真空吸盤設備的製作方法
2023-06-16 23:03:41 1
專利名稱：真空吸盤設備的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種真空吸盤設備，尤指一種將固定軸內藏於吸盤與吸盤座之間以縮減吸盤的連通孔的真空吸盤設備。
背景技術：
一般而言，真空吸盤設備主要應用在半導體製程中以作為吸附面板之用，請參閱圖1，其為先前技術的一真空吸盤設備10的剖面示意圖，由圖1可知，真空吸盤設備10包含一機械手臂12 (在圖1中僅以部分簡示)、一吸盤座14、一吸盤16、一固定軸18，以及一螺栓20。機械手臂12具有一容置凹槽22，一鎖合孔結構24以及一真空裝置孔洞25形成於容置凹槽22內，真空裝置孔洞25連通於一真空裝置13 (在圖1中以部分真空管線簡示)。吸盤座14設置於容置凹槽22內，吸盤16設置於吸盤座14上且具有經由真空裝置孔洞25連通於真空裝置13的一連通孔26，固定軸18設置於吸盤16內且接合於鎖合孔結構24上，螺栓20貫穿鎖合孔結構24以鎖合於固定軸18內，由此，通過連通孔26與真空裝置13的連通設計，真空吸盤設備10即可利用真空裝置13所提供的真空吸力以吸附住面板。然而,如圖1所不，由於上述機構設計會要求連通孔26的一直徑a j必須大於固定軸18的一最大直徑β !以確保固定軸18可順利地穿設於吸盤16上，因此會造成連通孔26孔徑過大(約14_)的情況發生，而由吸力等於真空壓力乘以連通孔面積的公式可知，在連通孔26孔徑過大的情況下，真空裝置13經由吸盤16的連通孔26所產生的吸力就會過強而導致吸盤16整體吸力分布不均的現象。如此一來，面板被吸盤16所吸附的表面就會出現微量變形(如半月形隆起)而產生面板色不均現象，從而大大地影響面板的成型品質與生產效能。
實用新型內容
本實用新型的目的之一在於提供一種將固定軸內藏於吸盤與吸盤座之間以縮減吸盤的連通孔的真空吸盤設備，以解決上述問題。根據一實施例，本實用新型的真空吸盤設備連通於一真空裝置且包含一機械手臂、一吸盤座、一固定軸、一螺栓，以及一吸盤。該機械手臂具有一容置凹槽，一鎖合孔結構以及一真空裝置孔洞形成於該容置凹槽內，該真空裝置孔洞連通於該真空裝置。該吸盤座設置於該容置凹槽中對應該鎖合孔結構的位置上。該固定軸設置於該吸盤座內且接合於該鎖合孔結構上。該螺栓貫穿該鎖合孔結構以鎖合於該固定軸內。該吸盤設置於該吸盤座上以覆蓋該固定軸且具有一連通孔、多個第一弧形支撐塊、多個第二弧形支撐塊以及一外緣支撐環，該連通孔經由該真空裝置孔洞以連通於該真空裝置，該連通孔的直徑小於該固定軸的最大直徑，所述第一弧形支撐塊環設於該連通孔外以形成一第一支撐環區，所述第二弧形支撐塊環設於該第一支撐環區外以形成一第二支撐環區，相鄰第一弧形支撐塊之間以及相鄰第二弧形支撐塊之間均形成有一氣流溝槽，該外緣支撐環環設於該第二支撐環區外。[0006]綜上所述，本實用新型利用固定軸內藏於吸盤座以及吸盤之間的設計，以達到吸盤上的連通孔的直徑可小於固定軸的最大直徑的效果。如此一來，本實用新型所提供的真空吸盤設備可有效地解決面板表面微量變形的問題，從而提升面板的成型品質與生產效能。除此之外，通過連通孔與第一支撐環區、第二支撐環區以及外緣支撐環的配置，本實用新型所提供的真空吸盤設備可提供給所欲吸附的面板分布均勻且足夠的支撐，並且也可達到真空裝置通過連通孔所產生的真空吸力可平均分布於吸盤上的目的，從而進一步地避免真空吸力過度集中的情況發生。關於本實用新型的優點與精神可以通過以下的實施方式及所附圖式得到進一步的了解。
圖1為先前技術的真空吸盤設備的剖面示意圖。圖2為根據本實用新型的一實施例所提出的真空吸盤設備的剖面示意圖。圖3為圖2的吸盤的上視圖。圖4為圖2的吸盤以及固定軸設置於吸盤座上的剖面示意圖。圖5為圖4的固定軸接合於容置凹槽的鎖合孔結構上的剖面示意圖。圖中:10、100:真空吸盤設備；12、102:機械手臂；13、101:真空裝置；14、104:吸盤座；
16、110:吸盤；18、106:固定軸；20、108:螺栓；22、112:容置凹槽；24、114:鎖合孔結構； 25、115:真空裝置孔洞；26、116:連通孔；117:氣流溝槽；118:第一弧形支撐塊； 119:第一支撐環區:120:第二弧形支撐塊； 121:第二支撐環區；122:外緣支撐環；a 1、α 2:直徑最大直徑
具體實施方式
:在說明書及後續的申請專利範圍當中使用了某些詞彙來指稱特定的元件。所屬領域中具有通常知識者應可理解，製造商可能會用不同的名詞來稱呼同樣的元件。本說明書及後續的申請專利範圍並不以名稱的差異來作為區別元件的方式，而是以元件在功能上的差異來作為區別的基準。在通篇說明書及後續的請求項當中所提及的「包含」為一開放式的用語，故應解釋成「包含但不限定於」。請參閱圖2，其為根據本實用新型的一實施例所提出的一真空吸盤設備100的剖面示意圖，在此實施例中，真空吸盤設備100較佳地應用在面板製程的後烤爐上(但不受此限)且連通於一真空裝置101 (於圖2中以部分真空管線簡示)以作為吸附面板用，由圖2可知，真空吸盤設備100包含一機械手臂102 (於圖2中僅以部分簡示)、一吸盤座104、一固定軸106、一螺栓108，以及一吸盤110。機械手臂102具有一容置凹槽112，一鎖合孔結構114以及一真空裝置孔洞115形成於容置凹槽112內，真空裝置孔洞115連通於真空裝置101，機械手臂102用來將吸盤110對準於所欲吸附的面板上以進行面板的吸附，其機構設計以及相關操作常見於先前技術中，故於此不再贅述。吸盤座104設置在容置凹槽112中對應鎖合孔結構114的位置上，其中在此實施例中，吸盤座104可部分地撐抵於容置凹槽112上(如圖2所示)，以使吸盤座104具有可相對活動的空間而可相對容置凹槽112樞轉，通過發揮可微調吸盤110相對面板的吸附角度以使吸盤110與面板間的吸附更加密合的效果。固定軸106設置在吸盤座104內且接合於鎖合孔結構114上。螺栓108貫穿鎖合孔結構114以鎖合於固定軸106內。如圖2以及圖3所示，圖3為圖2的吸盤110的上視圖，吸盤110設置在吸盤座104上以覆蓋住固定軸106，並且具有一連通孔116、多個第一弧形支撐塊118、多個第二弧形支撐塊120，以及一外緣支撐環122，其中吸盤110較佳地以螺紋咬合的方式鎖固於吸盤座104上，但不受此限，其也可採用其他元件結合設計，如利用結構卡合方式等。更詳細地說，連通孔116經由真空裝置孔洞115以連通於真空裝置101，第一弧形支撐塊118環設於連通孔116外以形成一第一支撐環區119，第二弧形支撐塊120環設於第一支撐環區119外以形成一第二支撐環區121，相鄰第一弧形支撐塊118之間以及相鄰第二弧形支撐塊120之間均形成有一氣流溝槽117，外緣支撐環122環設於第二支撐環區121外，也就是說，利用連通孔116、第一支撐環區119、第二支撐環區121以及外緣支撐環122的配置，吸盤110上即可形成以連通孔116為中心且相互連通的三個區域，如此一來，本實用新型不僅可利用第一支撐環區119、第二支撐環區121以及外緣支撐環122以提供給所欲吸附的面板分布均勻且足夠的支撐，同時也可達到真空裝置101通過連通孔116所產生的真空吸力可平均分布於上述三個區域中的目的，從而避免因真空吸力過度集中所造成的面板變形現象。以下是針對真空吸盤設備100的組裝進行說明，請參閱圖2、圖4，以及圖5，圖4為圖2的吸盤110以及固定軸106設置於吸盤座104上的剖面示意圖，圖5為圖4的固定軸106接合於容置凹槽112的鎖合孔結構114上的剖面示意圖。首先，將固定軸106放入吸盤座104內，再將吸盤110鎖合於吸盤座104上(如圖4所示)，後將吸盤座104對準機械手臂102的容置凹槽112以及將固定軸106對準容置凹槽112內的鎖合孔結構114，通過依序將吸盤座104設置於容置凹槽112中以及將固定軸106接合於鎖合孔結構114上(如圖5所示)。接下來，可使用螺栓108貫穿鎖合孔結構114以與接合於鎖合孔結構114上的固定軸106進行鎖合，由此，吸盤座104與固定軸106即可經由螺栓108與固定軸106之間的鎖固以設置於機械手臂102上(如圖2所示)，這樣就可以完成真空吸盤設備100的組裝。透過上述配置，由圖2可知，由於固定軸106內藏於吸盤座104以及吸盤110之間，因此，即使連通孔116的直徑％採用小於固定軸106的最大直徑β2的設計，固定軸106仍然可順利地安裝至機械手臂102上，如此即可達到進一步地縮減連通孔116的直徑α 2的目的，以有效地解決先前技術中所提到的因連通孔孔徑過大所導致的面板表面微量變形問題，以有效地防止面板出現色不均現象而報廢的情況，從而提升面板的成型品質與生產效倉泛。上述連通孔116的直徑α 2可介於1.5mm至11.5mm之間且以6mm為較佳值。舉例來說，根據實務經驗，由吸力等於真空壓力乘以連通孔面積的公式可知，在連通孔116的直徑α 2縮減至6_的設計下，真空裝置101所能提供至面板的真空壓力可相對應地調升至_65Kpa，而真空裝置101經由吸盤110的連通孔116所產生的吸力可隨著連通孔116的直徑α 2的縮減而降低至0.1QKgf0需注意的是，由於真空裝置101所能提供至面板的真空壓力可進一步地加大，因此，真空吸盤設備100在吸附運載面板上的速度也會相對應地有所提升(約提升80 %)。相較於先前技術，本實用新型利用固定軸內藏於吸盤座以及吸盤之間的設計，以達到吸盤上的連通孔的直徑可小於固定軸的最大直徑的效果。如此一來，本實用新型所提供的真空吸盤設備可有效地解決面板表面微量變形的問題，從而提升面板的成型品質與生產效能。除此之外，通過連通孔與第一支撐環區、第二支撐環區以及外緣支撐環的配置，本實用新型所提供的真空吸盤設備可提供給所欲吸附的面板分布均勻且足夠的支撐，並且也可達到真空裝置通過連通孔所產生的真空吸力可平均分布於吸盤上的目的，從而進一步地避免真空吸力過度集中的情況發生。以上所述僅為本實用新型的較佳實施例，凡依本實用新型申請專利範圍所做的均等變化與修飾，都應屬本實用新型的涵蓋範圍。
權利要求1.一種真空吸盤設備，其連通於一真空裝置，其特徵在於，該真空吸盤設備包含: 一機械手臂，其具有一容置凹槽，一鎖合孔結構以及一真空裝置孔洞形成於該容置凹槽內，所述真空裝置孔洞連通於該真空裝置； 一吸盤座，其設置於所述容置凹槽中對應該鎖合孔結構的位置上； 一固定軸，其設置於所述吸盤座內且接合於所述鎖合孔結構上； 一螺栓，其貫穿所述鎖合孔結構以鎖合於所述固定軸內；以及一吸盤，其設置於所述吸盤座上以覆蓋所述固定軸且具有一連通孔、多個第一弧形支撐塊、多個第二弧形支撐塊以及一外緣支撐環，該連通孔經由所述真空裝置孔洞以連通於所述真空裝置，該連通孔的直徑小於所述固定軸的最大直徑，所述第一弧形支撐塊環設於所述連通孔外以形成一第一支撐環區，所述第二弧形支撐塊環設於所述第一支撐環區外以形成一第二支撐環區，相鄰所述第一弧形支撐塊之間以及相鄰所述第二弧形支撐塊之間均形成有一氣流溝槽，所述外緣支撐環環設於所述第二支撐環區外。
2.根據權利要求1所述的真空吸盤設備，其特徵在於:所述吸盤座部分地撐抵於所述容置凹槽上，以使該吸盤座可相對所述容置凹槽樞轉。
3.根據權利要求1所述的真空吸盤設備，其特徵在於:所述吸盤以螺紋咬合的方式鎖固於所述吸盤座上。
4.根據權利要求1所述的真空吸盤設備，其特徵在於:所述連通孔的直徑介於1.5mm至11.5mm之間。
5.根據權利要求4所述的真空吸盤設備，其特徵在於:所述連通孔的直徑實質上等於6mm ο
專利摘要本實用新型公開一種真空吸盤設備包含機械手臂、吸盤座、固定軸、螺栓及吸盤，吸盤座設置於機械手臂的容置凹槽中對應鎖合孔結構的位置上，固定軸設置於吸盤座內且接合於鎖合孔結構上，螺栓貫穿鎖合孔結構以鎖合於固定軸內，吸盤設置於吸盤座上以覆蓋固定軸且具有連通孔、外緣支撐環與多個第一及第二弧形支撐塊，連通孔連通真空裝置，其直徑小於固定軸的大直徑，第一及第二弧形支撐塊環設於連通孔外以分別形成第一及第二支撐環區，相鄰第一弧形支撐塊之間以及相鄰第二弧形支撐塊之間均形成有氣流溝槽，外緣支撐環環設於第二支撐環區外。
文檔編號H01L21/683GK202948911SQ201220668310
公開日2013年5月22日 申請日期2012年12月7日 優先權日2012年12月7日
發明者莊博彰 申請人:華映視訊(吳江)有限公司, 中華映管股份有限公司