簡沿禮帽的製作方法
2023-06-06 18:23:46
專利名稱:簡沿禮帽的製作方法
技術領域:
本實用新型涉及一種禮帽,尤其是一種簡沿禮帽。
背景技術:
禮帽在西方是一種很常見的正裝搭配,其制多用圓頂,下施一圈寬闊的 帽沿。但其不太適合中國人,因此在國內普及程度並不高,尤其那一圈寬闊的帽沿,不太符 合中國人的審美習慣,而且還浪費材料,透氣性也不好。發明內容針對上述現有技術的不足,本實用新型提供了一種簡沿禮帽。為實現上述目的,本實用新型採用的技術方案是簡沿禮帽,包括帽頂,帽沿和通 氣孔。帽頂的底部設有一圈加強圈。通氣孔處於帽頂的側面。帽沿固定在加強圈上。本實用新型改進了帽沿的設計,將原有的禮帽的圈形狀帽沿變成了前進帽帽沿, 保留了禮帽原有的莊重性,同時更符合中國人的佩戴習慣,而且更加節省材料,成本更低, 透氣性好,耐用。
圖1為本實用新型的結構示意圖。
具體實施方式
如圖1所示,簡沿禮帽,包括帽頂1,帽沿3和通氣孔2。帽頂1的底部設有一圈加 強圈4。通氣孔2處於帽頂1的側面。帽沿3固定在加強圈4上。
權利要求簡沿禮帽,包括帽頂,通氣孔,帽頂的底部設有一圈加強圈,通氣孔處於帽頂的側面,其特徵在於還包括固定在加強圈上的帽沿。
專利摘要簡沿禮帽,包括帽頂,帽沿和通氣孔。帽頂的底部設有一圈加強圈。通氣孔處於帽頂的側面。帽沿固定在加強圈上。本實用新型改進了帽沿的設計,將原有的禮帽的圈形狀帽沿變成了前進帽帽沿,保留了禮帽原有的莊重性,同時更符合中國人的佩戴習慣,而且更加節省材料,成本更低,透氣性好,耐用。
文檔編號A42B1/02GK201640576SQ20102017078
公開日2010年11月24日 申請日期2010年4月27日 優先權日2010年4月27日
發明者高國斌 申請人:高國斌