用於燒制釉面陶瓷茶具的底墊的製作方法
2023-09-18 16:52:20 1
用於燒制釉面陶瓷茶具的底墊的製作方法
【專利摘要】一種用於燒制釉面陶瓷茶具的底墊，其特徵在於包括底盤和凸起，凸起位於底盤中心位置，凸起上端中心位置設有凹陷，凸起上面為環形支撐面，環形支撐面支撐在茶具底部凹陷面，環形支撐外緣位於茶具底部凹陷內，底盤和凸起均為陶瓷；本實用新型通過將要燒制的表面上釉料的茶具底部凹陷處放置在凸起的環形支撐面上，茶具底部凹陷周圍的向下凸起處於懸空狀態，這樣釉料不會與凸起接觸，茶具和凸起就不會燒結在一起，使燒制出來的茶具底部無需打磨，底部周圍光滑美觀。
【專利說明】用於燒制釉面陶瓷茶具的底墊
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種釉麵茶具燒制工具，特別是涉及一種用於燒制釉面陶瓷茶具的底墊。
【背景技術】
[0002]我國是茶文化的發源地，茶文化的傳承與發展離不開茶具，隨著文化、科技以及經濟的發展，人們在飲茶的過程中更加注重茶具的品質，雖然茶具種類越來越多，但受傳統文化的影響，目前茶具仍以陶瓷製品為主，這類陶製品仍沿襲傳統製作方法，茶具在製作過程中仍有不足之處，茶具上釉水後都要放置在鋪有特殊隔離物的平板裝置上再進窯燒制，這樣高溫燒制後的茶具底部凹陷周圍的向下凸起雖不會和平板裝置粘接在一起，但還是會與隔離物發生粘連，為了美觀燒制完後一般都需要人工打磨，打磨後的茶具底部周圍一般都很粗糙，無釉水層，不光滑，從而影響到茶具的品質，仍有待於技術改進加以完善。
【發明內容】
[0003]為了解決上述問題，本實用新型提供了一種用於燒制釉面陶瓷茶具的底墊。
[0004]本實用新型採用的技術方案為:一種用於燒制釉面陶瓷茶具的底墊，其特徵在於包括底盤和凸起，凸起位於底盤中心位置，凸起上端中心位置設有凹陷，凸起上面為環形支撐面，環形支撐面支撐在茶具底部凹陷面，環形支撐外緣位於茶具底部凹陷內，底盤和凸起均為陶瓷。
[0005]進一步的，所述底盤和凸起為一體式連接。
[0006]進一步的，所述凸起的環形支撐面為多邊環形或圓環形。
[0007]進一步的，所述底盤和凸起為分體式連接。
[0008]進一步的，所述凸起為三個其環形支撐面分別為圓環形、四邊環形和六邊環形，三個凸起擇一與底盤配合連接。
[0009]進一步的，所述環形支撐面上設有三個以上周向均勻分布的小孔，小孔內配有陶製支撐柱。
[0010]進一步的，所述環形支撐面上設有徑向凹槽。
[0011]本實用新型通過將要燒制的表面上釉料的茶具底部凹陷處放置在凸起的環形支撐面上，茶具底部凹陷周圍的向下凸起處於懸空狀態，這樣釉料不會與凸起接觸，茶具和凸起就不會燒結在一起，使燒制出來的茶具底部無需打磨，底部周圍光滑美觀。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0012]圖1為本實用新型實施例一結構示意圖。
[0013]圖2為本實用新型實施例二結構示意圖。
[0014]圖中標號名稱:1底盤；2凸起；3環形支撐面。【具體實施方式】
[0015]本實用新型實施例一如圖1所示，該用於燒制釉面陶瓷茶具的底墊設有底盤和凸起，凸起位於底盤中心位置，底盤和凸起為一體式連接，凸起上端中心位置設有凹陷，凸起上面為環形支撐面，環形支撐面為圓環形，環形支撐面支撐在茶具底部凹陷面，環形支撐外緣位於茶具底部凹陷內，底盤和凸起均為陶瓷；使用時將要燒制的茶具底部打上一層蠟用於防止沾上釉料，再上表面釉料後將茶具底部凹陷處放置在凸起的環形支撐面上放入窯內燒制，茶具底部凹陷周圍的向下凸起處於懸空狀態，這樣釉料不會與凸起接觸，茶具和凸起就不會燒結在一起，使燒制出來的茶具底部無需打磨，底部周圍光滑美觀，本底墊可重複使用減小浪費，而且釉料流入底部模糊印記。
[0016]本實用新型實施例二如圖2所示，該用於燒制釉面陶瓷茶具底盤和凸起為分體式連接，凸起插在底盤上，凸起為三個其環形支撐面分別為圓環形、四邊環形和六邊環形，使用時根據窯燒制茶具底部形狀選擇，三個凸起擇一與底盤配合連接，可以適用於多種茶具的燒制，具有實施例一同樣效果。
[0017]本實用新型實施時凸起的環形支撐面還可為其他多邊環形，大小尺寸多樣設置，分體式結構凸起數量可為更多，選擇餘地更大；還可在環形支撐面上設三個以上周向均勻分布的小孔，小孔內配有陶製支撐柱，支撐柱高矮可調，用於支撐底面不平的茶具；環形支撐面上還可設徑向凹槽，用於氣流流通導熱；環形支撐面可為打磨麵，使其更粗糙，使茶具放置更穩定。
[0018]綜上所述僅為本實用新型較佳實施例，凡依本申請所做的等效修飾和現有技術添加均視為本實用新型技術範疇。
【權利要求】
1.一種用於燒制釉面陶瓷茶具的底墊，其特徵在於包括底盤和凸起，凸起位於底盤中心位置，凸起上端中心位置設有凹陷，凸起上面為環形支撐面，環形支撐面支撐在茶具底部凹陷面，環形支撐外緣位於茶具底部凹陷內，底盤和凸起均為陶瓷。
2.根據權利要求1所述的用於燒制釉面陶瓷茶具的底墊，其特徵在於所述底盤和凸起為一體式連接。
3.根據權利要求1或2所述的用於燒制釉面陶瓷茶具的底墊，其特徵在於所述凸起的環形支撐面為多邊環形或圓環形。
4.根據權利要求1或2所述的用於燒制釉面陶瓷茶具的底墊，其特徵在於所述底盤和凸起為分體式連接。
5.根據權利要求4所述的用於燒制釉面陶瓷茶具的底墊，其特徵在於所述凸起為三個其環形支撐面分別為圓環形、四邊環形和六邊環形，三個凸起擇一與底盤配合連接。
6.根據權利要求1或2所述的用於燒制釉面陶瓷茶具的底墊，其特徵在於所述環形支撐面上設有三個以上周向均勻分布的小孔，小孔內配有陶製支撐柱。
7.根據權利要求1或2所述的用於燒制釉面陶瓷茶具的底墊，其特徵在於所述環形支撐面上設有徑向凹槽。
【文檔編號】F27D3/12GK203798169SQ201420041627
【公開日】2014年8月27日 申請日期:2014年1月23日 優先權日:2014年1月23日
【發明者】李淑平 申請人:李淑平