線圈盤及電磁烹飪器具的製作方法
2023-06-24 02:28:02
本實用新型涉及電磁加熱器具領域，特別涉及一種線圈盤及電磁烹飪器具。
背景技術：
電磁加熱方式被廣泛應用於烹飪食物，使用電磁加熱烹飪食物時，鍋具的邊緣的溫度越高，加熱效果越好。現有電磁烹飪器具的線圈盤的加熱區主要集中在鍋底的中心處。在加熱過程中，該加熱區的高頻交變磁感線分布並不均勻，往往會形成圍繞線圈盤中心的磁感線密集，四周邊緣的磁感線較稀疏，在鍋具底部形成的電磁渦流強度亦相應地沿著中心向四周遞減，導致鍋具邊緣的溫度不理想，烹飪效果不佳。
技術實現要素：
本實用新型的主要目的是提出一種線圈盤及電磁烹飪器具，旨在加熱時提高鍋具邊緣的溫度，改善烹飪效果。
為實現上述目的，本實用新型提出的線圈盤包括：線圈盤座及繞組線圈，所述線圈盤座上設置有繞線槽，所述繞組線圈設置於所述繞線槽內；所述繞組線圈包括設置於所述線圈盤座中部的主線圈，以及設置於所述主線圈周邊的多個副線圈，所述副線圈在所述主線圈周向上間隔排布。
優選的，所述主線圈呈圓形設置。
優選的，所述副線圈亦呈圓形設置。
優選的，所述副線圈的外徑小於所述主線圈的外徑。
本實用新型還提供一種電磁烹飪器具，包括線圈盤，所述線圈盤包括線圈盤座和繞組線圈，所述線圈盤座上設置有繞線槽，所述繞組線圈設置於所述繞線槽內，所述繞組線圈包括設置於所述線圈盤座中部的主線圈，以及設置於所述主線圈周邊的多個副線圈，所述副線圈在所述主線圈周向上間隔排布。
優選的，所述電磁烹飪器具為電磁爐、電飯煲或壓力鍋。
優選的，所述電磁烹飪器具為電磁爐，所述電磁烹飪器具還包括鍋具，所述副線圈的中心與所述線圈盤座中心的距離R1大於所述鍋具底部的半徑R2。
優選的，所述線圈盤座呈平板狀設置。
優選的，R1-R2≤20mm。
優選的，4.0mm≤R1-R2≤15mm。
本實用新型的技術方案通過在線圈盤座的中部布置主線圈，並在主線圈的周向布置多個副線圈，通過主線圈可實現對鍋具中部加熱，通過多個副線圈的設置，可以加強鍋具周邊磁感密度，無論是鍋具中部還是邊緣，都具有較密集的磁感線，從而改善了烹飪效果。
附圖說明
為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對於本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖示出的結構獲得其他的附圖。
圖1為本實用新型線圈盤一實施例的分體結構示意圖；
圖2為圖1中線圈繞組結構示意圖；
圖3為包括有鍋具的本實用新型電磁烹飪器具一實施例的結構示意圖。
附圖標號說明：
本實用新型目的的實現、功能特點及優點將結合實施例，參照附圖做進一步說明。
具體實施方式
下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型的一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬於本實用新型保護的範圍。
需要說明，若本實用新型實施例中有涉及方向性指示(諸如上、下、左、右、前、後……)，則該方向性指示僅用於解釋在某一特定姿態(如附圖所示)下各部件之間的相對位置關係、運動情況等，如果該特定姿態發生改變時，則該方向性指示也相應地隨之改變。
另外，若本實用新型實施例中有涉及「第一」、「第二」等的描述，則該「第一」、「第二」等的描述僅用於描述目的，而不能理解為指示或暗示其相對重要性或者隱含指明所指示的技術特徵的數量。由此，限定有「第一」、「第二」的特徵可以明示或者隱含地包括至少一個該特徵。另外，各個實施例之間的技術方案可以相互結合，但是必須是以本領域普通技術人員能夠實現為基礎，當技術方案的結合出現相互矛盾或無法實現時應當認為這種技術方案的結合不存在，也不在本實用新型要求的保護範圍之內。
本實用新型提出一種線圈盤和設置有該線圈盤的電磁烹飪器具。在此，電磁烹飪器具可以是電磁爐、電飯煲或壓力鍋。為了方便表述，下述內容中將具體以電磁爐為具體實施例進行闡述。
在本實用新型實施例中，如圖1至圖3所示，該線圈盤10包括線圈盤座11及多個繞組線圈12，線圈盤座上設置有繞線槽13，繞組線圈12設置於繞線槽13內；繞組線圈10包括設置於線圈盤座11中部的主線圈12a，以及設置於主線圈12a周邊的多個副線圈12b，副線圈12b在主線圈12a周向上間隔排布。
線圈盤座11具有正反兩面，其中，正面布設繞組線圈12，反面設置有與每個繞組線圈12位置對應的磁條(圖中未示出)。
當用戶在使用設置有上述線圈盤10的電磁爐對鍋具20進行加熱時，一方面，主線圈12a自身在鍋底的中部產生的磁感線較密集，遠離中部的位置產生的磁感線較稀疏。在對鍋具20底部加熱時，鍋具20中部受熱，鍋具20中部產生的熱量會向四周傳導，以給鍋具20周邊傳熱。另一方面，由於副線圈12b的這種布置，副線圈12b在鍋具20周邊產生多個加熱中心，其產生的磁感線較密集；因此，在上述主線圈12a和副線圈12b相互作用下，鍋具20周邊的磁感線較密集，鍋具20底部和周邊的加熱都比較均勻，不會產生鍋底中部糊鍋，鍋底邊緣不熱的情況，從而烹飪效果較佳。
本實用新型的技術方案通過在線圈盤座11的中部布置主線圈12a，並在線圈盤座11的周向布置多個副線圈12b，通過主線圈12a可實現對鍋具20中部加熱，通過多個副線圈12b的設置，可以加強鍋具20周邊磁感密度，無論是鍋具20中部還是邊緣，都具有較密集的磁感線，從而改善了烹飪效果。
上述主線圈12a的形狀可以是圓形、多邊形、橢圓形及不規則形狀等。但是鑑於鍋具20底部一般是呈圓形設置的，如果將主線圈12a設置呈非圓形，在對鍋具20加熱時，可能會導致鍋具20底部磁感分布不均，從而影響烹飪效果。在一較佳實施例中，主線圈12a呈圓形設置。如此，主線圈12a產生的磁感密度自其中心朝向其邊緣遞減較均勻。設置副線圈12b後，主線圈12a產生的磁感線不會導致多個副線圈12b相互之間的磁感線密度不均的情況發生，進而整個線圈盤11周邊的磁感線密度較均勻，加熱效果較佳。
另外，副線圈12b的形狀可以是圓形、方形、三角形等，但是同樣為了使線圈盤座11周邊的磁感較均勻，優選副線圈12b呈圓形設置。
副線圈12b在主線圈12a周邊的數量不作限制，但是為了進一步增加線圈盤11周邊磁感密度，可以設置較多的副線圈12b，例如設置6個、8個、12個或者更多；如此，線圈盤10周邊的加熱中心更多，對鍋具20周邊的加熱效果更好。在此，為了能夠設置較多的副線圈12b，所以，副線圈12b的外徑優選小於主線圈12a的外徑。
為了方便繞組線圈12繞設在線圈盤座11上，線圈盤座11上設置用於繞置繞組線圈12的繞線槽13。上述繞組線圈12可以是密繞線圈，也可以是疏繞線圈，繞組線圈12置於該繞線槽13內。當繞組線圈12為密繞線圈時，可以通過在線圈盤座11上凸設凸筋，凸筋內形成繞線槽13；當繞組線圈12為疏繞線圈時，可以通過在線圈盤座11上凹陷相應多個環形槽，線圈繞組12繞置在多個所述環形槽的槽壁上，多個環形槽形成繞線槽13。
當然，繞組線圈12也可以是密繞線圈及疏繞線圈的組合，需要闡明的是，此處所述的密繞線圈及疏繞線圈的組合可以是：主線圈12a為密繞線圈，副線圈12b為疏繞線圈；或主線圈12a為疏繞線圈，副線圈12b為密繞線圈。本領域技術人員可以通過本實用新型實施例及附圖可以獲得相應的技術方案。疏繞線圈為優選實施例，將主線圈12a及副線圈12b均設置為疏繞線圈。對於疏繞線圈而言，線圈盤座11上設置有至少三組自線圈盤座11的正面凹陷的環形槽，每組環形槽為一個繞線槽13。在本實施例中，為了使繞組線圈12在電磁爐中裝配時，更靠近面板30，以使鍋底的加熱效果更佳。該繞線槽13包括供所述主線圈12a安裝的第一繞線槽13a，以及供每個所述副線圈12b安裝的第二繞線槽13b。當然，為了方便線圈繞組12的繞設，多條環形槽徑向間隔分布構成，以對應地，便於將主線圈12a繞置安裝在第一線槽13a內，並將至少兩個第二副線圈12b繞置安裝在對應的第二線槽13b內。
鍋具20一般具有鍋底和自鍋底邊緣向上延伸而出的鍋壁，用戶在使用電磁爐對鍋具加熱時，往往只有鍋底能被加熱，而鍋壁難以被加熱。在一實施例中，為了實現鍋壁的加熱，以優化烹飪效果，所述副線圈13b的中心與所述線圈盤座11中心的距離R1大於所述鍋具底部(鍋底)的半徑R2。如此，在電磁爐對鍋具20進行加熱時，由於R1大於R2，如此，副線圈12b外圍部分可以對鍋壁加熱，從而對於鍋具20而言，鍋底中部由主線圈12a加熱，其周邊由副線圈12b加熱，其側壁也由副線圈12b加熱，從而受熱更均勻，烹飪效果更佳。
上述實施例中，安裝繞組線圈12的線圈盤座11可以是純凹式的，也可以是平凹式的，還可以是純平式的；但是對於線圈盤座而言，純平式線圈盤座製造簡潔，成本低廉，如果同樣能夠滿足對鍋具20周邊乃至側壁加熱，在本實施例中，優選線圈盤座為平板狀設置。
當然，R1相較於R2不能大太多，否則導致電磁爐的成本過高。在一較佳實施例中，R1-R2≤20mm。例如R1-R2＝15mm、R1-R2＝10mm、R1-R2＝8mm、R1-R2＝5mm、R1-R2＝3mm等。
鍋具20的側壁與鍋底之間的夾角一般在45°至75°之間，而電磁感應高度一般在7mm至15mm，所以在此，以電磁感應高度15mm為例，15×tan15°mm≤R1-R2≤15×tan45°mm。也即4mm≤R1-R2≤15mm。
以上所述僅為本實用新型的優選實施例，並非因此限制本實用新型的專利範圍，凡是在本實用新型的實用新型構思下，利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構變換，或直接/間接運用在其他相關的技術領域均包括在本實用新型的專利保護範圍內。