顯示面板及顯示裝置的製作方法

2023-05-29 18:10:46

專利名稱：顯示面板及顯示裝置的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及液晶顯示技術領域，尤其涉及一種顯示面板及顯示裝置。
背景技術：
隨著光電技術與半導體製造技術的發展，平板顯示器憑藉其輕薄、攜帯方便等優勢，已經取代了傳統的CRT顯示器成為顯示器件的主流。薄膜電晶體液晶顯示器(Thin FilmTransistor Liquid Crystal Display, TFT-IXD)憑藉其高品質畫質、高空間利用率、低消耗功率、無輻射等優越特性已經成為平板顯示市場的主流產品。液晶顯示面板主要包括彩膜(Color Filter, CF)基板和陣列(Array)基板，以及在彩膜基板和陣列基板之間填充的液晶層。彩膜基板是用來實現彩色顯示的主要器件，基本構成如圖I所示，包括玻璃基板
I、玻璃基板上依次貼附的黑矩陣層、彩膜層(RGB)、保護層等(這些層未示出)、玻璃基板與陣列基板相對一面上的透明電極層2、以及隔墊物(PS)，該透明電極通常為氧化銦錫(ITO)電極。目前彩膜基板的透明電極(ITO)層均無圖形(Pattern)結構，無需掩膜曝光，エ藝中，通常整層進行蒸度。顯示面板的薄膜場效應電晶體TFT陣列基板的透明電極層和彩膜的透明電極層通過導電粒子將上下基板導通，但因陣列基板上膜層厚度存在差異，在陣列基板的數據線引出區(Data Pad)的數據線(SD)走線部分，膜層段差最大，顆粒(Particle)、導電粒子等特別容易將陣列基板上的保護層刺穿，使陣列基板的數據線走線同彩膜基板的透明電極層之間發生短路(short)產生亮線，大大降低エ藝的良率。

實用新型內容(一 )要解決的技術問題本實用新型要解決的技術問題是提供一種與陣列基板的數據線走線與彩膜基板不會發生短路，進而提高產品良率的顯示面板以及顯示裝置。( ニ )技術方案為解決上述問題，本實用新型提供了一種顯示面板，該顯示面板包括陣列基板以及彩膜基板，所述陣列基板上包括數據線引出區，彩膜基板包括透明電極層，所述透明電極層上與所述數據線引出區的數據線走線對應的部分形成有圖形化結構。優選地，所有數據線引出區設置於所述陣列基板的至少ー側邊沿。優選地，所述圖形化結構與所述數據線走線對應的部分無透明電極。優選地，所述透明電極層上與所述數據線走線對應的部分為狹縫。優選地，所述透明電極層上與所述數據線走線對應的部分為凹向所述透明電極層內側的連續的矩形、半圓形或三角形結構。優選地，所述透明電極為氧化銦錫電極或氧化銦鋅電扱。本實用新型還提供了一種顯示裝置，該裝置包括上述顯示面板。(三)有益效果[0015]本實用新型的顯示面板以及顯示裝置中，彩膜基板的透明電極層形成有圖形化結構，避開了陣列基板的數據線走線，可有效避免陣列基板的數據線層與彩膜基板的透明電極之間發生短路的可能性，避免了因顆粒、導電粒子等將陣列基板的保護層刺穿產生的亮線，從設計上極大的降低了發生亮線的機率，可以大大提高工藝良率。

圖I為傳統的彩膜基板的結構示意圖；圖2為依照本實用新型一種實施方式的顯示面板的結構示意圖；圖3為傳統的顯示面板製備過程中彩膜基板的製備流程示意圖；圖4為依照本實用新型一種實施方式的顯示面板製備過程中彩膜基板的製備流程不意圖。
具體實施方式
本實用新型的顯示面板及顯示裝置，結合附圖及實施例詳細說明如下。如圖2所示，依照本實用新型一種實施方式的顯示面板包括陣列基板4、彩膜基板5以及兩基板之間的液晶(未示出)，陣列基板4上包括數據線引出區(Data Pad)(未示出)，彩膜基板5包括玻璃基板I以及透明電極層3。在該透明電極層3上與數據線引出區的數據線走線對應的部分形成有圖形化結構3』 (圖中虛線框所示)，該圖形化結構3』與數據線走線對應的部分無透明電極。該透明電極層3為氧化銦錫電極或氧化銦鋅電極或其他透明電極，透明電極層3上與數據線走線對應的部分為凹向透明電極層5內側的連續的矩形、半圓形或三角形結構，優選地，在本實施方式的顯示面板中，透明電極層5上與數據線走線對應的部分為矩形狹縫。在本實施方式的顯示面板中，Data Pad設置於陣列基板的一側邊沿(不限於此)，對應的彩膜基板的圖形化結構也形成在彩膜基板上與上述Data Pad相對應的區域。該圖形化結構與數據線走線對應的部分為狹縫，即對應數據線走線的部分不設置透明電極，從而避開數據線走線區域，有效避免陣列基板的數據線層同彩膜基板的透明電極層之間發生短路的可能性，避免因Particle、導電粒子等將陣列基板保護層刺穿產生的亮線，從在設計上極大的降低了發生亮線的機率，大大提高工藝的良率。傳統的顯示面板製備過程中，彩膜基板部分的製備流程如圖3所示，依次包括黑矩陣(BM)的形成；紅色色阻(R)、綠色色阻(G)、以及藍色色阻(B)的製備；沉積一整層透明電極；以及PS的製備。本實用新型的顯示面板製備過程中，彩膜基板部分的製備流程如圖4所示，與該傳統的製備流程相比，多了一道掩膜(Mask)曝光エ藝，即在沉積了ー層透明電極後通過狹縫掩模板在所需要的圖形區域製備狹縫，形成圖形化的透明電極層。Maskエ藝流程在TFT-IXD產業中是比較成熟的エ藝過程，在此不做贅述。本發明還提供了ー種包括上述顯示面板的顯示裝置，該裝置可以為本領域普通技術人員可以想到的液晶顯示器、TV、手機等等中的任意ー種，在此不做為對本實用新型的限制。以上實施方式僅用於說明本實用新型，而並非對本實用新型的限制，有關技術領域的普通技術人員，在不脫離本實用新型的精神和範圍的情況下，還可以做出各種變化和 變型，因此所有等同的技術方案也屬於本實用新型的範疇，本實用新型的專利保護範圍應由權利要求限定。
權利要求1.一種顯示面板，該顯示面板包括陣列基板以及彩膜基板，所述陣列基板上包括數據線引出區，彩膜基板包括透明電極層，其特徵在於，所述透明電極層上與所述數據線引出區的數據線走線對應的部分形成有圖形化結構。
2.如權利要求I所述的顯示面板，其特徵在於，所述數據線引出區設置於所述陣列基板的至少ー側邊沿。
3.如權利要求I或2所述的顯示面板，其特徵在於，所述圖形化結構與所述數據線走線對應的部分無透明電極。
4.如權利要求3所述的顯示面板，其特徵在幹，所述透明電極層上與所述數據線走線對應的部分為狹縫。
5.如權利要求3所述的顯示面板，其特徵在幹，所述透明電極層上與所述數據線走線對應的部分為凹向所述透明電極層內側的連續的矩形、半圓形或三角形結構。
6.如權利要求3所述的顯示面板，其特徵在於，所述透明電極層為氧化銦錫電極或氧化銦鋅電扱。
7.—種顯示裝置，其特徵在於，該裝置包括權利要求1-6任一項所述的顯示面板。
專利摘要本實用新型公開了一種顯示面板及顯示裝置，涉及液晶顯示技術領域。該面板包括陣列基板以及彩膜基板，所述陣列基板上包括數據線引出區，彩膜基板包括透明電極層，所述透明電極層上與所述數據線引出區的數據線走線對應的部分形成有圖形化結構。本實用新型的顯示面板以及顯示裝置中，彩膜基板的透明電極層形成有圖形化結構，避開了陣列基板的數據線走線，可有效避免陣列基板的數據線層與彩膜基板的透明電極之間發生短路的可能性，避免了因顆粒、導電粒子等將陣列基板的保護層刺穿產生的亮線，從設計上極大的降低了發生亮線的機率，可以大大提高工藝良率。
文檔編號G02F1/1343GK202522820SQ20122017250
公開日2012年11月7日 申請日期2012年4月20日 優先權日2012年4月20日
發明者張然 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 合肥京東方光電科技有限公司