一種自動補充蝕刻容器中的氨水量的裝置的製作方法

2023-10-17 17:56:49

專利名稱：一種自動補充蝕刻容器中的氨水量的裝置的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及印刷電路板的生產線，具體是指一種蝕刻過程中自動補充蝕刻容 器中的安水量的裝置。
背景技術：
現有的印製電路板向多層化、密集化的方向發展，線條越來越細，對蝕刻的要求越 來越高。現有較多採用的蝕刻方式為採用鹼性蝕刻液的蝕刻方式，鹼性蝕刻液是以氯化銅 (CuC12)和氨(NH4. 0H)形成的銅氨絡離子為主要成分的鹼性蝕刻水溶液，也稱鹼性氯化銅 蝕刻液或氨鹼蝕刻液。鹼性蝕刻液的PH值應保持在8. 0 8. 8之間。當PH值降到8. 0以下 時，一方面會對金屬抗蝕層不利；另一方面，蝕刻液中的銅不能被完全絡合成銅氨絡離子， 溶液會出現沉澱，並在槽底形成泥狀沉澱。這些泥狀沉澱能在加熱器上結成硬皮，可能損壞 加熱器，還會堵塞泵和噴嘴，給蝕刻造成困難，如果溶液PH值過高，蝕刻液中氨過飽和，遊 離氨釋放到大氣中，導致環境汙染。此外，溶液的PH值增大也會增大側蝕的程度，而影響蝕 刻的精度。現有的蝕刻過程中一般通過人工採集樣本的方式，了解鹼性蝕刻液的PH值的變 化。該方式需要增加勞動強度、影響蝕刻的效率及蝕刻的效果。

實用新型內容本實用新型需解決的問題是提供一種提高蝕刻效率和蝕刻效果的自動補充蝕刻 容器中的氨水量的裝置。為了實現上述目的，本實用新型設計出一種自動補充蝕刻容器中的氨水量的裝 置，包括探測蝕刻容器中的蝕刻液PH值的探頭，所述的探頭與控制單元連接，該控制單元 與氨水泵連接，氨水泵用管道連接氨水貯罐，控制單元根據探頭獲取蝕刻液的具體PH值自 動控制氨水泵的啟動或關閉。所述的控制單元包括控制晶片，該控制晶片為可編程控制器PLC。本實用新型自動補充蝕刻容器中的氨水量的裝置通過探頭和可編程控制器PLC 實現氨水的自動補入，可以有效提高印製電路板的蝕刻效率和蝕刻效果。通過本實用新型 裝置，可以使鹼性蝕刻液的PH值保持在8. 0 8. 8之間，不會產生沉澱和造成環境的汙染。 同時，可以有效降低人工的勞動強度，提高蝕刻的準確性。

圖1是本實用新自動補充蝕刻容器中的氨水量的裝置的原理結構示意圖。
具體實施方式
為了便於本領域技術人員的理解，下面將結合具體實施例及附圖對本實用新型的 結構原理作進一步的詳細描述如圖1所示，一種自動補充蝕刻容器中的氨水量的裝置實施例。它包括探測蝕刻容器5中的蝕刻液PH值的探頭1，所述的探頭1與控制單元2連接，該控制單元2與氨水泵 3連接，氨水泵3管道連接氨水貯罐4，控制單元2根據探頭1獲取蝕刻液的具體PH值自動 控制氨水泵3的啟動或關閉。所述的控制單元2包括控制晶片，該控制晶片為可編程控制器PLC。本實用新型的工作原理是通過探頭1及時獲取蝕刻容器5中的蝕刻液PH值的變 化，當鹼性蝕刻液的PH值未有在8. 0 8. 8的範圍之內時，控制單元2啟動氨水泵3，從氨 水貯罐4往蝕刻容器5補入氨水。由於氨氣的易揮發，通過本實用新型裝置，能夠第一時間 了解到蝕刻容器5中的蝕刻液PH值的變化，不會因採用人工採樣的方式，而延誤補入氨水， 造成沉澱和環境汙染。可編程控制器PLC可以實現精確的添加氨水量的控制。結合我司SES設備蝕刻缸體積大小及密封性等具體情況，我們可以通過該氨水添 加裝置具體調整蝕刻系統PH值至我們所需要的準確範圍，列舉如下
權利要求一種自動補充蝕刻容器中的氨水量的裝置，其特徵是包括探測蝕刻容器中的蝕刻液PH值的探頭，所述的探頭與控制單元連接，該控制單元與氨水泵連接，氨水泵用管道連接氨水貯罐，控制單元根據探頭獲取蝕刻液的具體PH值自動控制氨水泵的啟動或關閉。
2.根據權利要求1所述的自動補充蝕刻容器中的氨水量的裝置，其特徵是所述的控 制單元包括控制晶片，該控制晶片為可編程控制器PLC。
專利摘要本實用新型公開了一種自動補充蝕刻容器中的氨水量的裝置，它包括探測蝕刻容器中的蝕刻液pH值的探頭，所述的探頭與控制單元連接，該控制單元與氨水泵連接，氨水泵設置於氨水貯罐中，控制單元根據探頭獲取蝕刻液的具體pH值自動控制氨水泵的啟動或關閉。本實用新型自動補充蝕刻容器中的氨水量的裝置可以實現氨水的自動補入，可以有效提高印製電路板的蝕刻效率和蝕刻效果。通過本實用新型裝置，可以使鹼性蝕刻液的PH值保持在8.0～8.8之間，不會產生沉澱和造成環境的汙染。
文檔編號G05B19/05GK201749376SQ201020226389
公開日2011年2月16日 申請日期2010年6月12日 優先權日2010年6月12日
發明者曾旭權 申請人:東莞森瑪仕格裡菲電路有限公司