少一個光學元件並因此取得限定的延遲的一個或多個部分光 束引向光瞳邊緣，可補償光瞳邊緣中的延遲。此程序必須考慮以下約束：光瞳平面中的強度 分布必須滿足預定的目標分布。然而，光瞳平面中的缺陷不需要包含光瞳上的對稱變化以 在限定的照明系統中得到補償。
[0026] 根據另外一有利方面，至少一個光學元件的應變引致雙折射包含具有固定方向的 快軸。
[0027] 在光學元件中引入具有帶有固定方向的快軸的應變引致雙折射，允許對偏振變化 進行空間解析的校正。
[0028] 另一方面，至少一個光學元件的應變引致雙折射包含在至少一個光學元件的光學 有關區中的lnm-10nm、較佳2nm_8nm、以及最佳3nm_6nm的延遲。
[0029] 另一優選方面，至少一個光學元件通過選擇至少一個光學元件的快軸相對於通道 中部分光束的偏振的取向來最大化部分光束的偏振的修改。
[0030] 若部分光束具有線性偏振及光學元件具有方向固定的快軸，則容易執行所說明的 優化過程。然而，若部分光束具有任意偏振及應變引致雙折射未產生固定快軸，則還可執行 缺陷補償。
[0031] 另一有利方面，照明系統適配於疊加至少一個第一通道及至少一個第二通道的部 分光束於單一斑點中，使得疊加部分光束的延遲補償照明系統的延遲。
[0032] 此特徵是有利的，因其允許通過在局部疊加光束的通道的一個中插入特別設計的 光學元件，補償部分光束在單一斑點中疊加以形成從照明系統出射的照明光束的幾個通道 的缺陷。因此，大程度地簡化其中一些或全部通道具有缺陷的多個通道的缺陷補償。
[0033] 另外一方面，至少一個第一通道的部分光束的偏振相對於至少一個第二通道的部 分光束的偏振旋轉預定的量。
[0034] 根據另外一方面，至少一個缺陷的補償增加從照明系統出射的光束的優選狀態下 的強度。
[0035] 優選狀態下的強度（IPS)是投射曝光系統成像質量的重要特性。因此，利用將可 使用光子損失限制於極低比例的閾值（如，IPS>97% )來限定IPS。
[0036] 另一方面，至少一個光學元件適配於包含致動器，以在至少一個光學元件的光學 有關區中引致應變。另外一方面，致動器包含壓電元件。
[0037] 通過組合光學元件與致動器，可對光學元件施加暫時改變的應變，允許雙折射快 速適配於新情況。致動器可改變延遲並使快軸不受影響，或其可布置成修改快軸的取向及 延遲二者。還可設想為光學元件布置兩個或兩個以上致動器。
[0038] 根據另一方面，至少一個光學元件適配於在照明系統操作期間動態插入至少一個 通道中。
[0039] 此特徵可在投射曝光系統操作期間優化投射曝光系統的IPS。其既不需要光學元 件實質上變更部分光束的光學強度，也不需要改變其相位關係。
[0040] 又另外一方面，至少一個光學元件包含以不同固定快軸和/或不同延遲量製造的 多個光學兀件。
[0041] 例如，在微光刻照明系統的通道中可以有各種材料雙折射量的缺陷。因此，產生具 有適配於照明系統通道中發生的不同缺陷的局部持續修改的各種布置的光學元件將很有 利。
[0042] 根據另一方面，多個光學元件適配於插入各具有缺陷的多個通道中，使得最大化 從照明系統出射的光束的優選狀態下的強度。
[0043] 微光刻照明系統具有多個通道。因此，可能多於一個通道具有缺陷。兩個或兩個以 上通道中的缺陷可具有實質上相同的缺陷數量或不同通道的缺陷可具有不同的缺陷數量。 這些缺陷可通過在相應有缺陷通道中插入最能補償相應缺陷的光學元件而得到補償。通過 疊加的部分光束的IPS控制缺陷補償。
[0044] 另一方面，至少一個光學元件適配於包含偏振器，其將部分光束的偏振改變預定 量。
[0045] 通過在偏振器的非光學使用區中引入局部持續修改的布置，偏振器可對部分光束 執行預定偏振操縱並可同時補償由通道中偏振變化引起的缺陷。此構造可節省微光刻照明 系統通道中的空間。
[0046] 另外一方面，至少一個光學元件包含反射部分光束的反射鏡。根據再另一方面，至 少一個光學元件包含偏轉部分光束的透鏡。
[0047] 如已經提到的，微光刻照明系統通常包含各引導一部分光束的許多不同通道。因 此，在不同的部分光束之間通常沒有太多空間。因此，有利的是結合缺陷補償與光學元件的 另一功能以節省照明系統中的空間。
[0048] 還可設想結合方才討論的方法與插入針對通道缺陷補償特別設計的一或多個光 學元件。可為有利的是，將預定的缺陷補償量加入特定通道（如接近通道矩陣邊緣及/或 角落的通道）的光學元件及僅對具有特定缺陷的幾個通道插入額外光學元件。
[0049] 根據另一方面，至少一個光學元件適配於包含具有用於至少兩個通道的至少兩個 光學有關區的至少一個板，光學有關區布置在至少一個板的光學上無關的區域之間。
[0050] 由於微光刻照明系統的通道布置通常包含許多通道，可能會有其中單獨地補償數 個通道中的缺陷的麻煩情況。若通道布置的數個相鄰通道具有缺陷，則單獨通道缺陷補償 的該方法可能因空間限制而受限。因此，有用的是產生可補償數個通道的缺陷的板。
[0051] 又另一方面，至少兩個光學有關區以一維列或二維矩形矩陣布置，至少兩個光學 有關區具有調整到部分光束直徑的直徑，及至少兩個光學有關區具有調整到至少兩個不同 通道的部分光束之間的距離的距離。
[0052] 另外一方面，該板包含適配於至少部分補償至少一個缺陷的至少一個光學有關區 和沒有應變引致雙折射的至少一個光學有關區。
[0053] 類似於單一通道的光學元件，板可整合各種功能，如缺陷補償和產生預定偏振變 化。
[0054] 又另一方面，該板包含至少兩個適配於補償至少兩個不同缺陷的光學有關區。
[0055] 根據另外一方面，該板的至少兩個光學有關區包含偏振器，其將部分光束的偏振 改變預定量。
[0056] 在再另一方面，使用超短雷射脈衝以引入局部持續修改的至少一個布置。
[0057] 另外一有利方面，該板適配於實質上垂直於至少兩個部分光束的光束方向移動和 /或旋轉。
[0058] 類似於單一通道的光學元件，此特徵可通過將該板調整到通道矩陣中最小化IPS 損失的位置來優化缺陷補償。
[0059] 根據另一方面，該板適配於在照明系統操作期間動態插入至少兩個通道的部分光 束的光束路徑中。
[0060] 又另外一有利方面，補償微光刻投射曝光系統中照明系統的至少一個通道中至少 一個缺陷的方法使用上述方面的任一方面的照明系統。
[0061] 最後，另一方面另外包含在具有最能夠由至少一個光學元件補償的缺陷的至少一 個通道中插入該至少一個光學元件的步驟。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0062] 為了更好地理解本發明及明白其實際應用，在下文中提供並參考以下示圖。應注 意，示圖僅給定作為示例，而不限制本發明的範圍。
[0063] 圖1示意性示出微光刻投射曝光系統的必要組件；
[0064] 圖2示意性顯示微光刻照明系統的通道布置的橫截面；
[0065] 圖3圖解在光刻掩模平面中分析的線性偏振光束的DUV投射曝光系統的照明系統 的延遲分布，圖3a重現照明系統焦平面視場的左方部分，圖3b示出中心部分，及圖3c指示 右方部分；
[0066] 圖4示意性表現在光學元件中引入局部持續修改的布置的設備的方塊圖；
[0067] 圖5示意性圖解具有引入局部持續修改的布置的光學有關區和光學無關區的光 學元件；
[0068] 圖6示意性表現圖2的片段，其中偏振板插入不同通道的部分光束中；
[0069] 圖7顯示在圖6中將光學元件布置在通道之一中以變更相應部分光束的偏振；
[0070] 圖8示意性圖解兩個疊加部分光束的延遲具有加成性；
[0071] 圖9不意性描繪對4x4部分光束矩陣布置4x4光學有關區的板，其中一些光學有 關區具有不同局部持續修改的布置以造成具有不同快軸取向及不同延遲量的應變引致雙 折射；
[0072] 圖10示意性顯示圖9的板具有光學有關區的應變引致雙折射的四個不同構造，其 中每個構造具有其不同快軸取向及不同延遲量；
[0073] 圖11示意性表現在一部分通道矩陣中的三個偏振板和第一補償板的組合；
[0074] 圖12示意性顯示在一部分通道矩陣中的三個偏振板和第二補償板的組合。

【具體實施方式】
[0075] 優選實施例的詳細描述
[0076] 下文中，將參考圖解本發明示例實施例的附圖更詳細說明本發明。不過，本發明可 以不同方式實施，但不應被視為受限於所列出的實施例。確切地說，所提供的這些實施例將 使得本公開內容更為詳盡，並讓本領域技術人員了解本發明的範圍。
[0077] 圖1示意性顯示微光刻投射曝光系統100的必要組件。光源110將線性偏振電磁 輻射發射至光束擴展單元120中。對於紫外光（UV)或DUV波長範圍中的光刻系統，通常應 用準分子雷射器作為光源110。如已經提到的，KrF準分子雷射系統用於248nm、ArF準分子 雷射系統用於193nm，F 2準分子雷射系統用於157nm波長範圍。準分子雷射系統通常發射 線性偏振電磁輻射。此外，準分子雷射系統一般發射具有納秒範圍的脈衝持續時間的光脈 衝或雷射脈衝。還可對用於未來光刻系統的其它波長應用以下討論的系統及方法。
[0078] 光束擴展單元120將雷射束145的直徑從毫米範圍增加到釐米範圍。例如，進入 擴展單元120的光束可具有15nmX20nm的大小，從擴展單元120出射的光束可具有例如 80mm X 80mm 的尺寸。
[0079] 在圖1的示例實施例中，照明系統130包含三個不同部分。第一部分131 (又稱為 "光學單元"）包含光學組件，以將光源100產生並由光束擴展單元120擴展的光束分成部 分光束或部分束（圖1未顯示）。將在圖2的背景中討論產生及形成部分光束的細節。偏 轉鏡132將部分光束引向第二部分134 (又稱為"透鏡組"）。在第二部分134中，使部分光 束成形，並重新布置光學強度的空間分布。在第二部分134的出口處存在其中布置掩模母 版遮蔽系統（REMA)的中間場平面，該REMA可用作可調整場光闌（圖1未指示）。第三部 分136包含將掩模母版遮蔽系統成像至晶片160上的物鏡，晶片布置在照明系統130的另 一場平面中。
[0080] 投射物鏡140將穿過掩模150的光成像至布置在基板160上的感光層170。基板 160通常是娃晶片。
[0081] 圖2更詳細地示意性圖解照明系統130的第一部區，其布置在照明系統130的第 一部分131和第二部分134中。擴展光束205進入照明系統130的第一部分131。第一透 鏡210使擴展光束205成形以便進一步處理。接著，二維微透鏡光柵陣列215將擴展光束 205分成多個部分光束235。多個部分光束235有規律地布置且互相平行。另一微透鏡陣 列225調整部分光束235的光束角度。
[0082] 在一示例實施例中，擴展光束具有80mmX80mm的尺寸。二維微透鏡光柵陣列215 將光束分成例如4mmX 4mm的方形，其導致20X20部分光束205的陣列或矩陣。這表示在 討論的示例中，部分光束235的通道220具有垂直於光束方向的尺寸4mmX4mm。在圖2中， 以虛線標出通道220。兩個二維微透鏡陣列215及225將部分光束235集中成2mmX 2mm的 面積。在圖10 - 12(在下文說明）的討論中應用的照明系統使用64X64反射鏡元件的多 反射鏡陣列（MMA)。
[0083] 在微透鏡陣列225的下遊，在部分光束235的一些通道220中插入偏振板230。偏 振板230例如通過將偏振旋轉預限定角度和/或通過形成圓偏振的部分光束235來以限定 方式改變部分光束的線性偏振。因此，偏振板230允許設定從照明系統130出射的（一個 或多個）光束285的預定偏振狀態以照明掩模150。
[0084] 每個部分光束235照在二維反射鏡陣列250的相應反射鏡240。在討論的示例中， 反射鏡陣列250的反射鏡240為平的且具有3mmX3mm的大小。每個反射鏡240可繞彼此 垂直對準的兩個傾斜軸傾斜。每個反射鏡240的傾斜運動可由控制單元260單獨地控制， 控制單元260經由電連接255連接至反射鏡陣列250。
[0085] 單獨反射鏡240位於4mmX 4mm的方形區域中，方形區域在二維反射鏡陣列250上 位於彼此旁邊。可將單獨反射鏡240的數目調整為部分光束235的數目，並且在討論的示 例中，此數目彡400。反射鏡陣列250布置在照明系統130的第一部分131的偏轉鏡132 上。代替反射鏡陣列250,還可使用可控反射衍射光柵陣列（an array of controllable reflective diffraction gratings)以將部分光束235偏轉在預定方向上。
[0086] 使用光學組件265以使自反射鏡240反射的部分光束235形成或成形。為此目的， 至少一些光學組件265可沿著照明系統130的光軸（圖2未顯示）移動。例如，光學元件 265可形成變焦三稜軸錐體物鏡（zoom-axicon objective)。光學組件265的出瞳是照明 系統130的光瞳成形表面。
[0087] 在討論的不例中，光柵兀件270布置在光瞳成形表面中或接近光瞳成形表面。光 柵元件270具有滿足若干功能的衍射或折射光學元件的二維陣列。光柵元件270使入射部 分光束235成形。此外，光柵元件270形成離開光柵元件270且在隨後的場平面中疊加的 部分光束，並因此混合部分光束以均勻照明該照明系統130的出瞳（其中布置掩模或掩模 母版150,圖2未顯示）。光柵元件270可實現為二維稜鏡陣列，其中按順序布置單獨稜鏡 以視需要照明均勻化的場平面。代替光柵元件270,還可使用形式為積分棒或蠅眼聚光器的 常規混合元件（圖2未顯示）。
[0088] 透鏡280象徵布置在照明系統130的第三部分136中的物鏡，其將具有掩模系統 的均勻化場平面投射至其中布置掩模150的掩模母版平面290上。
[0089] 反射鏡陣列250改變部分光束235入射在反射鏡陣列250的反射鏡240上的角分 布，並因此重新布置擴展光束205的光學強度分布。在圖2示意性圖解的示例中，光束205 被集中成可用以形成雙極設定的兩個輸出光束285。在圖2的示例中，光束235的上部用以 形成雙極設定的第一部分，光束235的下部用以形成雙極設定的第二部分。然而，還可應用 光束235的不同分離以形成圖2的雙極設定或一般地形成預定設定。
[0090] 此外，反射鏡陣列250可通過單獨反射鏡在光瞳平面的相應部分中的相應傾斜來 切換單獨部分光束235。這提供在照明系統130的光瞳平面中設定所要或預定的延遲分布 以補償光瞳平面中的相應延遲分布的可能性。所說明的延遲補償過程必須另外滿足以下要 求：光學強度在預定設定（即圖2的示例中的雙極設定）內均勻分布。
[0091] 在部分光束的從二維光柵陣列215到二維光柵陣列270的路徑上，部分光束235 穿過幾個光學兀件，如微透鏡陣列225、偏振板230及光學組件265。此外，部分光束235從 反射鏡240反射。在部分光束235與光學組件215、225、240、230、265、270的每個交互作用 中，部分光束235可被扭曲。例如，部分光束235的光子可被吸收或從光束散射，導致部分 光束235的強度降低。此外，部分光束235中的相位關係可通過與光學組件215、225、230、 240、265、270的交互作用而扭曲。此外，部分光束235的偏振可通過部分光束235在組件 215、225、230、240、265、270的界面和/或塗層處的反射和/或透射而扭曲。另外，光學元件 215、225、230、265、270的固有或材料雙折射可改變部分光束235的偏振狀態。
[0092] 以下說明重點在於補償部分光束235在相應通道220的路徑中獲得的偏振變化。 但應了解，所討論的措施還可用於補償部分光束235的其它缺陷。
[0093] 在下一個步驟中，解說能夠補償部分光束235的偏振變化的光學元件的製造。然 後，討論在部分光束235的通道220中插入光學元件的示例。
[0094] 圖3示意性描繪投射曝光系統100的照明系統130的光學組件215、225、230、265、 270在掩模150的平面290中的固有或材料雙折射的效應。如在圖1的討論已經提過，雷射 源110的輸出光束205實質上線性偏振。通常，光束205為水平偏振（在圖2的紙張平面 中）或垂直偏振（垂直於圖2的紙張平面）。
[0095] 圖3呈現標量雙折射分量Ret45的示例性示圖，其圖解向量延遲在45°軸上的投 影，其中該角度是相對於X軸而測量的。圖3a-3c清楚指出，延遲朝著照明系統130的透鏡 邊緣而明顯增加。此外，圖3a_3c還指出，延遲還朝著光瞳邊緣而明顯增加。這表示照明系 統130的光學元件215、225、230、265、270的材料雙折射具有強烈的場及光瞳依賴性。
[0096] 具有材料雙折射的光學元件215、225、230、265、270、500的延遲Λ根據以下方程 式由光學元件215、225、230、265、270、500的厚度(1及其快軸的折射率％及慢軸的折射率 ns決定：
[0097]

【權利要求】
1. 一種微光刻投射曝光設備的照明系統，包含： a. 多個通道，每個通道引導部分光束，至少一個通道包含至少一個缺陷；及 b. 至少一個光學元件，布置在具有所述至少一個缺陷的所述至少一個通道中，所述光 學元件適配於至少部分補償所述通道的部分光束的至少一個缺陷。
2. 如權利要求1所述的照明系統，其中，所述至少一個缺陷包含所述至少一個通道中 的所述部分光束的偏振變化。
3. 如權利要求1或2所述的照明系統，其中，所述至少一個光學元件通過修改所述部分 光束的偏振而至少部分補償所述至少一個缺陷。
4. 如前述權利要求任一項所述的照明系統，其中，所述至少一個光學元件包含應變引 致雙折射，其至少部分補償所述部分光束的偏振變化。
5. 如權利要求4所述的照明系統，其中，所述應變引致雙折射包含在所述光學元件的 光學有關區外的光學元件區中引入局部持續修改的至少一個布置。
6. 如前述權利要求任一項所述的照明系統，其中，二維反射鏡陣列的反射鏡將通過所 述至少一個光學兀件的部分光束引向與預定目標光瞳一致的光瞳的外邊緣。
7. 如前述權利要求任一項所述的照明系統，其中，所述至少一個光學元件的應變引致 雙折射包含具有固定方向的快軸。
8. 如前述權利要求任一項所述的照明系統，其中，所述至少一個光學元件的應變引 致雙折射在所述至少一個光學元件的光學有關區中包含lnm-10nm、較佳2nm-8nm、及最佳 3nm_6nm的延遲。
9. 如權利要求7或8所述的照明系統，其中，所述至少一個光學元件通過選擇所述至少 一個光學元件的快軸相對於所述通道中的所述部分光束的偏振的取向而最大化所述部分 光束的偏振的修改。
10. 如前述權利要求任一項所述的照明系統，其中，所述照明系統適配於將至少一個第 一通道和至少一個第二通道的部分光束疊加於單一斑點中，使得所疊加的光束的延遲補償 所述照明系統的延遲。
11. 如權利要求10所述的照明系統，其中，所述至少一個第一通道的部分光束的偏振 相對於所述至少一個第二通道的部分光束的偏振旋轉預定量。
12. 如前述權利要求任一項所述的照明系統，其中，所述至少一個缺陷的補償增加從所 述照明系統出射的光束的優選狀態下的強度。
13. 如前述權利要求任一項所述的照明系統，其中，所述至少一個光學元件適配於包含 致動器，以在所述至少一個光學元件的光學有關區中引起應變。
14. 如前述權利要求任一項所述的照明系統，其中，所述至少一個光學元件適配於在所 述照明系統操作期間動態插入所述至少一個通道中。
15. 如前述權利要求任一項所述的照明系統，其中，所述至少一個光學元件包含以不同 固定快軸和/或不同延遲量製造的多個光學元件。
16. 如權利要求15所述的照明系統，其中，所述多個光學元件適配於插入各具有缺陷 的多個通道中，使得從所述照明系統出射的光束的優選狀態下的強度最大化。
17. 如前述權利要求任一項所述的照明系統，其中，所述至少一個光學元件適配於包含 偏振器，其將所述部分光束的偏振改變預定量。
18. 如權利要求1-16所述的照明系統，其中，所述至少一個光學元件包含反射所述部 分光束的反射鏡。
19. 如權利要求1-16所述的照明系統，其中，所述至少一個光學元件包含偏轉所述部 分光束的透鏡。
20. 如前述權利要求任一項所述的照明系統，其中，所述至少一個光學元件適配於包含 具有用於至少兩個通道的至少兩個光學有關區的至少一個板，所述光學有關區布置在所述 至少一個板的光學上無關的區域之間。
21. 如權利要求20所述的照明系統，其中，所述至少兩個光學有關區以一維行或二維 矩形矩陣布置，所述至少兩個光學有關區具有調整到所述部分光束的直徑的直徑，所述至 少兩個光學有關區具有調整到所述至少兩個不同通道的部分光束之間的距離的距離。
22. 如權利要求20或21所述的照明系統，其中，所述板包含至少兩個光學有關區，其適 配於補償至少兩個不同缺陷。
23. 如權利要求20-22所述的照明系統，其中，所述板的至少兩個光學有關區包含偏振 器，其將所述部分光束的偏振改變預定量。
24. 如權利要求5所述的照明系統，其中，超短雷射脈衝用於引入所述局部持續修改的 至少一個布置。
25. 如權利要求20-23所述的照明系統，其中，所述板適配於實質上垂直於所述至少兩 個部分光束的光束方向移動和/或旋轉。
26. 如權利要求20-23或25所述的照明系統，其中，所述板適配於在所述照明系統操作 期間動態插入所述至少兩個通道的部分光束的光束路徑中。
27. -種補償微光刻投射曝光系統的照明系統的至少一個通道中的至少一個缺陷的方 法，所述方法使用如權利要求1-26中任一項所述的照明系統。
28. 如權利要求27所述的方法，還包含以下步驟：在具有最能夠由至少一個光學元件 補償的缺陷的至少一個通道中插入至少一個光學元件。
【文檔編號】G03F7/20GK104220931SQ201280071975
【公開日】2014年12月17日 申請日期:2012年3月29日 優先權日:2012年3月29日
【發明者】I.薩恩傑, F.施萊塞納 申請人:卡爾蔡司Smt有限責任公司