設自動加溼裝置的雜交裝置的製作方法

2023-06-24 02:50:51

專利名稱：設自動加溼裝置的雜交裝置的製作方法
技術領域：
設自動加溼裝直的雜父裝直技術領域[0001]本實用新型涉及一種雜交裝置，尤其涉及一種設自動加溼裝置的雜交裝置。
背景技術：
[0002]原位雜交在研究DNA分子複製原理的基礎上發展起來的一種技術。其基本原理是兩條核苷酸單鏈片段，在適宜的條件下，能過氫鍵結合，形成DNA-DNA、DNA-RNA或 RNA-RNA雙鍵分子的特點，應用帶有標記的DNA或RNA片段作為核酸探針與組織切片或細胞內待測核酸片段進行雜交，然後可用放射自顯影等方法予以顯示，在光鏡或電鏡下觀察目標mRNA或DNA的存在並定位。原位雜交技術可應用於原位研究細胞合成某種多肽或蛋白質的基因表達。原位雜交方法有很高的敏感性和特異性，可進一步從分子水平來探討細胞的功能表達及其調節機制，已成為當今細胞生物學、分子生物學研究的重要手段。[0003]原位雜交技術(In situ hybridization, ISH)是分子生物學、組織化學及細胞學相結合而產生的一門新興技術。[0004]分子雜交是核酸鏈間鹼基配對規則的一種結合方式，是核酸的重要理化特性。[0005]為此，採用載玻片的方法進行雜交實驗，運用上蓋加熱、下蓋加熱的方式，建立一個密閉的加熱腔。在雜交實驗中最重要的因素是溫度、光照、溼度和各種試劑的PH值。溫度和溼度直接影響著探針和目標DNA的雜交效率。[0006]為更好的控制溼度，現有技術通常採用溼紙條的方式加溼，在雜交裝置中放置溼紙條，待雜交試驗完成後，需及時更換溼紙條。為保持雜交裝置溼度一定，需要在實驗過程中或實驗過後進行更換溼紙條，更換時必須開啟上蓋加熱裝置，此時，反應室內溫度快速降低，容易影響雜交效果，因而影響雜交質量。發明內容[0007]本實用新型的目的在於解決上述問題而提供一種設自動加溼裝置的雜交裝置，增設加溼裝置，在實驗過程中根據需要能夠持續加溼，克服在實驗過程中經常更換溼紙條引起的不利影響。[0008]本實用新型的上述技術目的主要是通過以下技術方案解決的設自動加溼裝置的雜交裝置，包括基座與基座配合的上蓋，分別設置在基座和上蓋上的下加熱組件和上加熱組件，所述上加熱件和下加熱件之間形成加熱腔，其特徵在於所述加熱腔中設置加溼裝置。 增設加溼裝置，在實驗過程中根據需要能夠持續加溼。[0009]作為對上述技術方案的進一步完善和補充，本實用新型採用如下技術措施所述基座和上蓋處於蓋合狀態下為密封配合。密封方式有多種，可以為凸與上蓋內表面的密封環，也可以設置在基座上沿的密封壓條。[0010]所述的加溼裝置設置在下加熱組件的兩側。通常情況下，載玻片或雜交盒放置在下加熱組件的上方，加溼裝置設置在下加熱組件的兩側是比較合理的，方便從加熱裝置中出來的溼氣順利補充到反應部位。[0011]所述的加溼裝置為儲水槽。以儲水槽的方式，能夠儲存較多的水，一次加水後，能夠滿足較長時間的實驗。[0012]所述儲水槽的壁體採用熱的良導體材料，並與下加熱組件連接。下加熱組連接的熱量可以直接傳導到儲水槽上用來加熱儲水槽中的水形成蒸汽，用來加溼。[0013]所述基座上還設置控制系統，與控制系統信號連接、且出風口對應於下加熱組件的風扇；所述的下加熱組件和上加熱組件上分別設置一溫度傳感器，兩所述的溫度傳感器均與控制系統信號連接。增設控制系統，實現自動化操作。[0014]所述所述基座上設置與控制系統信號連接的觸摸顯示屏和擴展接口。[0015]所述下加熱組件包括下加熱板，覆蓋在下加熱板上的下加熱膜，所述的上加熱組件包括上加熱板，覆蓋在上加熱板上的上加熱膜，所述儲水槽的壁體與下加熱板連接。[0016]本實用新型具有的有益效果1、增設加溼裝置，在實驗過程中根據需要能夠持續加溼，克服現有技術在實驗過程中經常更換溼紙條引起的不利影響。2、加溼裝置設置在下加熱組件的兩側，並通過下加熱組件對其加熱，避免單獨設置加溼用加熱組件，使結構設置更為合理，也有利於減少組件，降低成本。3、增設增設控制系統，實現自動化操作，且採用觸摸顯示屏方便操控，並配合USB接口方便對控制系統擴展功能，或增加存儲。


[0017]圖I是本實用新型的一種結構示意圖。[0018]圖2是本實用新型的一種剖視結構示意圖。
具體實施方式
[0019]下面通過實施例，並結合附圖，對本實用新型的技術方案作進一步具體的說明。[0020]實施例設自動加溼裝置的雜交裝置，如圖I-圖2所示,它包括基座I與基座配合的上蓋2，分別設置在基座I和上蓋2上的下加熱組件和上加熱組件，所述上加熱件和下加熱件之間形成加熱腔3，所述加熱腔中設置加溼裝置。[0021]具體來說，下加熱組件包括下加熱板8，覆蓋在下加熱板上的下加熱膜9，所述的上加熱組件包括上加熱板10，覆蓋在上加熱板上的上加熱膜11，所述儲水槽4的壁體與下加熱板10連接。下加熱膜9、上加熱膜11通電能夠發熱，並將熱量傳導到下加熱板8和上加熱板10上，且下加熱板8和上加熱板10起到對下加熱膜9、上加熱膜11支撐作用。實驗時，載波片或雜交盒15放置在下加熱板8上[0022]為了防止熱量及溼氣從加熱腔3中逃離，基座I和上蓋2處於蓋合狀態下為密封配合。如圖2所示，採用密封環14達到密封效果。[0023]加溼裝置設置在下加熱組件的兩側。如圖I和圖2所示，加溼裝置為儲水槽4。[0024]為了能夠使下加熱組件的功能得到最大的發揮，儲水槽4的壁體採用熱的良導體材料，並與下加熱組件連接。[0025]為了提高自動控制效果，基座I上還設置控制系統5，與控制系統5信號連接、且出風口對應於下加熱組件的風扇6 ;所述的下加熱組件和上加熱組件上分別設置一溫度傳感器7，兩所述的溫度傳感器7均與控制系統5信號連接。[0026]為了使該設自動加溼裝置的雜交裝置充分體現最新的電子信息技術，基座I上設置與控制系統5信號連接的觸摸顯示屏12和擴展接口 13 (如USB接口)。[0027]以上所述僅為本實用新型的優選實施例而已，並不用於限制本實用新型。在上述實施例中，本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護範圍之內。
權利要求1.設自動加溼裝置的雜交裝置，包括基座(I)與基座配合的上蓋(2)，分別設置在基座(I)和上蓋(2)上的下加熱組件和上加熱組件，所述上加熱件和下加熱件之間形成加熱腔(3),其特徵在於所述加熱腔中設置加溼裝置。
2.根據權利要求I所述的設自動加溼裝置的雜交裝置，其特徵在於所述基座(I)和上蓋(2)處於蓋合狀態下為密封配合。
3.根據權利要求I或2所述的設自動加溼裝置的雜交裝置，其特徵在於所述的加溼裝置設置在下加熱組件的兩側。
4.根據權利要求3所述的設自動加溼裝置的雜交裝置，其特徵在於所述的加溼裝置為儲水槽(4)。
5.根據權利要求4所述的設自動加溼裝置的雜交裝置，其特徵在於所述儲水槽(4)的壁體採用熱的良導體材料，並與下加熱組件連接。
6.根據權利要求I或2所述的設自動加溼裝置的雜交裝置，其特徵在於所述基座(I)上還設置控制系統(5)，與控制系統(5)信號連接、且出風口對應於下加熱組件的風扇(6)；所述的下加熱組件和上加熱組件上分別設置一溫度傳感器(7)，兩所述的溫度傳感器(7)均與控制系統(5)信號連接。
7.根據權利要求5所述的設自動加溼裝置的雜交裝置，其特徵在於所述所述基座(I)上還設置控制系統，與控制系統(5)信號連接、且出風口對應於下加熱組件的風扇(6);所述的下加熱組件和上加熱組件上分別設置一溫度傳感器(7)，兩所述的溫度傳感器(7)均與控制系統(5)信號連接。
8.根據權利要求7所述的設自動加溼裝置的雜交裝置，其特徵在於所述基座(I)上設置與控制系統(5)信號連接的觸摸顯示屏(12)和擴展接口( 13)。
9.根據權利要求8所述的設自動加溼裝置的雜交裝置，其特徵在於所述下加熱組件包括下加熱板(8)，覆蓋在下加熱板上的下加熱膜(9)，所述的上加熱組件包括上加熱板(10)，覆蓋在上加熱板上的上加熱膜(11)，所述儲水槽(4)的壁體與下加熱板(10)連接。
專利摘要本實用新型涉及一種設自動加溼裝置的雜交裝置，包括基座與基座配合的上蓋，分別設置在基座和上蓋上的下加熱組件和上加熱組件，所述上加熱件和下加熱件之間形成加熱腔，其特徵在於所述加熱腔中設置加溼裝置。本實用新型具有的有益效果1、增設加溼裝置，在實驗過程中根據需要能夠持續加溼，克服現有技術在實驗過程中經常更換溼紙條引起的不利影響。2、加溼裝置設置在下加熱組件的兩側，並通過下加熱組件對其加熱，避免單獨設置加溼用加熱組件，使結構設置更為合理，也有利於減少組件，降低成本。3、增設增設控制系統，實現自動化操作，且採用觸摸顯示屏方便操控，並配合USB接口方便對控制系統擴展功能，或增加存儲。
文檔編號C12M1/34GK202808802SQ20122055326
公開日2013年3月20日 申請日期2012年10月25日 優先權日2012年10月25日
發明者駱志成, 樊偉東 申請人:杭州奧盛儀器有限公司