聚乙烯醇系蒸鍍膜的製作方法

2023-09-24 01:06:35

聚乙烯醇系蒸鍍膜的製作方法
【專利摘要】本發明的目的在於提供一種蒸鍍膜，所述蒸鍍膜可抑制在層壓等蒸鍍膜加工時因彎曲而導致的針孔、裂縫的產生，可抑制阻氣性的降低。本發明是一種蒸鍍膜，其具有包含聚乙烯醇系聚合物的基材膜、和被層疊在該基材膜上的金屬蒸鍍層，所述蒸鍍膜的特徵在於，上述金屬蒸鍍層的利用電子顯微鏡測得的平均粒徑為150nm以下。作為上述金屬蒸鍍層的平均厚度，優選30nm以上100nm以下。
【專利說明】
【技術領域】
[0001] 本發明涉及聚乙烯醇系蒸鍍膜。 聚乙烯醇系蒸鍍膜

【背景技術】
[0002] 以往，作為冰箱用的絕熱材料、住宅絕熱壁用的絕熱板、熱水儲存罐的絕熱材料 等，使用了利用聚氨酯泡沫的絕熱體。作為代替該利用聚氨酯泡沫的絕熱體的更優異的材 料，開始使用由即使在高溼度下也具有阻氣性的層壓（laminate)膜和芯材構成的真空絕熱 體。作為這種情況下的阻氣材料，主要使用了鋁箔，但由於鋁是熱的良導體，所以存在通過 膜中的鋁部分的熱量大，導致絕熱性能降低這樣的缺點。為了消除該缺點，代替鋁箔，而研 究了具有薄的鋁蒸鍍層的聚酯膜、乙烯一乙烯醇（vinyl alcohol)共聚物（以下，有時簡稱 為EV0H)膜，二氧化矽蒸鍍膜等高阻氣膜。
[0003] 但是，這些蒸鍍層為數十nm的薄層，所以存在因在層壓膜製作工序、真空絕熱體 製作工序中的彎曲而導致阻氣性降低的不良情況。作為解決該問題的方法，已知有通過 在阻氣性樹脂中含有填料來提高耐針孔性的技術(參見日本特開2002 - 310385號公報)。 另外，也研究了通過進行基材膜的表面處理從而穩定地呈現阻隔性的技術(參見日本特開 2005 - 290108 號公報）。
[0004] 現有技術文獻 專利文獻 專利文獻1 :日本特開2002 - 310385號公報 專利文獻2 :日本特開2005 - 290108號公報。


【發明內容】

[0005] 發明所要解決的課題 然而，即使使用上述技術，也會由於彎曲而在蒸鍍層上產生針孔、裂縫（crack)，導致阻 氣性降低，因此，一直期待層壓（lamination)等加工時的蒸鍍層的耐彎曲性的提高。
[0006] 本發明的目的在於提供一種蒸鍍膜，所述蒸鍍膜可抑制在層壓等蒸鍍膜加工時產 生針孔、裂縫，可抑制阻氣性降低。
[0007] 用於解決課題的手段 本發明是一種蒸鍍膜，具有： 包含聚乙烯醇系聚合物的基材膜，和 被層疊在該基材膜上的金屬蒸鍍層， 其特徵在於， 上述金屬蒸鍍層的利用電子顯微鏡測得的平均粒徑為150nm以下。
[0008] 作為上述金屬蒸鍍層的平均厚度，優選為30nm以上100nm以下，上述基材膜優選 進一步包含無機氧化物，可以進一步具有被層疊在上述金屬蒸鍍層上的包含聚乙烯醇系聚 合物的樹脂塗層，可以進一步具有包含聚乙烯醇系聚合物以外的熱塑性樹脂的層。
[0009]另外，本發明還包括具有該蒸鍍膜的包裝材料、及具有該蒸鍍膜的真空絕熱體。 [0010] 進而，本發明還包括：該蒸鍍膜的製造方法，其特徵在於，蒸鍍前的基材膜中含有 的揮發成分的含量為1. 1質量％以下；蒸鍍時的基材膜的表面溫度為60°C以下；對蒸鍍前 的基材膜的表面進行等離子體處理。
[0011] 發明效果 本發明的蒸鍍膜可抑制在層壓等蒸鍍膜加工時產生針孔、裂縫，可抑制阻氣性降低。因 此，該蒸鍍膜可優選作為包裝材料、真空絕熱體的材料使用。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0012] [圖1]為實施例2的蒸鍍膜的掃描型電子顯微鏡照片。圖的橫向寬度(橫幅）相 當於 1. 94 μ m。

【具體實施方式】 _3][蒸鍍膜] 本發明的蒸鍍膜具有： 包含聚乙烯醇系聚合物的基材膜，和 被層疊在該基材膜上的金屬蒸鍍層， 其特徵在於，上述金屬蒸鍍層的利用電子顯微鏡測得的平均粒徑為150nm以下。
[0014] 以下，依次說明基材膜、金屬蒸鍍層。
[0015] 上述基材膜中含有的聚乙烯醇系聚合物是使用鹼性催化劑等將乙烯基酯均聚物、或包 含40摩爾％以上的乙烯基酯的與其他單體的共聚物皂化而得到的。作為上述乙烯基酯，可 舉出乙酸乙烯酯為代表，但其他的脂肪酸乙烯基酯(丙酸乙烯酯、特戊酸乙烯酯等）也可使 用。另外，對於上述聚乙烯醇系聚合物而言，只要在不妨礙本發明的效果的範圍內，也可以 是共聚其他單體例如乙烯；丙烯、丁烯、異丁烯、4 一甲基一 1 一戊烯、1 一己烯、1 一辛烯等 α -烯烴；（甲基）丙烯酸等不飽和羧酸或其酯；乙烯基三甲氧基矽烷等乙烯基矽烷系化合 物；不飽和磺酸或其鹽；Ν-乙烯基吡咯烷酮等乙烯基吡咯烷酮化合物等中的1種或多種而 成的共聚物。其中，作為共聚的單體，從得到的聚乙烯醇系聚合物的熔融成型變得容易的觀 點考慮，優選乙烯。上述其他單體為乙烯的情況下，作為乙烯單元相對於構成上述聚乙烯醇 系聚合物的全部單元的含量，為3摩爾％?60摩爾％，優選為10摩爾％?60摩爾％，更優 選為20摩爾％?55摩爾％。
[0016] 上述基材膜中含有的聚乙烯醇系聚合物的製造可利用公知的方法進行。製造時也 可使用鏈轉移劑，作為鏈轉移劑，可舉出例如烷基硫醇類等。
[0017] 另外，作為上述聚乙烯醇系聚合物的皂化度（乙烯醇單元相對於乙烯醇單元和乙 烯基酯單元的總和的比例(摩爾％))，優選為90摩爾％以上，更優選為95摩爾％以上，進一 步優選為99摩爾％以上。皂化度小於90摩爾％時，該蒸鍍膜在高溼度下的阻氣性有可能 降低。當聚乙烯醇系聚合物包含皂化度不同的2種以上的聚乙烯醇系聚合物時，將由各聚 乙烯醇系聚合物的含有質量比算出的平均值作為皂化度。上述聚乙烯醇系聚合物的皂化度 可利用核磁共振（NMR)法求出。
[0018] 作為上述基材膜的在20°C- 65%RH的條件下測得的透氧係數，優選為50mL · 20 μ m/m2 天 atm以下，更優選為10mL 20 μ m/m2 天 atm以下，進一步優選為5mL · 20 μ m/m2 天 atm以下，特別優選為lmL 20 μ m/m2 天 atm以下。若透氧係數為上述 上限以下，則在製成真空絕熱體時，可使阻隔膜的厚度變薄，也可降低成本。
[0019] 此處，"20°C - 65%RH" 表示在 20°C下，相對溼度為 65%，"50mL 20 μ m/m2 天· atm"表示，在將膜厚換算為20 μ m時，在膜為lm2、氧氣為1大氣壓的圧力差的條件下，每1 天透過50mL的氧。
[0020] 作為上述基材膜的平均厚度，沒有特別限制，但優選為30μπι以下，更優選為 25 μ m以下，進一步優選為20 μ m以下。另外，作為上述平均厚度，優選為5 μ m以上，更優選 為7 μ m以上，進一步優選為10 μ m以上。
[0021] 作為上述基材膜的製造方法，沒有特別限制，例如可舉出鑄塑法，可以是無拉伸及 拉伸中的任一種。作為膜的拉伸方法，可以是雙軸拉伸、單軸拉伸及吹脹（inflation)中的 任一種。
[0022] 作為進行拉伸的方法，沒有特別限制，可以是同時拉伸、依次拉伸中的任一種。作 為拉伸倍率，以面積倍率計，優選為12倍以下，更優選為11倍以下。另外，作為拉伸倍率， 以面積倍率計，優選為8倍以上，更優選為9倍以上。從得到的膜的厚度的均勻性、阻氣性 及機械強度的觀點考慮，優選使面積倍率為8?12倍。若面積倍率小於8倍，則有時變得 容易殘留拉伸不均，另外，若大於12倍，則有時變得在拉伸時易於發生膜的斷裂。
[0023] 另外，通過預先使拉伸前的整卷膜(原反)含水，從而連續拉伸變得容易。作為拉伸 前整卷膜的水分率，優選為2質量％以上，更優選為5質量％以上，進一步優選為10質量％ 以上。作為拉伸前整卷膜的水分率，優選為30質量％以下，更優選為25質量％以下，進一 步優選為20質量％以下。水分率小於2質量％時，容易殘留拉伸不均，另外，尤其是利用拉 幅機進行拉伸的情況，接近於夾具（grip)的部分的拉伸倍率變高，因此，有時變得容易在夾 具附近發生破裂。另一方面，水分率大於30質量％時，被拉伸的部分的彈性模量低，與未拉 伸部分之差不足，有時變得容易殘留拉伸不均。
[0024] 作為拉伸溫度，隨著拉伸前的整卷膜的水分率的多少的不同而不同，但通常可使 用50°C?130°C的範圍。尤其是在同時雙軸拉伸的情況下，在70°C?100°C的範圍時，容易 得到厚度不均少的雙軸拉伸膜，在依次雙軸拉伸的情況下，輥的長度方向的拉伸為70°C? 100°C，拉幅機的寬度方向的拉伸在80°C?120°C的溫度範圍內時，容易得到厚度不均少的 雙軸拉伸膜。
[0025] 上述聚乙烯醇系聚合物也可以含有無機氧化物。作為該無機氧化物，沒有特別限 制，可使用氧化矽、氧化鋁、氧化鎂、氧化鋯、氧化鈰、氧化鎢、氧化鑰及它們的複合物等。這 些無機氧化物中，優選氧化矽、氧化矽一氧化鎂，更優選氧化矽。
[0026] 作為上述無機氧化物的含量，相對於聚乙烯醇系聚合物100質量％，優選為0. 001 質量％以上，更優選為0. 005質量％以上，進一步優選為0. 01質量％以上。另外，作為無機 氧化物的含量，優選為1質量％以下，更優選為0. 75質量％以下，進一步優選為0. 5質量％ 以下。無機氧化物的含量大於1質量％時，有時變得容易產生凝膠、白點（fish eye)等，由 於蒸鍍缺漏等而導致阻氣性降低。
[0027] 作為利用雷射衍射散射法測定的上述無機氧化物的平均粒徑，優選為2 μ m以上， 更優選為2. 5μηι以上。另外，作為氧化物的平均粒徑,優選為ΙΟμπι以下，更優選為5μηι 以下，進一步優選為3. 5 μ m以下。若無機氧化物的平均粒徑大於10 μ m，則變得容易產生凝 膠、白點等。另外，若小於2μπι，則有時阻氣性降低。作為無機氧化物的添加方法，沒有特別 限制，例如，可舉出在製造聚乙烯醇系聚合物時，以水分散液的形式添加，然後在凝固浴中 使其析出並乾燥的方法；利用擠出機等進行熔融混煉的方法；進行幹混的方法；混合母料 (master batch)的方法等。
[0028] 另外，在不妨礙本發明的目的的範圍內，也可在上述聚乙烯醇系聚合物中共混抗 氧化劑、增塑劑、熱穩定劑、紫外線吸收劑、防靜電劑、著色劑、填料等。
[0029] 本發明的金屬蒸鍍膜具有被層疊在包含聚乙烯醇系聚合物的基材膜上的金屬蒸鍍層。 作為蒸鍍的金屬，鋁由於具有質輕、富於柔軟性及光澤性這樣的優點，因而優選。作為該金 屬蒸鍍層的平均粒徑，為150nm以下，優選為125nm以下，更優選為100nm以下，進一步優選 為75nm以下。特別優選為50nm以下。另外，作為上述金屬蒸鍍層的平均粒徑，對於下限沒 有特別限制，但優選為l〇nm以上，更優選為15nm以上，進一步優選為20nm以上。該金屬 蒸鍍層的粒徑是利用掃描型電子顯微鏡等電子顯微鏡測定的，當上述金屬蒸鍍層由金屬粒 子形成時，是指該金屬粒子的粒徑；當由金屬粒塊形成時，是指形成該粒塊的金屬粒子的粒 徑。另外，金屬蒸鍍層的平均粒徑是指，將利用電子顯微鏡觀察的、金屬粒子等在同一方向 上分別的最大長度進行個數平均而得的值。
[0030] 作為上述金屬蒸鍍層的平均厚度，優選為lOOnm以下，更優選為90nm以下，進一 步優選為80nm以下。另外，作為上述金屬蒸鍍層的平均厚度，優選為15nm以上，更優選為 20nm以上，進一步優選為30nm以上。若平均厚度大於lOOnm，則變得容易在真空絕熱體中 產生熱橋（heat bridge),絕熱效果可能降低。若平均厚度小於15nm，則阻氣性可能變得不 充分。需要說明的是，上述金屬蒸鍍層的平均厚度是指，利用電子顯微鏡測定的金屬蒸鍍層 截面的任意10點的厚度的平均值。
[0031] 作為使上述金屬蒸鍍層的平均粒徑為150nm以下的方法，可使用如下方法：在蒸 鍍膜的製造中，使蒸鍍前的基材膜含有的揮發成分的含量為1. 1質量％以下；使蒸鍍時的基 材膜的表面溫度為60°c以下；對蒸鍍前的基材膜的表面進行等離子體處理來將其改性等。
[0032] 作為上述蒸鍍前的基材膜中含有的揮發成分的含量，優選為1. 1質量％以下，更優 選為〇. 5質量％以下，進一步優選為0. 3質量％以下。另外，作為上述揮發成分的含量，對 於下限沒有特別限制，但優選為〇. 01質量％以上，更優選為〇. 03質量％以上，進一步優選 為0. 05質量％以上。此處，揮發成分的含量由105°C下的乾燥前後的質量變化利用下式求 出。
[0033] 揮發成分的含量(質量％)=[(乾燥前質量一乾燥後質量）/乾燥後質量]X 100。
[0034] 作為進行金屬蒸鍍時的基材膜的表面溫度，優選為60°C以下，更優選為55°C以 下，進一步優選為50°C以下。另外，作為蒸鍍時的基材膜的表面溫度，對於下限沒有特別限 制，但優選為〇°C以上，更優選為10°C以上，進一步優選為20°C以上。
[0035] 作為對蒸鍍前的基材膜的表面進行等離子體處理的方法，可使用公知的方法，但 其中優選大氣壓等離子體處理。在大氣壓等離子體處理中，作為放電氣體，可使用氮氣、氦、 氖、氬、氪、氙、氡等。其中，優選使用氮、氦、氬，由於氮可降低成本，所以特別優選使用氮。
[0036] 本發明的蒸鍍膜可以進一步具有被層疊在上述金屬蒸鍍層上的包含聚乙烯醇系 聚合物的樹脂塗層。通過進一步具有樹脂塗層，能進一步抑制可能在該蒸鍍膜製造中發生 的、因後工序的層壓等膜加工中的彎曲而導致的阻氣性的降低。作為樹脂塗層的材料，優選 為水溶性或水分散性聚合物，即，能在常溫下完全溶解或微分散在以水為主成分的溶劑中 的高分子。作為這樣的聚合物，沒有特別限制，但可舉出作為可用於基材膜的聚乙烯醇系聚 合物而例舉的聚合物中的、具有水溶性或水分散性等的聚合物。
[0037] 還可以在上述樹脂塗層中分散溶脹性無機層狀矽酸鹽。作為上述溶脹性無機層狀 矽酸鹽的相對於樹脂塗層中的聚乙烯醇系聚合物的含量，沒有特別限制，但以固態成分換 算，優選為〇. 5質量％?55質量％。若大於55質量％，則樹脂塗層的柔軟性降低，變得容易 產生裂縫等缺點。作為溶脹性無機層狀矽酸鹽的含量，更優選為1質量％?40質量％，進一 步優選為3質量％?30質量％，特別優選為5質量％?20質量％。
[0038] 作為將上述樹脂塗層層疊在上述金屬蒸鍍層上的方法，沒有特別限制，但優選如 下方法：在金屬蒸鍍層上，將樹脂組合物的塗布液塗布到基材膜側的表面上，進行乾燥及熱 處理，來進行塗覆的方法；將樹脂塗層層壓到金屬蒸鍍層側的方法。另外，對於金屬蒸鍍層 與樹脂塗層的界面，還可以進行電暈處理、基於錨塗劑等的處理等。作為進行上述塗覆的方 法，可舉出直接凹版法或反向凹版法、微型凹版法、雙輥打擊塗布法（2本n - > if-卜= 一卜法)、底部進料3輥逆式塗布法（水卜A 7 〃一卜'' 3本U八一 7 ^ -卜法）等輥塗覆法； 刮刀法、模塗法、浸塗法、棒塗法及將它們組合的塗覆法等。作為樹脂塗層的平均厚度，沒有 特別限制，但優選為10 μ m以下，更優選為2 μ m以下。作為樹脂塗層的平均厚度，對於下限 沒有特別限制，但為了得到有效的阻氣性，優選為〇. 〇〇1 μ m以上。
[0039] 本發明的蒸鍍膜還可以進一步具有包含聚乙烯醇系聚合物以外的熱塑性樹脂的 層。作為上述熱塑性樹脂，可舉出聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴，聚對苯二甲酸乙二醇酯等聚酯 等，也可以對它們進行拉伸。由上述熱塑性樹脂形成的層可以形成在該蒸鍍膜的基材膜、金 屬蒸鍍層及樹脂塗層中的任一者上，可以經由粘接層粘接在這些層上。
[0040] 如上所述，該蒸鍍膜可抑制在蒸鍍加工時產生針孔、裂縫，可抑制阻氣性的降低， 絕熱性及阻氣性均優異，因此，可優選作為包裝材料、真空絕熱體的材料使用。 實施例
[0041] 以下，基於實施例更具體地說明本發明，但本發明不限於這些實施例。
[0042][蒸鍍膜的製造] 相對於株式會社kuraray制乙烯一乙烯醇共聚物F101A (乙烯含量為32摩爾％，阜化 度為99. 9%) 100質量份，使用滾筒（tumbler)，以0. 03質量份的量，幹混作為無機氧化物的 Fuji Silysia Chemical, Ltd.制合成二氧化矽（"SYLYSIA"310P，利用雷射法測得的平均 粒徑為2. 7μπι)，然後，在240°C下熔融，從模頭擠出到鑄塑輥（casting roll)上，同時使用 氣刀，以30m/秒的風速吹空氣，得到厚170 μ m的未拉伸膜。使該膜接觸80°C的溫水10秒， 利用拉幅機式同時雙軸拉伸設備，在90°C下沿縱向拉伸3. 2倍，沿橫向拉伸3. 0倍，進而在 設定為170°C的拉幅機內進行5秒熱處理，得到厚12 μ m、總寬度3. 6m的拉伸熱處理膜。一 邊卷回該膜，一邊以膜總寬度的中央位置為中心切割成80cm的寬度，得到4,000m長的卷。
[0043] 從上述卷的總寬度80cm的中央部，切出揮發成分測定用的小片，使用熱風乾燥 機，在105°C下乾燥3小時，由乾燥前後的質量利用下式求出揮發成分的含量。
[0044] 揮發成分的含量(質量％)=[(乾燥前質量一乾燥後質量）/乾燥後質量]X 100。
[0045] 實施例1的蒸鍍前的基材膜中含有的揮發成分的含量為0. 15質量％。對於製造的 雙軸拉伸膜，為了防止吸溼，在制膜後迅速用鋁箔層壓膜而包裝。
[0046] 將上述膜作為基材膜，使用日本真空技術公司制分批式蒸鍍設備EWA - 105,在基 材膜的表面溫度為38°C、膜行進速度為200m/分鐘的條件下，在膜單側蒸鍍鋁，得到了蒸鍍 膜。蒸鍍的鋁的厚度(金屬蒸鍍層的平均厚度）為70nm。
[0047] 使用SEM (掃描型電子顯微鏡)，從鋁蒸鍍層的表面側直接觀察，來確定鋁蒸鍍層的 平均粒徑。需要說明的是，此處所謂平均粒徑，是圖1所示的SEM照片(倍率為60,000倍， 測定下限值為l〇nm)中的η = 100的平均值。SEM觀察中，使用SII NanoTechnology Inc. 制ZEISS ULTRA 55進行測定。作為檢測器，使用了反射電子檢測器。實施例1中的鋁蒸 鍍層的平均粒徑為35nm。
[0048] 作為樹脂塗層，將作為通過聚乙烯一乙酸乙烯酯聚合物的皂化而得到的聚乙烯一 乙烯醇共聚物的株式會社kuraray制"EXCEVAL" RS - 3110 (乙烯含量為6摩爾％，皂化 度為98%以上）33. 75g加入到離子交換水326. 5g中，一邊加熱到90°C -邊進行1小時攪 拌，得到了水溶液。將該水溶液冷卻至室溫，然後為了提高溶液的穩定性，添加50質量％的 異丙醇水溶液64. 75g。進而，向該溶液中添加Τ0ΡΥ INDUSTRIES, UMITED制NHT-溶膠 B2 (合成鋰蒙脫石的水分散液，固態成分濃度為5質量％，平均粒徑為3. 8 μ m，標準偏差為 2. 2 μ m) 76g，得到了包含溶脹性無機層狀矽酸鹽的500g的樹脂組合物。液體中的固態成 分濃度為7. 5質量％，固態成分中的溶脹性無機層狀矽酸鹽的含量為10質量％。將該樹脂 組合物塗布到上述得到的蒸鍍膜的鋁蒸鍍層側，用熱風乾燥機在l〇〇°C下進行20秒乾燥。 乾燥後的樹脂塗層（由上述乙烯一乙烯醇共聚物和溶脹性無機層狀矽酸鹽的組合物形成的 層）的平均厚度為1.5 μ m。
[0049] 使用上述得到的具有樹脂塗層的蒸鍍膜(塗膜)，進行氧透過度（0TR)的評價。OTR 如下測定，切取試樣膜的一部分，使用M0C0N INC.制氧透過率測定裝置0X - TRAN2/20型 (檢測極限值〇. OlmL/m2 ·天· atm)，在塗膜的樹脂塗層側的溼度為90%RH、基材膜側的溼度 為〇%RH、溫度為40°C的條件下，按照JIS K7126(等壓法）中記載的方法進行測定。實施 例1的塗膜的氧透過度為0. 08mL/m2 ·天· atm。此處，氧透過度表示相對於透過試樣膜的 氧的單位面積（m2)、單位時間(天）及試樣膜兩面間的單位壓力差（atm)的體積。
[0050] 在上述塗膜上，使用粘接劑利用乾式層壓層疊厚50μπι的無拉伸聚丙烯膜 (Mitsui Chemicals Tohcello Inc.制，RXC - 21)、和厚 15μηι 的聚酯拉伸膜（Toray Industries，Inc.制"LUMIRR0R"P60)，得到了多層膜。以該多層膜的層結構為聚酯拉伸 膜/塗膜/無拉伸聚丙烯膜，上述塗膜的樹脂塗層側成為聚酯拉伸膜側的方式進行了層疊。 作為粘接劑，使用三井化學株式會社"Takelac"A - 385/ "Takenate"A - 50,使塗布量為 固態成分為4g/m2,在50°C乾燥5秒。另外，在乾燥後進一步在40°C下老化3天。
[0051] 使用上述多層膜，進行了氧透過度的評價。氧透過度為0.09mL/m2·天_atm。艮口， 由層壓加工導致的氧透過度的上升為0. OlmL/m2 ·天· atm。
[0052] 使用實施例1中得到的形成樹脂塗層前的蒸鍍膜，在實施例1中記載的層結構與條件 下進行層壓，得到了多層膜。在與實施例1同樣的條件下，進行了氧透過度的測定，結果， 蒸鍍膜的氧透過度(層壓前OTR)為0. 07mL/m2 ·天· atm，多層膜（層壓後OTR)的氧透過度 為0. llmL/m2 ·天· atm。即，由層壓加工導致的氧透過度的上升為0. 04mL/m2 ·天· atm。
[0053] 將實施例1中蒸鍍時的基材膜的表面溫度分別改變為43°C (實施例3)、48°C (實施例 4)、53°C (實施例5)，未形成樹脂塗層，除此之外，與實施例1同樣地操作，得到了蒸鍍膜及 多層膜，進行了上述得到的蒸鍍膜和多層膜的評價。將結果示於表1。在所有的實施例的所 有評價項目中均確認了良好的性能。
[0054] 使實施例5中蒸鍍前的基材膜中含有的揮發成分的含量為0. 45質量％ (實施例6)、 0. 70質量％ (實施例7)、0. 95質量％ (實施例8)，除此之外，與實施例5同樣地操作，得到了 蒸鍍膜及多層膜，進行了上述得到的蒸鍍膜和多層膜的評價。將結果示於表1。在所有的實 施例的所有評價項目中均確認了良好的性能。
[0055] 使實施例1中蒸鍍前的基材膜中含有的揮發成分的含量為1. 05質量％，使蒸鍍時的基 材膜的表面溫度為38°C，未形成樹脂塗層，除此之外，與實施例1同樣地操作，得到了蒸鍍 膜及多層膜，進行了上述得到的蒸鍍膜和多層膜的評價。將結果示於表1。在所有評價項目 中均確認了良好的性能。
[0056] 使實施例1中蒸鍍的鋁的厚度(金屬蒸鍍層的平均厚度)為95nm(實施例10)、50nm (實 施例ll)、25nm (實施例12)，未形成樹脂塗層，除此之外，與實施例1同樣地操作，得到了蒸 鍍膜及多層膜，進行了上述得到的蒸鍍膜和多層膜的評價。將結果示於表1。在所有的實施 例的所有評價項目中均確認了良好的性能。
[0057] 對於實施例9中蒸鍍前的基材膜，使用氦作為放電氣體，在輸出功率為700W、放電量為 212W _ min/m2、線速度（line speed)為100m/min的條件下進行等離子體處理，而且使蒸鍍 時的基材膜的表面溫度為53°C，除此之外，與實施例9同樣地操作，得到了蒸鍍膜及多層 膜，進行了上述得到的蒸鍍膜和多層膜的評價。將結果示於表1。在所有評價項目中均確認 了良好的性能。
[0058] 在實施例13中，在基材膜的製造中，在將EVOH熔融之前，不添加合成二氧化矽，使蒸鍍 時的基材膜的表面溫度為38°C，除此之外，與實施例13同樣地操作，得到了蒸鍍膜及多層 膜，進行了上述得到的蒸鍍膜和多層膜的評價。將結果示於表1。在所有評價項目中均確認 了良好的性能。
[0059] 在實施例1中，在基材膜的製造中，在將EVOH熔融之前，不添加合成二氧化矽，使蒸鍍 前的基材膜中含有的揮發成分的含量為1. 15質量％，未形成樹脂塗層，除此之外，與實施例 1同樣地操作，得到了蒸鍍膜及多層膜，進行了上述得到的蒸鍍膜和多層膜的評價。得到的 蒸鍍膜的金屬蒸鍍層的平均粒徑為155nm，蒸鍍膜的氧透過度為(λ 16mL/m2 ·天· atm,多層 膜的氧透過度為0. 28mL/m2 ·天· atm，可見阻氣性的惡化，性能不足。
[0060] 在實施例1中，在基材膜的製造中，在將EV0H熔融之前，不添加合成二氧化矽，使蒸鍍 前的基材膜中含有的揮發成分的含量為〇. 15質量％，未形成樹脂塗層，除此之外，與實施例 1同樣地操作，得到了蒸鍍膜及多層膜，進行了上述得到的蒸鍍膜和多層膜的評價，可見阻 氣性的惡化，性能不足。
[0061] 在實施例2中，使蒸鍍時的基材膜的表面溫度為62°C，除此之外，與實施例2同樣地操 作，得到了蒸鍍膜及多層膜，進行了上述得到的蒸鍍膜和多層膜的評價，但層壓前後的阻氣 性的惡化（0TR惡化）大，性能不足。
[0062] 在實施例13中，使蒸鍍時的基材膜的表面溫度為62°C，使蒸鍍前的基材膜中含有的揮 發成分的含量為〇. 15質量％，除此之外，與實施例13同樣地操作，得到了蒸鍍膜及多層膜， 進行了上述得到的蒸鍍膜和多層膜的評價，但層壓前後的阻氣性的惡化（0TR惡化)大，性能 不足。
[0063] 在表1中，"無機氧化物"、"等離子體處理"及"樹脂塗層"欄的"〇"表示使用、進 行或形成了它們，" X "表示未使用、未進行或未形成它們。使用"無機氧化物"是與實施例 1中使用的相同的"合成二氧化矽"。
[0064] [表 1] 均方。 平一化 的另惡_____^--^1-^-!^__________ m 。性_^.0 3.0 「$0. H g. X Gk-1丨丨「TlsiuIiolii-nltlmj麵輒朽V5..... g￡6 85 "" .isil~-i· βIxI^........ s sl.oιο?rlFIii.:jl-:l辦辦,p:.0__^__^__^__^__^__^__^__~~~^~~. ^FI引M7f 纖Π?1S.0 s ISi[gx X ........151==:==iilsii工.............iii............sj1叫151-I- g- 1 X j ' :,iLIlli::1:g-。_...............................is 觸叫Mr靈 I sro ggt__^__m :1151..............................................................ilsl-ιοι?-丨卜屬筍膜$r在......................................Ill_i,.i ?5 .................................................ii1~ iu 丨 ο? XI1K1丨…；：5............. i I:纖抑|so__^__101 ti. 505s X Xssioc-,,ls!.、.關,ητιδοs-0____80,0 嘁X__s ￡0 o rl#*:>.例JB於i__^__^__^__￡i * y ^~~J ~?Fil 5 ...'Mo...嫌xlr狄510__^__iigIg__^__p.__IssiooMlf^'xv.)加 lieiii iii se :i 5 Τ' ?~· iSIi ^-1-114-- 標壓辦ii-c->il?lilcllf g,￥ .t--lti/ii~ le· y gc - ----!1......x\o ~...........^ ...........X.\Q ili 野￡MWl-J ysij結 ，跡性 '1.'s:-￡/ I 1 vnriElc:的下麵用 S.S i.Jfl,5ali,7lifi fM3 stsyili iti 『1?--aIili.*?S4 1以_ 適?.3 I fIF il s 表爪蒸^111· _on的EMJ-ΓΠΠΠΠΠΠΠΠΠΕΠΠΠΠΠΠΠΠΠΠΠΠΠΠΠΠΠ8-….-ir J -----------J,......................H-一· ·卜........................』.......... 一 $ 5 列：Μ轍6510 比661 o W- ， ο [0粒面[0 通過本發明的蒸鍍膜，可抑制在層壓等蒸鍍膜加工時產生針孔、裂縫，可抑制阻氣性的 降低。因此，該蒸鍍膜可優選作為包裝材料、真空絕熱體的材料使用。
【權利要求】
1. 蒸鍍膜，具有： 包含聚乙烯醇系聚合物的基材膜，和 被層疊在該基材膜上的金屬蒸鍍層， 其特徵在於， 所述金屬蒸鍍層的利用電子顯微鏡測得的平均粒徑為150nm以下。
2. 根據權利要求1所述的蒸鍍膜，其中，所述金屬蒸鍍層的平均厚度為30nm以上 lOOnm以下。
3. 根據權利要求1所述的蒸鍍膜，其中，所述基材膜進一步包含無機氧化物。
4. 根據權利要求1所述的蒸鍍膜，其中，進一步具有被層疊在所述金屬蒸鍍層上的包 含聚乙烯醇系聚合物的樹脂塗層。
5. 根據權利要求1所述的蒸鍍膜，其中，進一步具有包含聚乙烯醇系聚合物以外的熱 塑性樹脂的層。
6. 包裝材料，具有權利要求1所述的蒸鍍膜。
7. 真空絕熱體，具有權利要求1所述的蒸鍍膜。
8. 蒸鍍膜的製造方法，其是權利要求1所述的蒸鍍膜的製造方法，其特徵在於， 蒸鍍前的基材膜中含有的揮發成分的含量為1. 1質量％以下。
9. 蒸鍍膜的製造方法，其是權利要求1所述的蒸鍍膜的製造方法，其特徵在於， 蒸鍍時的基材膜的表面溫度為60°C以下。
10. 蒸鍍膜的製造方法，其是權利要求1所述的蒸鍍膜的製造方法，其特徵在於， 對蒸鍍前的基材膜的表面進行等離子體處理。
【文檔編號】B32B27/30GK104114367SQ201380009839
【公開日】2014年10月22日 申請日期:2013年2月20日 優先權日:2012年2月20日
【發明者】野中康弘, 河合宏, 山越聰 申請人:株式會社可樂麗