天一格的製作方法

2023-10-11 19:39:04

天一格的製作方法
【專利摘要】天一格具有三條與水平線成10-15度左右向右上傾斜的橫向線條，三條垂線，和左右兩條斜線，以及多個點來輔助漢字點、橫、豎、撇、捺、折、鉤等筆畫的定位，其組成的框架結構是發明人對漢字間架結構規律的總結提煉。天一格內的點、線給漢字的筆畫、偏旁、部首的位置、長度、角度、比例關係設立了準確參照標準，能使書法研習者書寫時起筆、收筆明確，得心應手的處理間架結構，有利於研習者迅速抓住並掌握漢字造型規律，提高其漢字造型能力。使用天一格研習書法，將大大縮短學習時間，使書法的教與學由感性走向理性。天一格適用於硬筆書法、毛筆書法中楷書、行書、魏碑等書體的教學，是書法教育與學習者研究、學習書法的新工具，可以利用天一格來出版字帖，印製練字紙張，還可以印在透明材料上作為學習者檢驗書寫是否達標的工具。
【專利說明】天一格

【技術領域】
[0001]本發明涉及一種教學用具，更具體地說是涉及一種書法教學用格。

【背景技術】
[0002]目前學習書法的人越來越多，學習者雖然勤加用功，但是收效甚微，即使對臨也難以臨像原帖，一旦離開字帖便回歸學前面目；現有的書法用格如田字格、米字格等對漢字的造型的參考作用不大，筆畫在格中的定位很難達到精確，對漢字筆畫、偏旁、部首的位置比例關係也不能準確提示，更不利於學習者對漢字間架結構的掌握，有時還會起反作用，學習者往往在會格子中央橫線的誘導，起筆過低，筆畫寫成水平，因而將字寫在格子的下部，寫成的漢字是踩在格子底線上的而不是懸在格子中間。


【發明內容】

[0003]本發明是為了克服現有格子的缺陷，為書法研究者、學習者提供一種能夠準確提示漢字筆畫起止、長度、角度、位置、比例關係，揭示漢字間架結構規律的書法教學用格。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0004]圖1天一格繪製步驟I。圖2天一格繪製步驟2。圖3天一格繪製步驟3。圖4天一格繪製步驟4。圖5天一格繪製步驟5。圖6天一格實線效果圖。圖7天一格虛線效果圖。圖8天一格應用實例I。圖9天一格應用實例2。圖中:bb2上橫線；VW中橫線；M202下橫線；b4左上橫定位點；b3右上橫定位點；U左中橫定位點；X右中橫定位點；03右下角點。

【具體實施方式】
[0005]本發明通過下述技術方案實現:
如圖1所示，天一格，在一個正方形內實現，一個正方形AB⑶，點63、1在麼8上，!^、J 在 CD 上，AG:GE:EI:IB=DH:HF:FJ:JC=5:3:3:5 ;點 a、b、c、d、e、f、g、h 在 GH 上，Ga:ab:be:cd:de:ef:fg:gh:hH=3:2:2:2:2:2:2:2:3 (可以通過改變a~h點的比例關係或者將這些點定位在EF或IJ上來改變下述三條橫線的角度);點K、L、M在AD上，AK:KL:LM:MD=3:2:4:1。如圖2所示，在圖1所示天一格的基礎上，連接Kb並延長到分別交EF、IJ於點b!、b2 ;延長 b1b2 至 b3,使 bb2:b2b3=4:1 ;點 b4 在 Kb 上，b4b:bb2=l:4 ;連接 Ld 並延長至 IJ,分別交EF、IJ於點Cl1, d2 ;連接Mh並延長至U,分別交EF、IJ於點V h2 ;過d2點作AB的平行線，交BC於點N，過Ii1點作AB的平行線，交BC於點O ;連接屯、f並延長至點P，:fP=2:1 ;連接MP ;連接bC，分別交EF、IJ、Ii1O於點Q、R、S，延長Mh2交^:與點T，連接OT。如圖3所示,在圖2所示天一格的基礎上,過點a作bb2的平行線,分別交EF、IJ於點apa2,同理過C、e、f、g點作bb2平行線,分別交EF、IJ於點C1' c2, e2, ?\、f2, g2 ;點U、V在線段 Ld 上，LU:UV:Vd=l:2:3 ;點 W、X 在線段 d2N 上，d2W:WX:XN=3:2:1。如圖 4 所示，在圖3所示天一格的基礎上，過點U作AD的平行線，分別交MP、Mh2,⑶於點MpM2、U1 ;過點X作BC的平行線，分別交ΤΟ、Μ、CD於點Op 02、X1 ;過點M2作CD的平行線，分別交GH、IJ、XX1於點 Y、Y1^ O3 ;點 Z 在 Eb1 上，EZ =Zb1=I:2 ;點 Z1 在 Ii1F 上，Ii1Z1 =Z1F=S:1。點 Z2 在 Ii1F 上，如圖5所示,在圖4所示天一格的基礎上,將交點apH C、C1^ c2、U、X、e、e2、f> f\、f2> g、gp g2、P、T、Z2> O3 加大顯示；去掉線段 aa2、cc2、ee2、ff2> gg2、hj、M2O3> Kb、bApLV'WN'UUpXXpMMpMMyOOpOOyGa'Ez、Ia2, bQ, TC, YH, Z1F, Y1J0 如圖 6 所示，天一格實線效果圖(為便於觀察天一格特點，圖中點、線沒有畫到最細)。如圖7所示，天一格虛線效果圖，天一格的三條線段GH、EF、IJ可作虛線(可保留線段Id1(I1),則格「天一」兩字顯出(所有線段皆可作虛線處理)。如圖8所示，四個毛筆字「中國書法」分別以顏、趙、歐、柳四體呈現，其筆畫的起止，長度、角度、比例等符合天一格的點線架構，研習者可輕鬆把握漢字的結構特點，從天一格中臨寫出該字會也變得很簡單。如圖9所示四個印刷字體:楷體、魏碑、行楷、瘦金體以空心形式呈現在天一格中，無論其是多橫的字還是多豎的字，同樣天一格能準確揭示其結字特點，易於教學。
【權利要求】
1.一種天一格，其特徵在於，一個正方形AB⑶，AB、⑶上設置三條線段GH、EF、IJ,所述GH、EF、IJ的端點將ABXD分別分成4份，其比例為AG:GE:EI:IB=DH:HF:FJ:JC約為5:3:3:5ο
2.根據權利要求1所述天一格，其特徵在於，所述GH、EF、IJ上設置三條與水平線成10-15度角向右上傾斜的橫線:上橫線、中橫線、下橫線；所述上橫線位於GH、IJ間；所述中橫線位於GH、IJ上,並向兩端延伸,一端向AD線段傾斜延伸，另一端在從位於IJ相交處向水平方向延伸；所述下橫線位於GH、IJ上，並向兩端延伸，一端向AD線段傾斜延伸，另一端在於EF相交處向水平方向延伸；上橫線、中橫線的間距與中橫線、下橫線的間距比為1:2 ；設正方形AB⑶邊長為20個單位，則在線段GH上AB到上橫線，上橫線到中橫線，中橫線到下橫線，下橫線到⑶的距離之比約為5:4:8:3 ;上橫線、中橫線、下橫線長度之比約為8:14:18。
3.根據權利要求2所述天一格，其特徵在於，所述中橫線、下橫線之間，EF與中橫線交點處分別向Z ADC，Z BCD延伸兩條線段:撇參照線、捺參照線；所述撇參照線在其接近末端處向AD轉折，撇參照線形成的角度為150-170度；所述捺參照線在其接近末端處向BC轉折，捺參照線形成的角度為130-160度；所述捺參照線在EF上的起點略低於撇參照線。
4.根據權利要求2所述天一格，其特徵在於，所述上橫線兩端的延長線上設兩點:左上橫定位點、右上橫定位點，左上橫定位點、右上橫定位點位於上橫線向左右分別延長其長度四分之一處。
5.根據權利要求2所述天一格，其特徵在於，所述中橫線兩端的延長線上設兩點:左中橫定位點、右中橫定位點，左中橫定位點、右中橫定位點之間的距離等於下橫線的長度。
6.根據權利要求2所述天一格，其特徵在於，所述下橫線右端下方設一點:右下角點，右下角點位於過下橫線左端點作DC的平行線與過右中橫定位點作BC的平行線的交點處。
7.根據權利要求1所述天一格，其特徵在於，所述線段GH、EF、IJ不接觸正方形AB⑶的邊線，設正方形ABCD邊長為20個單位，則線段GH:EF:1J約為15:18:16。
8.根據權利要求1所述天一格，其特徵在於，所述線段GH、EF、IJ的上設置多個橫線輔助點，所述橫線輔助點之間間距均勻，可適度加大顯示。
【文檔編號】G09B11/04GK104077936SQ201310101823
【公開日】2014年10月1日 申請日期:2013年3月28日 優先權日:2013年3月28日
【發明者】趙詩燾 申請人:趙詩燾