光學薄膜的缺陷辨別方法
2023-12-11 14:51:27
光學薄膜的缺陷辨別方法
【專利摘要】本發明提供一種光學薄膜的缺陷辨別方法。本發明的目的在於提供一種正確地辨別光學薄膜的缺陷中的簇缺陷的方法。本發明的光學薄膜的缺陷辨別方法包括以下步驟：拍攝被輸送的光學薄膜來獲取上述光學薄膜的圖像(S1)；以及根據上述圖像檢測異物，當在以上述異物中的某一個異物為中心且半徑為5mm的圓內存在兩個以上的異物時，將包含中心的異物的上述異物的集合判斷為簇缺陷(S2)，由此不強化檢測條件就能夠降低光學薄膜的次品率。
【專利說明】光學薄膜的缺陷辨別方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種薄膜的缺陷檢測方法。更詳細地說，涉及一種光學薄膜中的簇缺陷的檢測方法。
【背景技術】
[0002]近年來，液晶顯示器、有機發光顯示器、場致發射顯示器(FED)、等離子體顯示面板(PDP)等各種圖像顯示裝置被大量開發、使用。
[0003]另一方面，圖像顯示裝置在上市前在製造過程中產生各種的不良，因此會經過多個檢查過程，而其中在圖像顯示裝置中使用最多的部件之一為偏振薄膜、相位差薄膜等各種光學薄膜，因此，光學薄膜的缺陷是圖像顯示裝置不良的主要原因之一。關於檢測光學薄膜的缺陷，首先辨別是否為缺陷而進行正確的判斷，之後，當辨別為缺陷時，根據缺陷進行修復(repair)或者廢棄以及去除缺陷原因等，在製造工序的生產成品率方面的確是重要的部分。
[0004]在光學薄膜的製造過程中，通常使用生產線工序，以在產業中大量生產。因而，在生產線的特定位置處連續地拍攝光學薄膜，在拍攝到的部分辨別缺陷，由此進行缺陷的檢測。
[0005]關於缺陷辨別，以往，可靠地檢測各種缺陷是重要的。關於該情況，在韓國公開專利第10-2010-0024753號公報中公開了一種將包含異物的閉合曲線和異物的面積進行比較來辨別線狀的異物的方法。
[0006]然而，近來，光學薄膜也隨著大型化的趨勢而部件成本上升，隨之而來地謀求更正確的缺陷辨別方法，因此，依然謀求能夠正確地辨別缺陷的方法。
[0007]專利文獻1:韓國公開專利第10-2010-0024753號公報
【發明內容】
[0008]發明要解決的問題
[0009]本發明的目的在於提供一種正確地辨別光學薄膜的缺陷中的簇缺陷的方法。
[0010]用於解決問題的方案
[0011]1.一種光學薄膜的缺陷辨別方法，包括以下步驟:步驟SI，拍攝被輸送的光學薄膜來獲取上述光學薄膜的圖像；以及步驟S2，根據上述圖像檢測異物，當在以上述異物中的某一個異物為中心、半徑比兩個異物的長軸的長度長且為5mm以下的圓內存在兩個以上的異物時，將包含中心的異物的上述兩個以上的異物的集合體判斷為簇缺陷。
[0012]2.在上述項目I的光學薄膜的缺陷辨別方法中，上述半徑為5mm、4mm、3mm、2mm或者 Imnin
[0013]3.在上述項目I的光學薄膜的缺陷辨別方法中，上述異物的長軸的長度為30 μ m ?100 μ m。
[0014]4.在上述項目I的光學薄膜的缺陷辨別方法中，上述異物的長軸的長度為30 μ m ?50 μ m0
[0015]5.在上述項目I的光學薄膜的缺陷辨別方法中，上述步驟SI的拍攝是通過反射光學系統方式、透射光學系統方式、或者反射光學系統方式和透射光學系統方式兩個方式來執行的。
[0016]6.在上述項目I的光學薄膜的缺陷辨別方法中，上述步驟S2還包括以下步驟:在判斷為簇缺陷的情況下，對上述光學薄膜的與簇缺陷對應的部分進行標記。
[0017]發明的效果
[0018]本發明的光學薄膜的缺陷辨別方法能夠通過提供以下方法來降低光學薄膜的次品率:在個別單位的異物時並非缺陷，但是在上述異物集中於規定的區域內的情況下，由於這種集中所引起的負的相乘效果，而可能成為次品的原因，因此將這種狀態(簇缺陷)判斷為缺陷。
[0019]在本發明的光學薄膜的缺陷辨別方法中，並非公開使檢測裝置的檢測條件強化的方法，而公開對異物簇化的程度進行判斷的方法，由此不更換檢測裝置或者強化檢測條件就能夠檢測簇缺陷。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0020]圖1的(a)和(b)是表示反射光學系統檢查裝置的概要結構的圖。
[0021]圖2是表示透射光學系統檢查裝置的概要結構的圖。
[0022]圖3是實際拍攝簇缺陷的一個例示而得到的照片。
[0023]圖4是概要性地示出簇缺陷的一個例示的圖。
【具體實施方式】
[0024]本發明包括步驟(SI)和步驟(S2)，其中，在該步驟(SI)中，拍攝被輸送的光學薄膜來獲取上述光學薄膜的圖像，在該步驟(S2)中，根據上述圖像檢測異物，當在以上述異物中的某一個異物為中心且半徑為5mm的圓內存在兩個以上的異物時，將包含中心的異物的上述異物的集合體判斷為簇缺陷，由此不強化缺陷檢測條件就能夠降低光學薄膜的次品率。
[0025]以下，參照附圖更詳細地說明本發明。
[0026]首先，拍攝被輸送的光學薄膜來獲取上述光學薄膜的圖像(SI)。
[0027]通常，通過連續工序、例如卷對卷(Roll-to-Roll)工序進行輸送從而進行光學薄膜的製造。因而，為了辨別光學薄膜的缺陷，而在固定方向上輸送的光學薄膜的上部拍攝光學薄膜，獲取光學薄膜的圖像。如果在獲取到的圖像中具有存在異物的區域，則實施挑選出這些區域並辨別是否為缺陷的工序。
[0028]用於檢測光學薄膜的缺陷的攝影裝置的方式例如能夠使用反射光學系統方式或透射光學系統方式、或者反射光學系統方式和透射光學系統方式。
[0029]反射光學系統方式的檢查裝置是指用在檢查對象上反射的光來執行檢查的裝置。具體地說，光源位於檢查薄膜的一側並將光照射到檢查薄膜，攝影設備是以上述檢查薄膜為基準在與上述光源同一側對檢查薄膜進行拍攝(會聚在檢查薄膜處反射的光)來獲取檢查影像的裝置。
[0030]在圖l(a:側視圖，b:俯視圖)中概要性地示出利用了反射光學系統檢查裝置的薄膜的缺陷檢測方法。參照圖1，在反射光學系統檢查裝置中，光源的光的照射方向和攝影設備的攝影方向位於與作為檢查對象的檢查薄膜的輸送方向平行的方向。而且，將在上述位置處拍攝到的影像用作檢查影像而檢測缺陷。
[0031 ] 透射光學系統檢查裝置是指用透過檢查對象的光來執行檢查的裝置。具體地說，在檢查薄膜的一側配置光源並將光照射到檢查薄膜，攝影設備是以檢查薄膜為基準在與光源相反的一側對檢查薄膜進行拍攝(會聚透過檢查薄膜的光)從而獲取檢查影像的裝置。
[0032]在圖2中概要性地示出利用了透射光學系統檢查裝置的薄膜的缺陷檢測方法。參照圖2，在透射光學系統檢查裝置中，光源和攝影設備位於與作為檢查對象的檢查薄膜垂直的方向。而且，將在上述位置處拍攝到的影像用作檢查影像而檢測缺陷。
[0033]透射光學系統檢查裝置能夠根據所檢查的光學薄膜的具體的種類，進一步追加結構。例如，在檢查對象的光學薄膜為偏振薄膜的情況下，能夠將與檢查對象的偏振薄膜的偏振方向垂直的其它偏振薄膜配置在檢查對象薄膜的上部。在該情況下，如果檢查對象的偏振薄膜為合格品，則通過偏振方向相互垂直的兩個偏振薄膜的光消失，因此能夠得到黑色的影像，但是當檢查對象的偏振薄膜中存在異物時在該部分處偏振的方向改變，因此，結果是，產生漏光，能夠得到存在明亮的部分(即，異物部分)的影像。
[0034]接著，根據上述圖像檢測異物，當在以上述異物中的某一個異物為中心且半徑為5mm的圓內存在兩個以上的異物時，將包含中心的異物的上述異物的集合體判斷為簇缺陷(S2)。
[0035]在本發明中，「異物」是指偏離光學薄膜的平均的均勻性的部分，是能夠根據辨別結果來判斷為處於正常範圍內(合格品性異物)或者判斷為成為產品不良的原因的「缺陷」的部分。
[0036]關於從獲取到的圖像中挑選存在異物的區域，能夠在設定了光學薄膜的平均的均勻性之後，使用圖像處理軟體等來對包含偏離該平均的均勻性的部分(異物部分)的區域的圖像執行挑選。
[0037]關於本發明中所定義的異物的種類，能夠在拍攝到的圖像中劃分為比周邊明亮的部分(亮點)與比周邊暗的部分(暗點)。這種亮點或者暗點不僅包含在光學薄膜上觀察到的光學性的亮點或者暗點，還包含由凹凸產生的亮點或者暗點。
[0038]如上所述，能夠將所檢測的異物分類為合格品性異物和成為缺陷的異物。作為合格品性異物的代表性例子，可舉出其大小過小而不會成為缺陷的情況。因而，根據光學薄膜所要求的基準，規定的大小以下的異物不被判斷為缺陷。
[0039]另一方面，如果個別的作為合格品性異物的微細的異物處於簇狀態，則實際以產品進行使用時有時被識別為不良，因此有時成為問題。然而，在一直以來的光學薄膜的缺陷判斷方法中，個別地挑選單位異物，根據規定的基準來判斷是否為缺陷，因此即使作為合格品性缺陷的微細的異物處於簇狀態，也無法將其判斷為缺陷。圖3示出這種微細的異物形成了簇狀態的例示。如圖3所示，如果微細異物處於簇狀態，則在以實際產品進行使用時被識別為不良，但是在以往的以個別的異物為對象的缺陷辨別方法中，難以識別為缺陷。
[0040]本發明提供一種在異物集中於預定的區域內而形成簇的情況下將其辨別為缺陷的方法，從而解決如上所述的問題點。具體地說，當在以從通過檢查用攝影裝置拍攝到的圖像中檢測到的異物中的、某一個異物為中心且半徑為5mm的圓內存在兩個以上的異物時，將包含中心的異物的上述異物的集合體判斷為缺陷(以下，稱為簇缺陷)。
[0041]將用於判斷是否為簇缺陷的簇區域設為以中心異物為基準、半徑為5_的圓。如果半徑超過5mm，則在實際使用時幾乎不會存在被識別為不良的情況。
[0042]另一方面，根據製造出的光學薄膜的具體的用途的不同，簇區域的半徑能夠進一步變小。簇區域的半徑越小則被判斷為簇缺陷的情況越少，因此如果對光學薄膜不要求無缺陷則簇半徑變得更小。例如，簇區域的半徑也可以為4mm、3mm、2mm、lmm,但是並不限定於此。
[0043]在本發明中，不特別限定形成簇缺陷的單位異物的大小。優選的是，具有在圖像中被識別為異物的大小以上的大小，並且具有在簇區域內存在兩個以上的大小。例如，異物的長軸的長度為ΙΟΟμπι以下，優選為50μπι以下。在本發明中，異物的大小的下限根據攝影裝置的種類的不同而不同，無論多麼微細的合格品性異物都能夠進行檢測，只要在簇區域內集合就成為本發明中的判斷的對象，因此不特別進行限定，但是例如能夠為30 μ m。因而，例如以異物的長軸為基準，本發明的異物的大小能夠為30μηι?ΙΟΟμπι,優選為30 μ m?50 μ m,但是並不限定於此。
[0044]圖4示出上述簇缺陷的概要性的例示。參照圖4，異物1、2、3存在於以異物2為中心、預定的半徑的圓內部，因此在簇區域內存在兩個以上的異物，被判斷為簇缺陷。
[0045]在本發明中，在上述步驟S2中，能夠還包括以下步驟:在判斷為簇缺陷的情況下，對上述光學薄膜的對應部分進行標記。
[0046]能夠在光學薄膜實際被使用的區域中執行標記，或者在加工成最終產品時去除的剩餘的區域(不實際使用的區域)中執行標記。
[0047]通過對產生簇缺陷的部分進行標記，能夠在之後分類和去除產生簇缺陷的部分時容易使用。
[0048]另外，對上述標記的個數進行計數，不僅能夠根據該計數計算缺陷發生率從而控制製造工序，還能夠用作將圖像與實際的光學薄膜進行對比的指標，用於確認簇缺陷的判斷是否正確地執行。
[0049]本發明的缺陷辨別方法能夠應用於各種光學薄膜。作為這種光學薄膜，例如存在偏振薄膜、相位差薄膜等，但是並不限定於此。
[0050]如上所述，在異物集中於規定的區域內的情況下，由於上述集中而進一步簇化，可能成為次品的原因，因此本發明提供一種將這種狀態(簇缺陷)判斷為缺陷的方法，在本發明的缺陷辨別方法中，在個別單位的異物時並非缺陷，但是能夠檢測上述異物集中於規定的區域內而引起不良的情況，因此能夠降低光學薄膜的次品率。
[0051]如上所述，通過所公開的實施方式和【專利附圖】
【附圖說明】了本發明，本發明並不限定於此，具有本發明所屬的【技術領域】的常識的人員在本發明的技術思想和權利要求書的同等範圍內能夠進行各種修改和變形是顯而易見的。
【權利要求】
1.一種光學薄膜的缺陷辨別方法，包括以下步驟: 步驟Si，拍攝被輸送的光學薄膜來獲取上述光學薄膜的圖像；以及步驟S2，根據上述圖像檢測異物，當在以上述異物中的某一個異物為中心、半徑比兩個異物的長軸的長度長且為5mm以下的圓內存在兩個以上的異物時，將包含中心的異物的上述兩個以上的異物的集合判斷為簇缺陷。
2.根據權利要求1所述的光學薄膜的缺陷辨別方法，其特徵在於， 上述半徑為5mm、4mm、3mm、2mm或者1mm。
3.根據權利要求1所述的光學薄膜的缺陷辨別方法，其特徵在於， 上述異物的長軸的長度為30 μ m?100 μ m。
4.根據權利要求1所述的光學薄膜的缺陷辨別方法，其特徵在於， 上述異物的長軸的長度為30 μ m?50 μ m。
5.根據權利要求1所述的光學薄膜的缺陷辨別方法，其特徵在於， 上述步驟Si的拍攝是通過反射光學系統方式、透射光學系統方式、或者反射光學系統方式和透射光學系統方式兩個方式來執行的。
6.根據權利要求1所述的光學薄膜的缺陷辨別方法，其特徵在於， 上述步驟S2還包括以下步驟:在判斷為簇缺陷的情況下，對上述光學薄膜的與簇缺陷對應的部分進行標記。
【文檔編號】G01N21/88GK104237246SQ201410273073
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2014年6月18日 優先權日:2013年6月21日
【發明者】裵星俊, 樸宰賢, 許宰寧 申請人:東友精細化工有限公司