一種高防汙瓷磚及其製造方法

2023-09-24 02:12:20

專利名稱：：一種高防汙瓷磚及其製造方法
技術領域：
：本發明涉及一種建築裝飾材料及其製造方法，特別涉及一種高防汙瓷磚及其製造方法。
背景技術：
：隨著社會的發展，生活水平的提高，人們對物質的追求也越來越趨向高檔化、精緻化。放眼當今的裝潢市場，特別是主要用於裝修地面的地磚市場，拋光磚倍受青睞，但目前市場上的拋光磚產品多數存在著容易吸汙、防汙性能差的弱點，嚴重影響裝修的使用效果，所以市場對各企業的產品提出了更高的要求。促使企業急需解決拋光磚的防汙問題，市場需要抗折強度高、吸水率低、熱穩定性好、顯微結構緻密、防汙性能好的產品。眾所周知，影響拋光磚防汙性能的原因很多，其中最主要的原因有兩個，其一是產品的開口和閉口氣孔的數量、大小以及氣孔的連接狀況；其二是拋光過程中的微裂紋的擴展與增加。針對上述兩種原因，從設備選用到原料選用及工藝設計，提高拋光磚防汙性能就是最重要的一項硬指標。
發明內容本發明的目的在於克服現有技術的缺陷，提供一種抗折強度高、吸水率低、熱穩定性好、顯微結構緻密、防汙性能好的高防汙瓷磚。本發明的目的是通過以下技術方案實現的一種高防汙瓷磚，所述高防汙瓷磚主要原料各組分的重量百分比為SiCh2575%，AL2Cb1523%，IGO+Na20316%，Fe2O3+TiO20.51.5%，MgO530%，CaO010%。一種高防汙瓷磚的製造方法，所述製造方法工藝流程如下選礦—進料一均化倉一使用倉一檢驗一配料一球磨一過篩除鐵一漿料陳腐均化一噴霧乾燥一進倉陳腐一衝壓成型一乾燥一印花一燒成一拋光一檢驗一包裝一進倉一發貨。所述球磨釉漿細度重量百分比為320目0.8~1.2%;325目0.150.55%。所述漿料過篩第一道放漿時過10目；第二道中轉時過70目；第三道噴粉前過90100目雙層。所述成型壓力400kgf/cm2。所述球磨漿細度重量百分比為250目1.2~1.5%，球磨時間9小時。所述球磨漿細度重量百分比為250目1.01.2%，球磨時間10.5小時。所述球磨槳細度重量百分比為250目0.81.0%，球磨時間12小時。所述球磨漿細度重量百分比為250目0.6~0.8%，球磨時間13小時。所述球磨釉漿比重為1.81.9g/cm3。所述燒成溫度為10501225°C。所述燒成周期為8090分鐘。本發明採用上述技術方案後可達到如下有益效果..1、適用範圍廣。本發明可適用於內外牆、地面裝飾及任何有需要的環境。2、緻密度高。本發明為了提高磚坯緻密度，採用細粒子(30目98%)，高壓力(420kgf/cm2)，慢衝壓制度(5.5次/分)，等靜壓成型，在模具的上膜芯內充入一定壓力的液壓油，利用靜止流體能夠全方位等壓傳遞的原理，壓制時粉料的反作用力作用在上膜芯的彈性膠面上。如果膜腔上布料密度不均勻，彈性膠面就產生不同程度的凹凸變形，使各部位粉料所受壓力達到均勻，從而得到強度一致和緻密度高的坯體，本發明採用壓機均為5000噸以上進口壓機，成形壓力以漸增的方式緩慢施加，使得生坯達到足夠的抗折強度和緻密度。3、產品性能好。本發明的性能參數優於現有技術，其吸水率《0.030.05%，抗壓能力》45MPa。4、工藝流程合理。本發明中為了更有利於坯體中的氣體排出和玻璃體的填孔作用，在燒成時嚴格控制燒成制度和升溫曲線，燒成周期控制在8090分鐘內，並且適當延長10501150口間的溫度區，目的是降低氣孔率，提高緻密度。冷卻溫度對產品的防汙性能也有較大的影響，因為冷卻時石英的晶型轉變會產生較大的應力而導致微裂紋的出現和擴展。採用了較合理的冷卻制度促進微晶粒的生成，確保產品的防汙性能。5、降低了成本。本發明較國外進口產品，性能參數相同，但其成本卻可降低50%左右，使成本大輻度降低，增強了產品的市場競爭力。6、抗汙效果好。本發明中漿料在加工過程中，除了出磨細度對產品的防汙性能影響較大外，漿料的過篩和除鐵也不能忽視。過篩的主要作用是將漿料中較粗的顆粒雜質除去，同時可除去部份的有機質，如纖維等；除鐵的作用是清除漿料中的鐵質等，減少上述物質在燒成反應中，由於燒失，揮發，分解留下較多細孔，經過嚴格的過篩和除鐵後的漿料在燒成時更有利於提高緻密燒結度和減少氣孔，提高產品的防汙性能。本發明漿料過篩和除鐵採用8000高斯的磁棒達8000根，極大地保證了漿料的純淨度。具體實施例方式下面結合具體實施例對本發明作進一步詳細說明(坯體單位為重量百分比).-表tableseeoriginaldocumentpage8所述高防汙瓷磚製造方法工藝流程如下選礦一進料一均化倉一使用倉一檢驗一按前述實施例配比配料一球磨一過篩除鐵一漿料陳腐均化一噴霧乾燥一進倉陳腐一衝壓成型一乾燥一印花一燒成一拋光一檢驗一包裝一進倉一發貨。本發明中壓機採用5000噸以上的進口壓機，能大大提高坯體的緻密度；球磨機採用36噸，並選用高鋁內襯和高鋁質球石，為保證坯體純度提供了良好的基礎；窯爐使用200m長的窯爐，為保證燒成制度的落實對延長燒成時間，提高玻化程度提供了保障;拋光磨頭細度達1800目，採用國內最高配置的拋光機械，擁有40組磨頭，減少壓力，最大程度地阻止了微裂紋的擴展，從而最大限度地提高了瓷磚的防汙能力。本發明中瓷磚的其他工藝流程可採用現有技術。權利要求1、一種高防汙瓷磚，其特徵在於所述瓷磚主要原料各組分的重量百分比為SiO225～75％，AL2O315～23％，K2O+Na2O3～16％，Fe2O3+TiO20.5～1.5％，MgO5～30％，CaO0～10％。2、一種高防汙瓷磚的製造方法，其特徵在於所述製造方法工藝流程如下選礦一進料一均化倉一使用倉一檢驗一按前述實施例配比配料一球磨一過篩除鐵一漿料陳腐均化一噴霧乾燥一進倉陳腐一衝壓成型一乾燥一印花一燒成一拋光一檢驗一包裝一進倉一發貨。3、根據權利要求2所述的一種高防汙瓷磚的製造方法，其特徵在於所述球磨釉漿細度重量百分比為320目0.81.2%，325目0.150.55%。4、根據權利要求2所述的一種高防汙瓷磚的製造方法，其特徵在於所述漿料過篩第一道放漿時過10目；第二道中轉時過70目；第三道噴粉前過90100目雙層。5、根據權利要求2所述的一種高防汙瓷磚的製造方法，其特徵在於所述球磨槳細度重量百分比為250目1.21.5%，球磨時間9小時。6、根據權利要求2所述的一種高防汙瓷磚的製造方法，其特徵在於:所述球磨漿細度重量百分比為250目1.01.2%，球磨時間10.5小時。7、根據權利要求2所述的一種高防汙瓷磚的製造方法，其特徵在於所述球磨漿細度重量百分比為250目0.81.0%，球磨時間12小時。8、根據權利要求2所述的一種高防汙瓷磚的製造方法，其特徵在於所述球磨漿細度重量百分比為250目0.6~0.8%，球磨時間13小時。9、根據權利要求2所述的一種高防汙瓷磚的製造方法，其特徵在於所述球磨釉漿比重為1.81.9g/cm3。10、根據權利要求2所述的一種高防汙瓷磚的製造方法，其特徵在於所述燒成溫度為10501225°C，所述燒成周期為8090分鐘，所述成型壓力400kgf/cm2。全文摘要一種高防汙瓷磚及其製造方法，該瓷磚主要原料各組分的重量百分比為SiO225～75％，AL2O315～23％，K2O+Na2O3～16％，Fe2O3+TiO20.5～1.5％，MgO5～30％，CaO0～10％；製造工藝流程選礦→進料→均化倉→使用倉→檢驗→配料→球磨→過篩除鐵→漿料陳腐均化→噴霧乾燥→進倉陳腐→衝壓成型→乾燥→印花→燒成→拋光→檢驗→包裝→進倉→發貨；球磨釉漿細度320目0.8～1.2％；325目0.15～0.55％；燒成溫度1050～1225℃；燒成周期80～90分鐘。產品吸水率≤0.03～0.05％，抗壓能力≥45MPa，抗汙效果好。文檔編號C04B35/14GK101186489SQ20061013877公開日2008年5月28日申請日期2006年11月15日優先權日2006年11月15日發明者霍炳祥申請人:霍炳祥