基底對準設備和基底處理設備的製作方法

2023-09-20 02:41:15 1

專利名稱：基底對準設備和基底處理設備的製作方法
技術領域：
0001本發明涉及一種校正基底位置的基底對準設備以及基底處
理設備。
背景技術：


圖19A和19B是用於解釋透射光學位移傳感器的布置的視 圖，所述透射光學位移傳感器用在根據本發明的第二實施例的基底處 理設備中；
0036圖20是用於解釋使用透射光學位移傳感器檢測基底位置偏 差的視0037圖21是從基底上方觀察到的、由透射光學位移傳感器檢測 基底位置偏差的俯視圖。
具體實施例方式
0038以下將參照附圖詳細說明用於執行本發明的最佳模式。 (第一實施例)在該狀態下，三個柱103a、 103b和103c沿同一方向同步 地旋轉通過相同的角26，如圖2E中所示。通過該操作，由支撐銷 101支撐的基底W沿校正基底W位置偏差的方向運動了運動量L(基 底位置校正)。在該情況下，支撐銷101從支撐銷運動之前的位置運 動了運動量L到達支撐銷運動之後的位置，如圖4中所示。通過這樣 對準，基底W的位置被校正成使得圖3中所示的基底W的中心X與 預定參考點X'對準。通過在支撐基底W的同時降低柱103而將基底W安裝在 基底支架105上，如圖2F中所示(基底設置)，並且完成位置校正 操作。在該校正方法中，基底的最大運動範圍依據柱的半徑確定，並 且當2 6=180°時該運動範圍最大。因此，最優半徑僅需要根據待校 正的位置偏差量選擇，以便符合基底處理設備的具體要求。
00561由基底處理設備的真空室中的等離子體發生單元(未示出) 產生等離子體來處理基底W，如圖2G中所示。為了將基底W卸載到 例如另一真空室，基底卸栽機構(未示出)在柱103升起以後卸載基 底W，如圖2H中所示。計算柱103a、 103b和103c (即基底對準設備100的支撐 銷101a、 101b和101c)繞柱103a、 103b和103c的中心旋轉通過的 角26，已經參照圖4中進行說明。圖18是示出基底處理室100的透視圖。光學位移傳感器201 和203布置在基底處理室100的外部，如圖18中所示。由光學位移傳感器201和203的光投射單元201a和203a發射的線性光束222穿過 形成在基底處理室100中的窗(未示出)，並且通過靜電卡緊臺107 上方的空間進入準直光線傳感器201b和203b，所述準直光線傳感器 201b和203b用作光學位移傳感器201和203的光接收單元。由提升 機構105向上提起的基底W橫過線性光束222，由此檢測基底W的 位置，如同上述實施例。
0112將參照圖19A和19B解釋用在該實施例中的光學位移傳感 器201和203的測量原理。各光學位移傳感器201和203都包括用於 投射線性光束的光投射單元815和用於接收光束的光接收單元810， 如圖19A和19B所示。
01131由光投射單元815中的雷射二極體(半導體雷射元件)502 發射的光在通過矩形的光投射窗816和準直器透鏡504時被準直成均 勻、平行、線性的光束，並被導引到測量物體801和光接收單元810。 此時，由測量物體801投射的陰影在光接收單元810的一維圖像傳感 器(即，線性傳感器)602上成像。 一維圖像傳感器602例如包括多 個光電二極體或CCD(電荷耦合器件)，並且作為電信號輸出所接收 的光的量，所述光電二極體或CCD通過線性地排列多個光接收單元 (像素)而形成。在圖19A和19B的情況中，光接收單元(像素)包 括N個像素，
Oll引從一維圖像傳感器602的像素輸出的信號隨後通過放大器 813發送到信號處理電路(未示出)。信號處理電路基於根據從一維 圖像傳感器602輸出的信號所得到的光量的分布而檢測測量物體801 的邊緣El和E2的位置。信號處理電路參照邊緣El和E2確定測量 物體801的尺寸Al。
0115一維圖像傳感器602上的光接收區域的尺寸例如大約是 35mm寬度x 7 ji m高度。可以檢測兩個邊緣El和E2以用於圖19A 中所示的較小的測量物體801，而可以僅檢測一個邊緣以用於較大的 基底(具有300mm的外徑)。此外，基底位置的檢測需要至少沿兩 個不同的方向進^f亍測量。0116這些準直光線傳感器在使用之前需要設置在光投射側和光 接收側兩側上，這與上述反射光學位移傳感器相反。然而，這些準直 光纖傳感器可以與使用提升機構105的基底表面的豎直操作結合，可 靠地檢測基底的周邊表面而不受基底的周邊表面的表面狀態的影響。此時，如果由上述控制裝置200確定的基底W的位置信息 與參考基底位置偏離很大，則基底傳輸單元202停止以防止故障，例 如由於在基底轉移中的故障而導致基底落下。然而，如果由控制裝置 200確定的基底W的位置信息沒有與參考基底位置偏離這麼多，則控 制裝置200可以通過校正基底的位置使用基底傳輸單元202得到基底 W以將基底轉移到基底傳輸單元202。
01261雖然已經參照典型實施例說明本發明，但應當理解本發明不 受所公開的典型實施例限制。下述權利要求的範圍將與最廣泛解釋一致， 從而包含所有這些修改和等同結構以及功能。
權利要求
1.一種用於將基底與參考點對準的基底對準設備，該設備包括多個柱，其構造成繞與相應的軸向方向平行的旋轉軸線旋轉；驅動機構，其構造成使所述多個柱沿相同方向同步地旋轉通過相同的角度；檢測器，其構造成檢測所述基底從所述參考點偏離的位置偏差的量；以及支撐銷，其位於所述多個柱的上表面上且同時與所述多個柱的相應的旋轉軸線間隔開，並且構造成支撐所述基底，其中基於由所述檢測器檢測到的位置偏差的量，通過由所述驅動機構使所述多個柱沿相同方向同步地旋轉通過相同的角度，而使所述基底對準。
2. 根據權利要求1所述的設備，其中所述檢測器構造成檢測所述基底的運動方向和運動量L，並且 假定所述支撐銷在運動前和運動後的位置繞與所述運動方向垂直並且經過所述柱的旋轉中心的虛線是軸對稱的，通過使所述多個柱旋轉通過以下角度而使所述基底對準 2 6 -ZsiiT1 ( L/2R)其中R是所述柱的旋轉軸線與所述支撐銷的中心之間的距離，並 且6是所述虛線與以下直線之間形成的角，所述直線經過所述支撐銷 在運動前和運動後的中心之一以及所述柱的中心。
3. 根據權利要求2所述的設備，其中在所述基底的對準之前，所 述多個柱中的每個都旋轉到所述支撐銷在運動之前未支撐所述基底的 情況下的位置，所述位置與所述虛線形成角6。
4. 根據權利要求1所述的設備，其中所述支撐銷具有半球形的遠 端和圓錐形的遠端之一。
5. 根據權利要求1所述的設備，其中所述支撐銷和所述柱二者都 能自由地繞與所述支撐銷的軸向方向平行的旋轉軸線旋轉。
6. 根據權利要求1所述的設備，其中所述支撐銷位於所述柱上的 區域內。
7. 根據權利要求1所述的設備，還包括 基底支架，其構造成保持所述基底，以及 環狀蓋，其構造成防護所述基底支架，其中所述多個柱位於所述基底支架的外部，並且所述環狀蓋構造 成在支撐所述基底的同時根據所述多個柱的升起而升起，以便通過所 述環狀蓋對準所述基底。
8. 根據權利要求1所述的設備，還包括 基底支架，其構造成保持所述基底，以及 環狀蓋，其構造成防護所述基底支架， 其中所述多個柱位於所述基底支架的外部，所述多個支撐銷能自由地繞與其軸向方向平行的旋轉軸線旋轉， 並且所述多個柱能自由地繞與其軸向方向平行的旋轉軸線旋轉，以及所述多個支撐銷連接至所述環狀蓋，所述環狀蓋構造成在支撐所 述基底的同時根據所述多個柱的升起而升起，以便通過所述環狀蓋對 準所述基底。
9. 根據權利要求1所述的設備，還包括 基底支架，其構造成保持所述基底，以及 環狀蓋，其構造成防護所述基底支架， 其中所述多個柱位於所述基底支架的外部，所述多個支撐銷相對於所述環狀蓋能自由地旋轉，所述多個支撐銷連接至所述多個柱，以及所述環狀蓋構造成在支撐所述基底的同時根據所述多個柱的升起 而升起，以便通過所述環狀蓋對準所述基底。
10. —種基底處理設備，包括根據權利要求1所述的基底對準設
全文摘要
本發明涉及一種用於將基底與參考點對準的基底對準設備，該基底對準設備包括多個柱，其構造成繞與其相應的軸向方向平行的旋轉軸線旋轉；驅動機構，其構造成將多個柱沿相同方向同步地旋轉通過相同的角度；檢測器，其構造成檢測基底從參考點偏離的位置偏差的量；以及支撐銷，其位於多個柱的上表面上且同時與多個柱的相應的旋轉軸線間隔開，並且構造成支撐基底，其中基於由檢測器檢測到的位置偏差的量，通過由驅動機構使多個柱沿相同方向同步地旋轉通過相同的角度，而使基底對準。
文檔編號H01L21/68GK101640181SQ20091015968
公開日2010年2月3日 申請日期2009年7月31日 優先權日2008年7月31日
發明者金子一秋, 長谷川雅己 申請人:佳能安內華股份有限公司