蝕刻液槽的製作方法

2023-09-18 18:08:05 1

專利名稱：蝕刻液槽的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及太陽能電池，尤其涉及制絨蝕刻設備。
背景技術：
由於藥液濃度隨壽命改變而改變，且溶液內生成的鹽，中間產物及矽片帶來的髒汙使得藥液活性變差，目前採用的是定期將藥液壽命進行更換。目前的清洗工藝主要是利用HF和HN03與SI反應達到製造絨面，刻蝕邊緣的效果，現在的清洗設備主要是利用計算得出每片矽片需要的HN03和HF的量，利用滴定閥進行自動補加，保證溶液正常生產，由於生成物原矽酸等越來越多，在藥液壽命後期，會阻礙反應正向進行，藥液活性降低。定期更換藥液，優點使溶液保持較好的藥液活性；缺點由於定期更換新藥，造成物料的浪費，且更換藥液需要3-5h，對產能造成一定影響。

實用新型內容本實用新型要解決的技術問題是克服現有技術中之不足，提供一種蝕刻液槽。本實用新型解決其技術問題所採用的技術方案是一種蝕刻液槽，具有密封槽體， 在槽體上有HF加液管、HNO3加液管，在槽體的底部設置有排液管，在排液管設置有支管，槽體底部還設置有溢流管，在槽體的側壁上設置有液位傳感器，在槽體內設置有抽液管，在槽體頂部有溢液管。本實用新型的有益效果是本實用新型解決了頻繁換藥對藥液及人力的浪費，使藥液可以重複使用，且減少了換藥時間，提高了產能；本實用新型也改善了藥液使用初期由於矽酸鹽過少導致的反應活性低的問題，使整個反應過程中藥液保持較高的活性。
以下結合附圖和實施方式對本實用新型進一步說明。

圖1是本實用新型的結構示意圖。
具體實施方式
現在結合附圖對本實用新型作進一步的說明。這些附圖均為簡化的示意圖僅以示意方式說明本實用新型的基本結構，因此其僅顯示與本實用新型有關的構成。一種TANK液槽，具有密封槽體，在槽體上有HF加液管5、HNO3加液管6和加水管 7，在HF加液管5、HNO3加液管6和加水管7設置有單向閥，在槽體的底部設置有排液管2， 在排液管2設置有支管1，在排液管2和支管1設置有單向閥，槽體底部還設置有溢流管3， 溢流管3設置有單向閥，在槽體的側壁上設置有液位傳感器10，在槽體內設置有抽液管9和回液管8，抽液管9和回液管8上設置有泵，在槽體頂部有溢液管4。上述實施方式只為說明本實用新型的技術構思及特點，其目的在於讓熟悉此項技術的人士能夠了解本實用新型的內容並加以實施，並不能以此限制本實用新型的保護範圍， 凡根據本實用新型精神實質所作的等效變化或修飾，都應涵蓋在本實用新型的保護範圍內。
權利要求1. 一種蝕刻液槽，具有密封槽體，其特徵在於在槽體上有HF加液管、HNO3加液管，在槽體的底部設置有排液管，在排液管設置有支管，槽體底部還設置有溢流管，在槽體的側壁上設置有液位傳感器，在槽體內設置有抽液管，在槽體頂部有溢液管。
專利摘要本實用新型蝕刻液槽，涉及太陽能電池，尤其涉及制絨蝕刻設備，具有密封槽體，在槽體上有HF加液管、HNO3加液管，在槽體的底部設置有排液管，在排液管設置有支管，槽體底部還設置有溢流管，在槽體的側壁上設置有液位傳感器，在槽體內設置有抽液管，在槽體頂部有溢液管，解決了頻繁換藥對藥液及人力的浪費，使藥液可以重複使用，且減少了換藥時間，提高了產能；本實用新型也改善了藥液使用初期由於矽酸鹽過少導致的反應活性低的問題，使整個反應過程中藥液保持較高的活性。
文檔編號H01L31/18GK202072804SQ20112014717
公開日2011年12月14日 申請日期2011年5月11日 優先權日2011年5月11日
發明者王倩 申請人:常州天合光能有限公司