多晶矽生產中電解制氫工藝及其氧氣回收系統的製作方法
2023-06-18 22:13:11
專利名稱：多晶矽生產中電解制氫工藝及其氧氣回收系統的製作方法
技術領域：
本發明涉及多晶矽生產領域，尤其是涉及一種多晶矽生產中電解制氫工藝及其氧氣回收系統。
背景技術：
多晶矽生產工藝中，氫氣作為主要生產原料，現有制氫方式主要是通過水電解方式制氫。水電解制氫中，製造純氫的量越大，副產物氧氣的產量就越大。具體地，在生產lNm3 高純度的氫氣的同時，也在生產0. 5Nm3濃度達99. 8%的氧氣。99. 8%以上的氧氣是現代工業中常用的助燃劑、氧化劑及重要的化工原料。現今的多晶矽生產工藝中，均沒有對電解制氫的副產物——氧氣進行回收，而是直接將氧氣當廢氣直接排空，造成資源大量浪費。而另一方面，在需要氧氣作為原料的富氧空氣燃燒技術中，傳統的製備氧氣原料的方法主要有深冷分離法、變壓吸附(PSA)法及膜分離法。然而不管採用何種方法，氧氣原料的製備成本高G 7元/Nm3氧氣)、純度低(90 99% )，且設備投資大，因此很難應用於工業生產。近年來，也有採用深冷制氮或變壓吸附制氮所產生的富氧尾氣(27 34%的含氧量)用於富氧燃燒爐窯，但由於含氧量低，所需要的氣體流量大，回收裝置體積較大， 投資較高，空氣中的含氧量範圍不便調節。
發明內容
本發明旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。為此，本發明的一個目的在於提出一種多晶矽生產中電解制氫工藝，所述多晶矽生產中電解制氫工藝可將電解制氫中的副產物回收利用起來，降低能耗及成本。本發明的另一個目的在於提出一種用於多晶矽生產中電解制氫工藝中的氧氣回收系統。根據本發明第一方面實施例的多晶矽生產中電解制氫工藝，包括以下步驟Si、電解鹼溶液以得到粗氫和氧氣；s2、對所述粗氫經過純化裝置後依次進行除氧、脫水、乾燥以得到純度高於 99. 999 %的純氫，並得到濃度高於99 %的氧氣；以及S3、對所述濃度高於99%的氧氣回收並對其進行稀釋以獲得含有氧氣含量為 21-25%的富氧空氣並送入燃燒設備中進行富氧燃燒。爐窯根據本發明實施例的多晶矽生產中電解制氫工藝，通過將電解制氫中的副產物即高純度的氧氣回收利用起來，而不是直接排放掉，實現了節能降耗，另外節省了用於富氧燃燒的氧氣的製造成本。另外，根據本發明的多晶矽生產中電解制氫工藝還具有如下附加技術特徵進一步地，所述步驟S3包括s31、控制回收的濃度高於99%的氧氣壓力在2. OOMPa ；
s32、將壓力為2. OOMPa的氧氣進行穩壓降壓到0. 30MPa ；s33、鼓入空氣與濃度高於99%的氧氣進行混合；以及s34、對與空氣混合的氧氣進行濃度的調節以獲得氧氣含量為21-25%的富氧空氣並送入燃燒設備中富氧燃燒。所述步驟s31和步驟s32之間還進一步包括s311、過濾氧氣並對氧氣流量進行計量。根據本發明第二方面實施例的用於根據本發明第一方面實施例中的多晶矽生產中電解制氫工藝中的氧氣回收系統，包括氧氣緩衝罐，所述氧氣緩衝罐用於接收電解制氫過程中生成的濃度高於99%的氧氣；壓力調節組件，所述壓力調節組件連接至所述氧氣緩衝罐以調節所述氧氣緩衝罐內的氧氣壓力在2. OOMPa ；穩壓組件，所述穩壓組件連接在所述氧氣緩衝罐的下遊且用於將從所述氧氣緩衝罐內輸出的氧氣壓力穩壓降到0. 30MPa ；混氧器，所述混氧器設在所述穩壓組件的下遊且接收氧氣；鼓風機，所述鼓風機向所述混氧器內通入空氣以與所述氧氣混合；和濃度調節組件，所述濃度調節組件與所述混氧器連接以調節混氧器內的氧氣濃度。通過將氧氣緩衝罐內的壓力控制在2. OOMPa，可保證電解分離出來的2. 30MPa的氧氣有足夠的壓力差到達氧氣緩衝罐，也對前面工序的制氫系統的運行不造成影響，同時也保證了一定的壓力便於氧氣的輸送及氧氣濃度的調節。在本發明的一個實施例中，所述壓力調節組件包括安全閥，所述安全閥連接至所述氧氣緩衝罐上；和壓力調節閥，所述壓力調節閥連接至所述氧氣緩衝罐且控制所述氧氣緩衝罐內的氧氣壓力。通過安全閥及壓力調節閥的雙重安全設置，可以確保從前面工序的電解制氫系統出來的氧氣，無論從開車還是到運行穩定都不會造成系統憋壓或氣體反竄，因而不影響整個電解制氫系統的穩定運行。在本發明的一個實施例中，所述穩壓組件包括穩壓閥，所述穩壓閥設在所述氧氣緩衝罐的下遊以將所述氧氣緩衝罐內輸出的氧氣壓力穩壓降到0. 30MPa ；和壓力洩放閥組，所述壓力洩放閥組連接在所述穩壓閥的下遊且當氧氣壓力高於0. 35MPa時打開洩壓。通過設置穩壓閥將壓力穩壓降壓至0. 30MPa,以保證後續各個調節閥門的精確度， 如果氧氣壓力過高，受調節閥門精確度影響，氧氣流量不好控制，容易發生氧濃度過高，引發事故。而通過設置壓力洩放閥組，當氧氣管道內的壓力高於0. 35MI^時，壓力洩放閥組打開洩壓，當氧氣管道中由於各個閥門故障或意外停車，造成管道憋壓，壓力洩放閥組的存在也可以將氧氣壓力瀉至安全範圍。同時，該壓力洩放閥組也是整個氧氣管道系統的洩壓點。在本發明的一個實施例中，所述氧氣回收系統進一步包括過濾器，所述過濾器設在所述氧氣緩衝罐和所述穩壓閥之間以過濾從氧氣緩衝罐內流出的氧氣。在本發明的一個實施例中，所述氧氣回收系統進一步包括第一氣體流量計，所述第一氣體流量計設在所述壓力洩放閥組的下遊以對氧氣流量進行計量；和第二氣體流量計，所述第二氣體流量計設在所述鼓風機的下遊以對氧氣流量進行計量。在本發明的一個實施例中，所述濃度調節組件包括濃度調節閥，所述濃度調節閥設在所述穩壓組件和所述混氧器之間；第一濃度檢測裝置，所述第一濃度檢測裝置設在所述混氧器的下遊用於檢測混合氣體中氧氣的濃度並反饋給所述濃度調節閥以調整氧氣流量；氣動切斷閥，所述氣動切斷閥設在所述濃度調節閥和所述混氧器之間，當混合氣體中氧氣含量大於25%時所述氣動切斷閥自動關閉；和第二濃度檢測裝置，所述第二濃度檢測裝置設在所述混氧器的下遊用於檢測混合氣體中氧氣的濃度並反饋給所述氣動切斷閥。根據本發明進一步的實施例，所述氧氣回收系統進一步包括手動切斷閥，所述手動切斷閥設在所述氣動切斷閥和所述混氧器之間；和止回閥，所述止回閥設在所述氣動切斷閥與所述手動切斷閥之間。通過在氣動切斷閥後設置手動切斷閥及止回閥，當氣動切斷閥失效時可以手動進行切斷控制。當進入爐窯的進風道壓力突然降低或消失時，止回閥可以防止空氣反竄。本發明的附加方面和優點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發明的實踐了解到。
本發明的上述和/或附加的方面和優點從結合下面附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中圖1是根據本發明實施例的多晶矽生產中電解制氫工藝的流程；圖2是根據本發明實施例的多晶矽生產中電解制氫工藝中步驟(3)的進一步流程；以及圖3是根據本發明實施例的多晶矽生產中電解制氫工藝中的氧氣回收系統的示意圖。
具體實施例方式下面詳細描述本發明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，僅用於解釋本發明，而不能理解為對本發明的限制。在本發明的描述中，需要理解的是，術語「上」、「下」、「左」、「右」、「頂」、「底」、「內」、 「外」等指示的方位或位置關係為基於附圖所示的方位或位置關係，僅是為了便於描述本發明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本發明的限制。另外，術語「上遊」、「下遊」是沿氣體的流向指示的位置關係。此外，術語「第一」、「第二」僅用於描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性。在本發明的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規定和限定，術語「安裝」、「相連」、「連接」應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內部的連通。對於本領域的普通技術人員而言，可以具體情況理解上述術語在本發明中的具體含義。此外，在本發明的描述中，除非另有說明，「多個」的含義是兩個或兩個以上。下面參考圖1-圖2描述根據本發明第一方面實施例的多晶矽生產中電解制氫工藝。根據本發明實施例的多晶矽生產中電解制氫工藝，包括以下步驟
Si、電解鹼溶液以得到粗氫和氧氣，其中鹼溶液可例如為氫氧化鈉水溶液或氫氧化鉀水溶液；s2、對粗氫經過純化裝置後依次進行除氧、脫水、乾燥以得到純度高於99. 999%的純氫，並得到副產物，即濃度高於99%的氧氣；以及S3、對濃度高於99%的氧氣回收並對其進行稀釋以獲得含有氧氣含量為21-25% 的富氧空氣並送入爐窯燃燒設備中進行富氧燃燒，其中燃燒設備可例如爐窯或其它採用空氣作為助燃劑的設備。根據本發明實施例的多晶矽生產中電解制氫工藝，通過將電解制氫中的副產物即高純度的氧氣回收利用起來，而不是直接排放掉，實現了節能降耗，另外節省了用於富氧燃燒的氧氣的製造成本。在本發明的一個實施例中，步驟S3還包括s31、控制回收的濃度高於99%的氧氣壓力在2. OOMPa0由於從s2步驟中得到的濃度高於99%的氧氣的氣量約為純氫產量的1/2，且壓力約為2. 30MPa，將壓力控制為2. OOMPa，可保證電解分離出來的氫氣有足夠的壓力差到達下一步的工序，也對制氫系統的運行不造成影響，同時也保證了一定的壓力以便於氧氣的輸送及氧氣濃度的調節。s32、將壓力為2. OOMPa的氧氣進行穩壓降壓到0. 30MPa。s33、鼓入空氣與濃度高於99%的氧氣進行混合；以及s34、對與空氣混合的氧氣進行濃度的調節以獲得氧氣含量為21-25%的富氧空氣並送入爐窯燃燒設備中進行富氧燃燒。在本發明的進一步的實施例中，在步驟s31和步驟s32之間進一步包括s311、過濾氧氣並對氧氣流量進行計量。根據本發明第二方面實施例的一種氧氣回收系統，用於上述實施例中的多晶矽生產中電解制氫工藝中的副產物即高濃度的氧氣的回收處理並繼續利用。根據本發明實施例的氧氣回收系統，包括氧氣緩衝罐1、壓力調節組件、穩壓組件、混氧器4、鼓風機5和濃度調節組件。如圖3所示，氧氣緩衝罐1用於接收電解制氫過程中生成的濃度高於99%的氧氣， 壓力調節組件連接至氧氣緩衝罐1以調節氧氣緩衝罐1內的氧氣壓力在2. OOMPa。穩壓組件連接在氧氣緩衝罐1的下遊且用於將從氧氣緩衝罐1內輸出的氧氣壓力穩壓降到0. 30MPa, 混氧器4設在穩壓組件的下遊且接收氧氣。鼓風機5向混氧器4內通入空氣，空氣與氧氣在混氧器4內進行充分混合成含有21 25%的富氧空氣，將富氧空氣送至爐窯爐膛與燃燒介質進行燃燒。濃度調節組件與混氧器4連接以調節混氧器4內的氧氣濃度，也就是說，濃度調節組件可以調節從混氧器4內輸出的混合空氣中氧氣含量。通過將氧氣緩衝罐1內的壓力控制在2. OOMPa,可保證電解分離出來的2. 30MPa的氧氣有足夠的壓力差到達氧氣緩衝罐1，也對前面工序的制氫系統的運行不造成影響，同時也保證了一定的壓力便於氧氣的輸送及氧氣濃度的調節。本領域內的普通技術人員可以理解，上述描述中所提到氧氣緩衝罐1和壓力調節組件之間、氧氣緩衝罐1和穩壓組件之間、穩壓組件和混氧器4之間的「連接」均為通過氧氣管道10相連，在下面的描述中氧氣在各個部件中流通也均由氧氣管道10相連。而鼓風機5和混氧器4之間通過空氣管道20相連，而從混氧器4與燃燒設備例如爐窯之間通過混合氣體管道30相連。如圖3所示，在本發明的一個實施例中，壓力調節組件包括安全閥21和壓力調節閥22，安全閥21連接至氧氣緩衝罐1上，可選地，安全閥21設在氧氣緩衝罐1上。或者可選地，安全閥21連接在氧氣緩衝罐1的管路上。安全閥21的整定壓力設為2. 25MPa,當氧氣緩衝罐1內的壓力超過該整定壓力時，安全閥21自動開啟洩壓，保證氧氣緩衝罐1內的壓力在2. 25MI^之下，以保證氧氣緩衝罐1的正常工作，防止發生意外，減小損失。壓力調節閥22連接至氧氣緩衝罐1且控制氧氣緩衝罐1內的氧氣壓力。壓力調節閥22將氧氣緩衝罐1內的壓力控制在2. OOMPa，氧氣緩衝罐1內壓力低於2. OOMI3a時壓力調節閥22關閉， 高於2. OOMPa時壓力調節閥22打開。通過安全閥21及壓力調節閥22的雙重安全設置，可以確保從前面工序的電解制氫系統出來的氧氣，無論從開車還是到運行穩定都不會造成系統憋壓或氣體反竄，因而不影響整個電解制氫系統的穩定運行。在本發明的一個實施例中，穩壓組件包括穩壓閥31和壓力洩放閥組32，如圖3 所示，穩壓閥31設在氧氣緩衝罐1的下遊以將氧氣緩衝罐1內輸出的氧氣壓力穩壓降到 0. 30MPa，壓力洩放閥組32連接在穩壓閥31的下遊，當氧氣壓力高於0. 35MPa時壓力洩放閥組32打開洩壓。可選地，壓力洩放閥組32也可作為手動洩壓閥。通過設置穩壓閥31將壓力穩壓降壓至0. 30MPa,以保證後續各個調節閥門的精確度，如果氧氣壓力過高，受調節閥門精確度影響，氧氣流量不好控制，容易發生氧濃度過高， 引發事故。而通過設置壓力洩放閥組32，當氧氣管道10內的壓力高於0.35MPa時，壓力洩放閥組32打開洩壓，當氧氣管道10中由於各個閥門故障或意外停車，造成管道憋壓，壓力洩放閥組32的存在也可以將氧氣壓力瀉至安全範圍。同時，該壓力洩放閥組32也是整個氧氣管道系統的洩壓點。根據本發明的一些實施例，氧氣回收系統進一步包括過濾器7，過濾器7設在氧氣緩衝罐1和穩壓閥31之間以過濾從氧氣緩衝罐1內流出的氧氣。而在本發明的進一步的實施例中，氧氣回收系統進一步包括第一氣體流量計81 和第二氣體流量計82，第一氣體流量計81設在壓力洩放閥組32的下遊以對氧氣流量進行計量，第二氣體流量計82設在鼓風機5的下遊以對空氣流量進行計量，如圖3所示。可選地，第一氣體流量計81為帶有遠傳累積功能的氣體流量計以對經過該處的氧氣流量進行計量。進一步可選地，第二氣體流量計82也為帶有遠傳累積功能的氣體流量計以對經過該處的空氣流量進行計量。根據本發明的一些實施例，如圖3中所示，濃度調節組件包括濃度調節閥61、第一濃度檢測裝置62、氣動切斷閥63和第二濃度檢測裝置64，其中，濃度調節閥61設在穩壓組件和混氧器4之間，用來控制進入混氧器4中的氧氣濃度進而調節從混氧器4輸出的混合空氣中氧氣的含量為21-25%。第一濃度檢測裝置62設在混氧器4的下遊用於檢測混合氣體中氧氣的濃度並反饋給濃度調節閥61以調整氧氣流量，保證氧氣濃度在允許範圍內 (21 25% )。氣動切斷閥63設在濃度調節閥61和混氧器4之間，當混合氣體管道30的混合氣體中含氧量>25%時，氣動切斷閥63自動關閉。第二濃度檢測裝置64設在混氧器4的下遊用於檢測混合氣體中氧氣的濃度並反饋給氣動切斷閥63，當第二濃度檢測裝置64檢測到混合氣體管道30的混合氣體中含氧量> 25%時，可反饋控制氣動切斷閥自動關閉。另外，通過第一濃度檢測裝置62和第二濃度檢測裝置64同時工作，增加系統安全冗餘度，也有利於檢修。在本發明進一步的實施例中，進一步包括手動切斷閥65和止回閥66，手動切斷閥 65設在氣動切斷閥63和混氧器4之間，止回閥66設在氣動切斷閥63與手動切斷閥65之間。通過在氣動切斷閥63後設置手動切斷閥65及止回閥66，當氣動切斷閥63失效時可以手動進行切斷控制。當進入爐窯燃燒設備例如爐窯的進風道壓力突然降低或消失時，止回閥66可以防止空氣反竄。下面參考圖3描述根據本發明實施例的多晶矽生產中電解制氫工藝中氧氣回收系統的工作過程。電解制氫過程中生成純氫時得到的副產物為濃度高於99%的氧氣，且氧氣壓力約為2. 30MPa，氧氣進入到氧氣緩衝罐1中，壓力調節組件中的壓力調節閥22將氧氣緩衝罐1 內的壓力控制在2. OOMPa,同時安全閥21的整定壓力設為2. 25MPa,當氧氣緩衝罐1內的壓力超過該整定壓力時，安全閥21自動開啟洩壓，保證氧氣緩衝罐1內的壓力在2·25ΜΙ^之下，以保證氧氣緩衝罐1的正常工作，防止發生意外，減小損失。氧氣緩衝罐1中的氧氣通過過濾器過濾並通過穩壓組件後輸入到混氧器4中，在此過程中，穩壓閥31穩壓降壓到0. 30MPa，並且壓力洩放閥組32控制氧氣管道10內的壓力不高於0. 35MPa。同時在壓力洩放閥組32的下遊通過第一氣體流量計81對氧氣流量進行
累計計量。鼓風機5通過空氣管道2將空氣鼓入到混氧器4中，在混氧器4中空氣與濃度高於99%的氧氣充分混合，同時通過濃度調節組件調節氧氣的濃度，隨後，混合後的氧氣含量為21-25%的氣體被混合空氣管道30輸入到爐窯中與燃燒介質進行富氧燃燒。在濃度調節過程中，濃度調節閥61控制進入混氧器4中的氧氣濃度進而調節從混氧器4輸出的混合氣體中氧氣的含量為21-25%，第一濃度檢測裝置62和檢測混合氣體中氧氣的濃度並反饋給濃度調節閥61，並且通過氣動切斷閥63和第二濃度檢測裝置64控制混合氣體管道30的混合氣體中含氧量不高於25%。進一步地，還可以通過手動切斷閥65及止回閥66以使整個氧氣回收系統更為安全穩定。在本說明書的描述中，參考術語「一個實施例」、「一些實施例」、「示意性實施例」、 「示例」、「具體示例」、或「一些示例」等的描述意指結合該實施例或示例描述的具體特徵、結構、材料或者特點包含於本發明的至少一個實施例或示例中。在本說明書中，對上述術語的示意性表述不一定指的是相同的實施例或示例。而且，描述的具體特徵、結構、材料或者特點可以在任何的一個或多個實施例或示例中以合適的方式結合。儘管已經示出和描述了本發明的實施例，本領域的普通技術人員可以理解在不脫離本發明的原理和宗旨的情況下可以對這些實施例進行多種變化、修改、替換和變型，本發明的範圍由權利要求及其等同物限定。
9
權利要求
1.一種多晶矽生產中電解制氫工藝，其特徵在於，包括以下步驟 Si、電解鹼溶液以得到粗氫和氧氣；s2、對所述粗氫經過純化裝置後依次進行除氧、脫水、乾燥以得到純度高於99. 999%的純氫，並得到濃度高於99%的氧氣；以及S3、對所述濃度高於99%的氧氣回收並對其進行稀釋以獲得含有氧氣含量為21-25% 的富氧空氣並送入燃燒設備中進行富氧燃燒。
2.根據權利要求1所述的電解制氫工藝，其特徵在於，所述步驟s3包括 s31、控制回收的濃度高於99%的氧氣壓力在2. OOMPa ；s32、將壓力為2. OOMPa的氧氣進行穩壓降壓到0. 30MPa ； s33、鼓入空氣與濃度高於99%的氧氣進行混合；以及s34、對與空氣混合的氧氣進行濃度的調節以獲得氧氣含量為21-25%的富氧空氣並送入燃燒設備燃燒。
3.根據權利要求1所述的電解制氫工藝，其特徵在於，所述步驟s31和步驟s32之間進一步包括s311、過濾氧氣並對氧氣流量進行計量。
4.一種用於根據權利要求1中的多晶矽生產中電解制氫工藝中的氧氣回收系統，其特徵在於，包括氧氣緩衝罐，所述氧氣緩衝罐用於接收電解制氫過程中生成的濃度高於99%的氧氣； 壓力調節組件，所述壓力調節組件連接至所述氧氣緩衝罐以調節所述氧氣緩衝罐內的氧氣壓力在2. OOMPa ；穩壓組件，所述穩壓組件連接在所述氧氣緩衝罐的下遊且用於將從所述氧氣緩衝罐內輸出的氧氣壓力穩壓降到0. 30MPa ；混氧器，所述混氧器設在所述穩壓組件的下遊且接收氧氣；鼓風機，所述鼓風機向所述混氧器內通入空氣以與所述氧氣混合；和濃度調節組件，所述濃度調節組件與所述混氧器連接以調節混氧器內的氧氣濃度。
5.根據權利要求4所述的氧氣回收系統，其特徵在於，所述壓力調節組件包括 安全閥，所述安全閥連接至所述氧氣緩衝罐上；和壓力調節閥，所述壓力調節閥連接至所述氧氣緩衝罐且控制所述氧氣緩衝罐內的氧氣壓力。
6.根據權利要求4所述的氧氣回收系統，其特徵在於，所述穩壓組件包括穩壓閥，所述穩壓閥設在所述氧氣緩衝罐的下遊以將所述氧氣緩衝罐內輸出的氧氣壓力穩壓降到0. 30MPa ；和壓力洩放閥組，所述壓力洩放閥組連接在所述穩壓閥的下遊且當氧氣壓力高於 0. 35MPa時打開洩壓。
7.根據權利要求6所述的氧氣回收系統，其特徵在於，進一步包括過濾器，所述過濾器設在所述氧氣緩衝罐和所述穩壓閥之間以過濾從氧氣緩衝罐內流出的氧氣。
8.根據權利要求6所述的氧氣回收系統，其特徵在於，進一步包括第一氣體流量計，所述第一氣體流量計設在所述壓力洩放閥組的下遊以對氧氣流量進行計量；和第二氣體流量計，所述第二氣體流量計設在所述鼓風機的下遊以對氧氣流量進行計量。
9.根據權利要求4所述的氧氣回收系統，其特徵在於，所述濃度調節組件包括 濃度調節閥，所述濃度調節閥設在所述穩壓組件和所述混氧器之間；第一濃度檢測裝置，所述第一濃度檢測裝置設在所述混氧器的下遊用於檢測混合氣體中氧氣的濃度並反饋給所述濃度調節閥以調整氧氣流量；氣動切斷閥，所述氣動切斷閥設在所述濃度調節閥和所述混氧器之間，當混合氣體中氧氣含量大於25%所述氣動切斷閥時自動關閉；和第二濃度檢測裝置，所述第二濃度檢測裝置設在所述混氧器的下遊用於檢測混合氣體中氧氣的濃度並反饋給所述氣動切斷閥。
10.根據權利要求9所述的氧氣回收系統，其特徵在於，進一步包括 手動切斷閥，所述手動切斷閥設在所述氣動切斷閥和所述混氧器之間；和止回閥，所述止回閥設在所述氣動切斷閥與所述手動切斷閥之間。
全文摘要
本發明公開了一種多晶矽生產中電解制氫工藝，包括以下步驟電解鹼溶液以得到粗氫和氧氣；對所述粗氫經過純化裝置後依次進行除氧、脫水、乾燥以得到純度高於99.999％的純氫，並得到濃度高於99％的氧氣；以及對所述濃度高於99％的氧氣回收並對其進行稀釋以獲得含有氧氣含量為21-25％的富氧空氣並送入燃燒設備中進行富氧燃燒。根據本發明實施例的多晶矽生產中電解制氫工藝，通過將電解制氫中的副產物即高純度的氧氣回收利用起來，而不是直接排放掉，實現了節能降耗，另外節省了用於富氧燃燒的氧氣的製造成本。本發明還公開了一種上述多晶矽生產中電解制氫工藝中採用的氧氣回收系統。
文檔編號C01B3/50GK102296321SQ201110251060
公開日2011年12月28日 申請日期2011年8月29日 優先權日2011年8月29日
發明者嚴大洲, 劉鵬, 毋克力, 湯傳斌, 肖榮輝, 蔣呈奎, 駱志傑 申請人:中國恩菲工程技術有限公司