Mri裝置、nmr分析裝置以及臺架的製作方法

2023-06-18 22:32:56 1

專利名稱：Mri裝置、nmr分析裝置以及臺架的製作方法
技術領域：
本發明涉及發生均勻性高的靜磁場的臺架、裝備該臺架的MRI (Magnetic Resonance Imaging:磁共振成像)裝置以及NMR (Nuclear Magnetic Resonance:核磁共振)分析裝置。
背景技術：
MRI裝置和NMR分析裝置以發生由成為MR信號的源的核磁性的 量化產生的靜磁場為目的裝備靜磁場發生部件。而後，該靜磁場發生部 件具有發生靜磁場的靜磁場發生部和調整該靜磁場的均勻度的勻場 (shimming)部。圖7是表示裝備在MRI裝置或者NMR分析裝置中的靜磁場發生部 發生的靜磁場的情況的概略剖面圖，表示靜磁場發生部的軸方向長度比 較長的情況。靜磁場發生部10A由超導磁鐵構成，在形成大致圓筒形的 真空容器內部具有和冷媒一同被收存的超導線圈(coil) 12A。而且，靜 磁場發生部10A在膛(bore )(圓筒的內側空間)內發生用圖中虛線表 示的磁場(靜磁場)。該靜磁場因為在MRI攝像動作以及NMR分析動 作中M礎，所以需要保持高均勻性，特別是在用圖中單點劃線表示的 攝像區域內，需要補正靜磁場不均勻，使得均勻度為數ppm以下。以往，作為補正靜磁場不均勻的技術之一，提出了通過將鐵片(鐵 墊片(shim))配置在所希望的位置上來調整磁場的勻場(被動勻場) 方法。實現它的勻場構造部例如用配置在超導磁鐵裝置10A的膛內的未圖示的墊片託架(shim tray)構成。該墊片託架具有連續形成的多個凹 槽(pocket)，通過在規定的凹槽中收存規定張數的鐵墊片，在所希望 的位置上配置所希望量的4失墊片，來補正靜磁場的不均勻(例如，參照 特開平8-299304號公報)。圖8是表示近年看到的軸方向長度比較短的靜磁場發生部發生的靜 磁場的狀態的概略剖面圖。在MRI裝置中，近年以降低給予受檢查者的 封閉感為目的，有縮短軸長度的趨勢。在此，用超導磁鐵構成的靜磁場 發生部形成的靜磁場因超導線圏12A以及超導線圏12B的影響，如圖7 以及圖8所示，具有在靜磁場發生部IOA、 10B的軸方向端部附近擾亂 大的特徵。在圖7所示的軸方向長度比較長的靜磁場發生部10A中，因 為攝像區域位於遠離該擾亂位置的位置上，所以並不怎麼受影響，能夠 以少量的鐵墊片補正靜磁場。但是，在圖8所示那樣的軸方向長度比較 短的靜磁場發生部10B中，因為超導線圏12B和在圖中用單點劃線表示 的攝像區域之間的距離短，所以將大大受到因超導線圏12B產生的磁場 的擾亂影響，為了將靜磁場設置成均勻的磁場需要大量的鐵墊片。發明內容但是，如果如上所述那樣使用大量的鐵墊片，因為發生以下那樣的 2次性的異常所以成問題。即，鐵因溫度原因磁化率發生變化，當溫度 上升，磁化率則減少。鐵墊片因為一般配置在傾斜磁場線圈的附近，所 以在運行中被傾斜磁場線圏加熱。如果鐵墊片這樣加熱，則鐵墊片不進 行當初經過調整的量的補正，靜磁場的均勻性降低，不能良好地進4亍攝像動作和分析動作。此外，在大量的鐵墊片中因磁場的影響產生大的應力。因此，粘接 的鐵墊片剝落，例如作為鐵墊片的支撐構造的墊片託架受到損傷，或者 裝置稍微歪斜。關於本發明的一個方式的MRI裝置具備在膛內發生靜磁場的靜磁 場發生部；在配置於上述靜磁場內的被檢查體上施加傾斜磁場的傾斜磁 場線圏；從施加了上述傾斜磁場的被檢查體接il^磁共振信號的高頻線圏；調整上述靜磁場的均勻度的勻場構造部，上述勻場構造部具備配置在 上述傾斜磁場線圏的主線圏(main coil)和屏蔽線圏(shield coil)之間、 且配置在上述靜磁場發生部的中心軸方向的中央部上的第一鐵墊片；配 置在上述主線圏和屏蔽線圏之間的外側上、且配置在上述靜磁場發生部 的中心軸方向的端部上的第二鐵墊片。此外，關於本發明的另一方式的NMR裝置具備在膛內發生靜磁 場的靜磁場發生部；在配置於上述靜磁場內的分析試樣上施加傾斜磁場 的傾斜磁場線圏；從施加了上述傾斜磁場的分析試樣接收磁共振信號的 高頻線圏；調整上述靜磁場的均勻度的勻場構造部，上述勻場構造部具 備配置在上述傾斜磁場線圏的主線圏和屏蔽線圏之間、且配置在上述 靜磁場發生部的中心軸方向的中央部上的第一鐵墊片；配置在上述主線 圏和屏蔽線圏之間的外側上、且配置在上述靜磁場發生部的中心軸方向 上的端部上的第二鐵墊片。此外，關於本發明的另一方式的臺架具備在膛內發生靜磁場的靜 磁場發生部；調整上述靜磁場的均勻度的勻場構造部，上述勻場構造部 具備配置在向配置於上述靜磁場內的被檢查體或者分析試樣施加傾斜 磁場的傾斜磁場線圈的主線圏和屏蔽線圏之間、且配置在上述靜磁場發 生部的中心軸方向的中央部上的第一鐵墊片；配置在上述主線團和屏蔽 線圏之間的外側、且配置在上述靜磁場發生部的中心軸方向的端部上的 第二4失塾片。


圖1是本發明的MRI裝置的系統結構圖。圖2是表示在靜磁場發生部一側的端部上固定有鐵墊片的樣子的側 視圖。圖3是放大2塊重疊固定的鐵墊片來表示的側^f見圖。圖4是鐵墊片上面圖。圖5是傾斜磁場線圏構造體的側視圖。圖6是表示墊片託架的詳細的側視圖。圖7是表示軸方向長度長的靜磁場發生部發生的靜磁場的樣子的概 略剖面圖。圖8是表示軸方向長度短的靜磁場發生部發生的靜磁場的樣子的概 略剖面圖。圖9是表示具備靜音機構時的靜磁場發生部以及傾斜磁場線圏構造 體的一側端部附近的構造的圖。圖IO是圖9中的A-A線位置上的剖面圖。
具體實施方式
以下參照附圖，根據圖面詳細說明關於本發明的MRI裝置的優選實 施例。而且，本發明並不被該實施例所限定。本實施例是在以往需要大量配置鐵墊片的膛內的軸方向端部上不配 置鐵墊片，作為補正同一部分的靜磁場的替代方法，將其他鐵墊片配置 在膛外的靜磁場發生部的端部上的例子。圖1是關於本發明的MRI裝置的系統結構圖。例如MRI裝置100 具有臺架卯；設置在未圖示的床上的頂板40;傾斜磁場電源45;發送部 48;接收部49;操作員控制臺(operator console )部80。臺架卯具有 靜磁場發生部10;傾斜磁場線圏構造體20;高頻線圏30。在靜磁場發生部10中，在大致厚壁圓筒形狀的真空容器11中將超 導線圏12浸漬在冷卻液中收存。收存超導線圏12讓其在真空容器11的 軸方向兩端部上發生大的磁場。靜磁場發生部10在膛內(靜磁場發生部 10的圓筒內部的空間)上發生靜磁場。在真空容器11的軸方向兩端部上 安裝作為本實施例的特徵的構成第二鐵墊片的鐵墊片51和鐵墊片52。鐵 墊片51固定在真空容器11的軸方向的兩端面lla上。另一方面，鐵墊 片52固定在真空容器11的軸方向兩端部的外圍面lib上。這些鐵墊片 51和鐵墊片52補正在膛內的圓柱形的攝像區域的主要軸方向兩端部的 靜磁場。傾斜磁場線圏構造體20固定在靜磁場發生部10的內側。傾斜磁場 線圏構造體20形成大致圓筒形狀，具有在X、 Y、 Z軸方向上給予傾斜磁場的主線圏(傾斜磁場線圏)21;消除主線圏21的洩漏磁場的屏蔽線 圏22。而且，配置夾在主線圏21和屏蔽線圏22中作為鐵墊片支撐構造 的墊片託架60。在墊片託架60上收存構成第一鐵墊片的鐵墊片71。鐵 墊片71補正在膛內的圓柱形的4IK象區域的主要中間部的靜磁場。而且， 構成第二鐵墊片的鐵墊片51、 52以及構成第一鐵墊片的鐵墊片71構成 調整靜磁場均勻度的勻場構造部。高頻線圏30固定在傾斜磁場線圏構造體20的均勻磁場區域一側上。 而且，將被檢查體P橫放配置於均勻磁場區域中可以在水平方向上移動 的頂板40上。而且，本實施例的膛的大小作為一例是患者膛軸長1.495m, 開口部直徑65.5cm。此外，此時靜磁場發生部10的磁鐵軸長度是1.400m。 高頻線圏30從發送部48接收高頻脈衝(pulse )的供給，發生高頻磁場。 此外高頻線圏30接收因高頻磁場的影響從被檢查體P發射的磁共振信 號。發送部48具有振蕩部、位置選擇部、頻率變換部、振幅調製部以及 高頻電力放大部。振蕩部發生對處於靜磁場中的對象原子核固有的共振 頻率的高頻信號。相位選擇部選擇高頻信號的相位。頻率調製部調製從 相位選擇部中輸出的高頻信號的頻率。振幅調製部例如根據sine函數調 制從頻率調製部輸出的高頻信號的振幅。高頻電力放大部放大從振幅調 制部輸出的高頻信號。而且作為這些各部的動作的結果，發送部48將與 拉莫爾(Larmor)頻率對應的高頻脈衝發送到高頻線圏30。接收部49具有選擇器、前級放大器、相位檢波器以及模擬數字 (analog-digital)變換器。選擇器有選擇地輸入從高頻線圏30輸出的磁 共振信號。接收部49放大從選擇器輸出的磁共振信號。相位檢波器對從 前置放大器輸出的磁共振信號的相位進行檢波。模擬數字變換器將從相 位檢波器輸出的信號變換為數字(digital)信號。操作員控制臺部80具有接口 (interface)部81、數據(data)收 集部82、重構部83、存儲部84、顯示部85、輸入部86以及控制部87。 在接口部81上連接傾斜磁場電源45、發送部48以及接收部49。接口部 81進行輸入輸出在這些連接的各部和操作員控制臺部80之間發送接收的信號。數據收集部82經由接口部81收集從接收部49輸出的數位訊號。數 據收集部82將收集到的數位訊號、即磁共振信號數據存儲在存儲部84 中。重構部83對於存儲在存儲部84中的磁共振信號數據，執行後處理、 即傅立葉(Fourier)變換等的重構，求被檢查體P內的所希望核自旋的 光語數據(spectrum data )或者圖像數據。存儲部84對每個被檢測體P存儲磁共振信號數據、和光鐠數據或者 圖像數據。顯示部85在控制部87的控制下顯示光i普數據或者圖像數據 等的各種信息。作為顯示部85，可以利用液晶顯示器等的顯示器件 (device)。輸入部86受理來自技師的各種指令和信息輸入。控制部87 綜合地控制這些各部從而控制MRI裝置的攝像動作。圖2是表示在靜磁場發生部10的一側的端部上固定有鐵墊片51、52 的樣子的側視圖。圖3是放大表示2塊重疊地固定的鐵墊片51、 52的側 視圖。圖4是鐵墊片51、 52的上面圖。而且，在圖中強調記栽了鐵墊片 的厚度。本實施例的鐵墊片51和鐵墊片52用相互相同形狀形成矩形平 板形，在中央部上開設貫通緊固螺栓(bolt) 53的貫通孔51a。鐵墊片 51和鐵墊片52的大小作為 一例，是長邊50mm、短邊40mm、厚度20mm， 最大5塊重疊被安裝的。貫通孔51a設置成在長方向上延伸的長孔，使 得可以進行安裝位置的微調。進而，在鐵墊片51、 52的表面上如圖4所 示那樣，刻畫有用於容易微調的刻度51b。鐵墊片51、 52用緊固螺栓53固定在形成於真空容器ll的端面lla 以及外圍面lib上的未圖示的內螺紋孔內。用於固定鐵墊片51的24個 內螺紋孔沿著同心圓以等間隔形成在靠近真空容器11的端面1 la的內徑 孔的位置上。此外，用於固定鐵墊片52的24個內螺紋孔在整個周圍上 以等間隔形成在靠近真空容器11的外圍面lib的端面lla的位置上。鐵 墊片51和鐵墊片52以補正攝像區域兩端部的靜磁場為目的在需要的位 置上被安裝了必要的張數。鐵墊片51、 52和安裝它的內螺紋孔嚴格地被 尺寸管理並製造。對於鐵墊片51、 52還嚴格地管理材料的鐵含有量。而 且通過安裝位置和安裝張數，可以正確地補正揚/像區域的軸方向兩端部的靜磁場。對於緊固螺栓53因為尺寸管理難，所以用作為非磁性材料的 例如不鏽鋼(stainless)來製作，以使得對磁場沒有影響。而且，在本實 施例中，雖然通過改變張數安裝厚度為20mm的鐵墊片51、 52來進行調 整，但也可以通過預先準備不同厚度的鐵墊片選擇適當的鐵墊片進行安 裝來調整。而且，本實施例的第二鐵墊片51、 52在圓周方向上斷續地i殳 置，但也可以進一步靠近相鄰的鐵墊片設置成環形(ring)的配置。通 過設置成環形的配置能夠進一步進行;敞細的調整。此外，也可以將第二 鐵墊片51、 52本身設置成環形。圖5是傾斜磁場線圏構造體20的側視圖。傾斜磁場線圏構造體20 具有大致圓筒形的主線圏21和屏蔽線圈22，在這些2個線圏21、 22之 間形成24根的墊片託架插入導軌23 。墊片託架插入導軌23是在傾斜磁 場線圏構造體20的兩端面上形成開口，在傾斜磁場線圈構造體20的長 方向的全長上形成的貫通孔。墊片託架插入導軌23在被2個線圏21、 22 夾著的區域上相互平行地在圓周方向上以等間隔形成。24根的墊片託架 60各自插入在該墊片託架插入導軌23上固定在傾斜磁場線圏構造體20 的中央部上。墊片託架60用作為非磁性並且非導電性材料的樹脂製造， 大致形成棒形，具有除去了傾斜磁場線圏構造體20的兩端部的長度。即， 本實施例的墊片託架60與以往的墊片託架相比兩端部縮短了規定的長 度。圖6是表示墊片託架60的詳細的側視圖。墊片託架60由細長箱形 的託架主體61和蓋體62構成。在託架主體61上在長方向上連續形成多 個凹槽61a。鐵墊片71以補正攝像區域中間部的靜磁場為目的在需要位 置的凹槽61a中被收存必要張數。鐵墊片71的大小作為一例長邊40mm、 短邊30mm、厚度3mm，最大重疊收存10張。鐵墊片71和墊片託架60 嚴格地管理鐵成分的含有量和尺寸來製造，利用4失墊片71的收存位置和 收存張數，正確地補正攝像區域的軸方向中間部的靜磁場。這樣，本實施例的勻場構造部在以往需要大量的鐵墊片的膛內的攝 像區域的軸方向兩端部上不配置鐵墊片，代之將用於補正該部分的靜磁 場的鐵墊片配置在膛外的靜磁場發生部10的兩端部。被移動到膛外的鐵墊片因為離開所補正的/f茲場，所以進一步需要更多的鐵墊片。但是，移動到膛外的鐵墊片因為離開傾斜磁場線圏構造體20，所以不會受到溫度 的影響。此外，由於在託架端部的靜磁場的梯度大的地方的鐵墊片沒有 了，所以作用在傾斜磁場線圏和墊片託架上的電磁力減小。而且，模擬和實驗的結果，在本實施例的患者膛軸長1.495m、開口 部直徑65.5cm、靜磁場發生部10的磁鐵軸長是1.400m這一條件時，將 固定在端面lla上的第二鐵墊片51從靜磁場發生部10的中心軸向半徑 方向在從0.7m到0.75m的範圍中配置成數cm 10cm厚度的環形，對於 固定在外圍面lib上的第二鐵墊片52，在從靜磁場發生部10的中心軸 到半徑方向上以0.99m的厚度配置成環形，從軸方向兩端部分別在0.5m 至0.7m以及從-0.7m至-0.5m的範圍中以數cm 10cm厚度配置成環形， 進而如果將第一鐵墊片71配置在從靜磁場發生部10的軸方向中心向前 後方向上在+/-20 11的範圍中，可知不會受到超導線圏12的影響，能 夠最有效地進行靜磁場均勻度的補正。如上所述，本實施例的MRI裝置100具備形成大致圓筒形、在內部 空間上發生靜磁場的靜磁場發生部10;調整靜磁場的均勻度的勻場構造 部，勻場構造部具備配置在靜磁場發生部10的膛外的軸方向端部上的第 二鐵墊片51、 52;配置在靜磁場發生部10的膛內的軸方向中間部上的第 一鐵墊片71。因此，能夠減少配置在靜磁場發生部IO的膛內的鐵墊片的 量，由此，能夠進一步提高裝置動作時的靜磁場的均勻性。此外，能夠 抑制墊片託架60等的鐵墊片支撐構造的破損。此外，第二鐵墊片51、 52被固定在靜磁場發生部10的真空容器11 的端面lla以及外圍面llb上。因此，用緊固螺栓53等扣件，能夠比較 容易並且牢固地固定。進而，在靜磁場發生部10的膛內的中央部上和以往一樣地配置墊片 託架60，因為補正損L像區域的中間部的靜磁場，所以能夠如以往那^=羊良好地進行靜磁場的孩吏調。而且，本實施例的鐵墊片51、 52 (第二鐵墊片)用緊固螺栓53被固 定，但並不限於這種扣件，例如也可以用粘接劑等固定。進而也可以在最終靜磁場的調整完成時焊接。此夕卜，構成第二鐵墊片的鐵墊片51、 52在圓周方向上斷續地被配置， 但當想在圓周方向上進行均勻的磁場補正的情況下，也可以配置在圓周 方向上連續的鐵墊片，即環形的鐵墊片。此外，本實施例的鐵墊片71 (第一鐵墊片)收存在墊片託架60上被 配置，但不採用這種方法，用扣件或粘接劑也可以直接固定在傾斜磁場 線圏構造體20上。也可以在收存於墊片託架60上的狀態下，用扣件或 粘接劑固定在傾斜磁場線圏構造體20上。進而，本實施例的鐵墊片71收存在與以往的鐵墊片相比減短的墊片 託架60中，但也可以使用和以往一樣的墊片託架，不將鐵墊片71收存在墊片託架的兩端部。此外，在本實施例中，說明了傾斜^f茲場線圈構造體20未用真空容器 包圍的情況，但作為抑制在傾斜磁場線圏構造體20中發生的噪音的靜音 機構，還有傾斜磁場線圏構造體20用真空容器包圍的情況。圖9是表示 傾斜磁場線圏構造體20用真空容器包圍時的靜磁場發生部10以及傾斜 磁場線圏構造體20的一側端部附近的構造的剖面圖。而且，圖9表示在 通過靜磁場中心的鉛直面上的剖面。圖10是圖9中的A-A線的位置的 剖面圖。此外，靜磁場發生部10以及傾斜磁場線圏構造體20隻表示外 側框架。在傾斜磁場線圏構造體20的內側上配置有膛管(bore tube)31。膛 管31形成中空的圓筒形，防止被檢查體P直M觸到傾斜磁場線圏構造 體20。此外，在靜磁場發生部10以及傾斜磁場線圏構造體20的一側端部 附近配置真空容器32;固定器具33、 34; 0型圏35; 0型圏壓板36; 防振材料37;支撐構件38a;防振材料39a以及支撐構件38b。真空容器32形成在中央開"^殳了圓形的孔的圓盤形。中央的孔的直徑 比膛管31的外徑還大一些，膛管31可以通過該孔。真空容器32在其外 圍側的邊緣附近上，用固定器具33、 34固定在設置於靜^磁場發生部10 上的固定軸10a上。此外在真空容器32上形成有圓弧形的凸部32a。凸部32a與靜磁場發生部10相接觸。在真空容器32的面向上述孔的邊緣上圓周形形成向外側擴展的錐 (taper) 32b。在該錐32b和膛管31的外側面之間配置有O型圏。O型 圏35用O型圏壓板36按壓成和錐32b以及膛管31接觸的狀態。此外 在真空容器32和膛管31的外側面之間的間隙中，在膛管31的上側的一 部分上配置有防振材料37。膛管31通過將安裝在下方的支撐構件38a隔著防振材料39a與設置 在真空容器32上的凸部32c接觸來被支撐。傾斜磁場線圏構造體20經由安裝在其一側端部上的支撐構件38b以 及防振材料39b與設置在靜磁場發生部10上的支撐部10b接觸。凸部 32a形成為不與固定軸10a幹涉。如此用以上那樣的構造，在傾斜磁場線圏構造體20的周圍形成用靜 磁場發生部10、膛管31以及真空容器32所包圍的空間S。而且，通過 將該空間Si殳置成真空，能夠防止在傾斜^f茲場線圏構造體20上發生的噪 音傳遞到周圍。此外，如果將空間S設置成真空，則真空容器32靠氣壓作用向空間 S的一側、即軸方向按壓。但是，真空容器32除了在向靜磁場發生部10 的固定位置外，因為還用凸部32a與靜/ 茲場發生部10接觸，所以能夠用 真空容器32自身和靜磁場發生部10接受來自真空容器32的軸方向的負 荷。因此，膛管31不需要接收來自真空容器32的軸方向的負荷，不需 要剛硬地結合膛管31和真空容器32。其結果，在能夠減輕從真空容器 32向膛管31的振動傳遞的同時，可以減薄膛管31的厚度。此外，通過設置成隔著防振材料39b將傾斜磁場線圏構造體20和靜 磁場發生部10接觸的柔軟構造，可防止傾斜磁場線圏構造體20的振動 傳遞到靜磁場發生部10,抑制因傾斜磁場線圏構造體20的振動引起的噪 音的發生。因而，從靜音機構這一點看，用柔性構造結合傾斜磁場線圏 構造體20和靜磁場發生部10是重要的，通過讓墊片託架內的鐵墊片71 的一部分移到靜磁場以外，減少墊片託架60從鐵墊片71接受到的力， 能夠減少傾斜磁場線圏構造體20的位置變化，能夠將傾斜磁場支撐構造設置成更柔軟的構造。而且，本實施例的MRI裝置100的臺架卯是MRI裝置用的臺架， 但本發明的技術思想即使適用於裝備在NMR分析裝置中的靜磁場發生 部件中也有效。進而不限於兩裝置，只要是具備發生靜磁場的靜磁場發 生部和用鐵墊片調整靜磁場的均勻性的勻場構造的裝置適用就有效。
權利要求
1.一種MRI裝置，其特徵在於，具備在膛內發生靜磁場的靜磁場發生部；在配置於上述靜磁場內的被檢查體上施加傾斜磁場的傾斜磁場線圈；從施加了上述傾斜磁場的被檢查體接收磁共振信號的高頻線圈；調整上述靜磁場的均勻度的勻場構造部，上述勻場構造部具備配置在上述傾斜磁場線圈的主線圈和屏蔽線圈之間、且配置在上述靜磁場發生部的中心軸方向的中央部上的第一鐵墊片；配置在上述主線圈和屏蔽線圈之間的外側上、且配置在上述靜磁場發生部的中心軸方向的端部上的第二鐵墊片。
2. 根據權利要求1所述的MRI裝置，其特徵在於 上述第二鐵墊片被固定在上述靜磁場發生部的外圍面上。
3. 根據權利要求1所述的MRI裝置，其特徵在於 上述第二鐵墊片被固定在上述靜磁場發生部的端面上。
4. 根據權利要求1所述的MRI裝置，其特徵在於 上述靜磁場發生部用超導磁鐵構成，上述第二鐵墊片被固定在上述超導磁鐵的真空容器上。
5. 根據權利要求2所述的MRI裝置，其特徵在於 上述靜磁場發生部用超導磁鐵構成， 上述第二鐵墊片被固定在上述超導磁鐵的真空容器上。
6. 根據權利要求3所述的MRI裝置，其特徵在於 上述靜磁場發生部用超導磁鐵構成，上述第二鐵墊片被固定在上述超導磁鐵的真空容器上。
7. 根據權利要求4所述的MRI裝置，其特徵在於 上述第二鐵墊片是排列在上述真空容器的圓周方向上的鐵片。
8. 根據權利要求5所述的MRI裝置，其特徵在於上述第二鐵墊片是排列在上述真空容器的圓周方向上的鐵片。
9. 根據權利要求6所述的MRI裝置，其特徵在於 上述第二鐵墊片是排列在上迷真空容器的圓周方向上的鐵片。
10. 根據權利要求4所述的MRI裝置，其特徵在於 上述笫二鐵墊片是沿著上述真空容器的圓筒形狀的環形構件。
11. 根據權利要求5所述的MRI裝置，其特徵在於 上述第二鐵墊片是沿著上述真空容器的圓筒形狀的環形構件。
12. 根據權利要求6所述的MRI裝置，其特徵在於 上述第二鐵墊片是沿著上述真空容器的圓筒形狀的環形構件。
13. 根據權利要求4所述的MRI裝置，其特徵在於上述笫二鐵墊片用非磁性材料的緊固螺栓被固定在上述真空容器上。
14. 根據權利要求5所述的MRI裝置，其特徵在於 上述第二鐵墊片用非磁性材料的緊固螺栓被固定在上述真空容器上。
15. 根據權利要求6所述的MRI裝置，其特徵在於 上述第二鐵墊片用非磁性材料的緊固螺栓被固定在上述真空容器上。
16. 根據權利要求1所述的MRI裝置，其特徵在於 上述第一鐵墊片被收存在墊片託架上、且被配置於上述靜磁場發生部的膛內。
17. 根據權利要求2所述的MRI裝置，其特徵在於 上述第一鐵墊片被收存在墊片託架上、且被配置於上述靜磁場發生部的膛內。
18. 根據權利要求3所述的MRI裝置，其特徵在於 上述第一鐵墊片被收存在墊片託架上、且被配置於上述靜磁場發生部的膛內。
19. 根據權利要求1所述的MRI裝置，其特徵在於 上述第一鐵墊片被安裝在配設於上述靜磁場發生部的膛內的上述傾斜磁場線圏上。
20. 根據權利要求2所述的MRI裝置，其特徵在於 上述第一鐵墊片被安裝在配設於上述靜磁場發生部的膛內的上述傾斜磁場線團上。
21. 根據權利要求1所述的MRI裝置，其特徵在於上述第二鐵墊片被固定在從上述靜磁場發生部的中心軸沿半徑方向 0.7m到0.75m的範圍中。
22. 根據權利要求1所述的MRI裝置，其特徵在於上述第 一鐵墊片被固定在從上述靜磁場發生部的軸方向中心沿前後 方向20cm的範圍中。
23. 根據權利要求1所述的MRI裝置，其特徵在於 作為抑制上述傾斜磁場線圏發生的噪音的靜音機構，具備柔軟地支撐傾斜磁場線圏的構造。
24. —種NMR分析裝置，其特徵在於，具備 在膛內發生靜磁場的靜磁場發生部；在配置於上述靜磁場內的分析試樣上施加傾斜磁場的傾斜磁場線圏；從施加了上述傾斜磁場的分析試樣接收磁共振信號的高頻線圏；調整上述靜磁場的均勻度的勻場構造部，上述勻場構造部具備配置在上述傾斜磁場線圏的主線圏和屏蔽線圏之間、且配置在上述 靜磁場發生部的中心軸方向的中央部上的第一鐵墊片；配置在上述主線圏和屏蔽線圏之間的外側上、且配置在上述靜> 茲場 發生部的中心軸方向上的端部上的第二鐵墊片。
25. —種臺架，其特徵在於，具備 在膛內發生靜磁場的靜磁場發生部； 調整上述靜磁場的均勻度的勻場構造部， 上述勻場構造部具備配置在向配置於上述靜磁場內的被檢查體或者分析試樣施加傾斜磁場的傾斜磁場線圏的主線圏和屏蔽線圏之間、且配置在上述靜磁場發生部的中心軸方向的中央部上的第一鐵墊片；配置在上述主線圏和屏蔽線圏之間的外側、且配置在上述靜磁場發 生部的中心軸方向的端部上的第二鐵墊片。
全文摘要
本發明提供一種MRI裝置、NMR分析裝置以及臺架，該MRI裝置具備在膛內發生靜磁場的靜磁場發生部、向配置於靜磁場內的被檢查體P施加傾斜磁場的主線圈(傾斜磁場線圈)、從施加了傾斜磁場的被檢查體接收磁共振信號的光碟線圈；調整靜磁場的均勻度的墊片調整構造部，墊片調整構造部具備配置在傾斜磁場線圈的主線圈和屏蔽線圈之間，配置在靜磁場發生部的中心軸方向上的中央部上的第一鐵墊片；配置在主線圈和屏蔽線圈之間的外側上，配置在靜磁場發生部的中心軸方向上的端部的第二鐵墊片。
文檔編號A61B5/055GK101334455SQ20081000974
公開日2008年12月31日 申請日期2008年2月13日 優先權日2007年2月13日
發明者野上和人 申請人:株式會社東芝;東芝醫療系統株式會社