一種真空鍍膜系統的製作方法
2023-06-06 22:38:01
專利名稱：一種真空鍍膜系統的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種真空鍍膜系統，尤其是一種適用於大批量生產的自動鍍膜系統。
背景技術：
大批量的真空鍍膜應用越來越普遍，為了提高生產效率，鍍膜系統已經出現了許多連續方式的生產設備，但目前這種設備多適用於平板型工件或帶狀工件，如中國專利CN94219770.4就公開了一種臥式圓筒型鍍膜倉的真空鍍膜機，可對平板玻璃和不鏽鋼等基體鍍膜，但這種真空鍍膜機主要應用於大量平板型的基體；而目前現有技術中大量的立體工件的鍍膜大都採用了單機工作模式和單個鍍膜倉/腔體。其工藝流程是裝入工件後關閉鍍膜倉、排氣至低真空以便啟動高真空排氣系統並排氣至高真空，再充入工作氣體進行鍍膜；鍍膜完成後向腔體內充氣至一個大氣壓後再開門取出工件，如此循環。該工藝流程存在的明顯缺陷是在鍍膜倉體內從大氣至高真空的不斷循環帶來沉重的排氣負擔，費時、費力和動力消耗大等問題帶來了高成本和低工效，而且充入大氣時帶來汙染及靶材的氧化等問題，還會使工件膜層質量下降，明顯不適應大批量生產需要。
發明內容
本實用新型所要解決的技術問題是克服上述現有技術缺陷，提供一種可省時、省力、減少動力消耗和大氣汙染的鍍膜系統。本實用新型的另一個目的在於提供一種可保持一定真空度的連續方式的真空鍍膜系統。
本實用新型提供了一種真空鍍膜系統，其中設置一個或多個固定式鍍膜倉和移動式切換倉，切換倉可選擇性移動至各個鍍膜倉上方，並且切換倉及鍍膜倉上設有相匹配的對接口，實現切換倉與鍍膜倉的對接。鍍膜倉最好為兩個或兩個以上，並設有與其相連接的滿足真空鍍膜要求的高真空排氣裝置。切換倉連接一真空排氣裝置，該真空排氣裝置可將切換倉和與其對接的鍍膜倉一起排氣至真空度為0.1～20Pa範圍內，對於特殊應用也可排氣至更高真空度。
切換倉的個數可根據實際需要設置，通常為一個。在切換倉中設有兩個可放置工件架的工位I和工位II，並設置一移動換位機構來實現工位I和工位II相互換位。
所述鍍膜倉優選採用環形或直線形布局定位。在所述的鍍膜倉靠近對接口處設有上蓋板。
利用本實用新型的上述裝置，可以實現鍍膜過程與工件的放(裝爐)及取(出爐)過程相分離，即通過移動式切換倉，可在鍍膜倉鍍膜期間，脫離鍍膜倉，輪流完成工件從待鍍膜工件平臺到鍍膜倉的轉移或者從鍍膜倉到鍍膜成品平臺的轉移，並完成啟動鍍膜倉高真空排氣之前所必須的低真空排氣或者從鍍膜倉到鍍膜成品平臺轉移所必要的充氣。
由於採用上述的技術方案，本實用新型具有以下的有益效果適於大批量生產；避免鍍膜倉從大氣壓至高真空不斷循環帶來的排氣負擔和汙染；提高生產效率；降低成本。
圖1是本實用新型真空鍍膜系統主體結構示意圖；圖2是本實用新型的切換倉及鍍膜倉結構示意圖。
其中，1-裝卡有工件的工件架，2-切換倉，3-鍍膜倉，4-切換倉內工位I，5-對接機構，6-低真空排氣裝置，7-高真空排氣裝置，8-切換倉內的工位II，9-配重或起重裝置，10-切換艙內的移動換位機構，11-切換倉的對接口，12-鍍膜倉的對接口，13-上蓋板。
具體實施方式
以下結合附圖以太陽能集熱管沉積AlN薄膜為例，對本實用新型的實施進行進一步說明如圖1和圖2所示，開始先將裝卡有工件的工件架1首先置於切換倉2內的工位I(羅馬數字1)4，移動切換倉2並利用對接機構5使移動切換倉2的對接口11與鍍膜倉3的對接口12相對接，並將工件架1及其上部連接的密封上蓋板13裝入鍍膜倉3內，配重9設在切換倉2的另一側以平衡切換倉2的重量使切換倉逥轉平穩，配重9也可設置為起吊裝置用於設備部件的起吊檢修。利用與切換倉2相連接的真空排氣裝置6將切換倉連同鍍膜倉3一起排氣至真空0.1Pa～20Pa範圍內。上蓋板啟動鍍膜倉3的高真空排氣裝置7，排氣至鍍膜過程所需的高真空度，並使工件架1上固定的工件在鍍膜倉中進行鍍膜；同時，將切換倉2充氣至大氣壓並與鍍膜倉3的對接口(即所述的對接口11和12)脫開，然後移動至工件架取放位置，再在工位I裝上新的工件架及其工件和上蓋板13，然後將切換倉逥轉至鍍膜倉3的上方，利用切換倉中的移動換位機構10，使工位II與鍍膜倉3對接，並排氣至低真空。
當鍍膜倉3完成鍍膜後，充入氬氣(Ar)至50Pa～100Pa範圍，打開鍍膜倉3的上蓋板13，並利用切換倉的工位II將鍍膜倉3內完成了鍍膜的工件架取出，然後在切換倉2內將載有完成了鍍膜的工件架的工位II與載有新工件架的工位I互相換位，並與鍍膜倉3第二輪對接，再將新工件架1裝入鍍膜倉3內，利用與切換倉2相連接的低真空排氣裝置6將切換倉2連同鍍膜倉3一起排氣至低真空；第二次啟動鍍膜倉3的高真空排氣裝置7，關緊上蓋板、排氣至高真空後對新工件進行鍍膜等，重複上述第一輪的操作過程；切換倉2再次充氣至大氣壓並移動至工件架取、放位置，取下第二次已完成鍍膜的工件及其工件架1，再裝上新的工件架及其工件，可將切換倉2移動至鍍膜倉B，重複上述鍍膜倉A的工作過程，其它鍍膜倉C、D、E、F等也是利用切換倉如此循環，從而可以使各個鍍膜倉能同時很少間斷地進行大批量鍍膜生產。利用本實用新型的上述裝置，可以實現鍍膜過程與工件的放、取過程相分離，全面完成每個鍍膜倉全部工件的取、放和取、放期間內低真空與大氣之間的排氣和充氣過程，從而可以大幅度地增加多個鍍膜倉同時進行鍍膜工作時間。
最後應說明的是以上實施例只是用以說明本實用新型而並非限制本實用新型所描述的技術方案；因此，儘管本說明書參照上述的各個實施例對本實用新型已進行了詳細的說明，但是，本領域的普通技術人員應當理解，仍然可以對本實用新型進行修改或等同替換；而一切不脫離本實用新型的精神和範圍的技術方案及其改進，其均應涵蓋在本實用新型的權利要求範圍中。
權利要求1.一種真空鍍膜系統，其特徵在於在真空鍍膜系統中設置固定式鍍膜倉和移動式切換倉，切換倉可移動至鍍膜倉上方，並且切換倉及鍍膜倉上設有相匹配的對接口，實現切換倉與鍍膜倉的對接。
2.根據權利要求1所述的真空鍍膜系統，其特徵在於在切換倉中設有兩個可放置工件架的工位I和工位II，並設置一移動換位機構來實現工位I和工位II相互換位。
3.根據權利要求1所述的真空鍍膜系統，其特徵在於所述鍍膜倉設有與其相連接的高真空排氣裝置。
4.根據權利要求1所述的真空鍍膜系統，其特徵在於切換倉連接真空排氣裝置。
5.根據權利要求1所述的真空鍍膜系統，其特徵在於所述固定式鍍膜倉為兩個或兩個以上。
6.根據權利要求5所述的真空鍍膜系統，其特徵在於所述鍍膜倉採用環形或直線形布局。
7.根據權利要求1所述的真空鍍膜系統，其特徵在於在所述的鍍膜工件架的頂部連接一密封蓋板上蓋板。
8.根據權利要求1所述的真空鍍膜系統，其特徵在於所述的切換倉至少為一個。
9.根據權利要求1所述的真空鍍膜系統，其特徵在於該系統採用PLC或計算機自動控制。
專利摘要本實用新型公開了一種真空鍍膜系統，其中包括一個移動式切換倉、兩個或兩個以上的鍍膜倉、鍍膜倉的高真空排氣裝置、切換倉的真空排氣裝置，移動式切換倉可分別與各個鍍膜倉對接；鍍膜倉和切換倉分別設有相互匹配的對接口；在切換倉內設有兩個可放置工件架的工位，並以一移動換位機構連接。採用本實用新型具有以下的有益效果適於大批量生產；避免鍍膜倉從大氣壓至高真空不斷循環帶來的排氣負擔和汙染；提高生產效率；降低成本。
文檔編號C23C14/22GK2832828SQ20052013017
公開日2006年11月1日 申請日期2005年10月27日 優先權日2005年10月27日
發明者劉陽 申請人:北京實力源科技開發有限責任公司, 劉陽