含有不飽和羧酸醯胺化合物的晶體及其製造方法

2023-09-19 13:27:20

含有不飽和羧酸醯胺化合物的晶體及其製造方法
【專利摘要】本發明提供一種作為醫藥、農藥、高分子材料、功能材料或它們的中間體等精密化學品有用的、高純度且體積低且適用性優異的不飽和羧酸醯胺的晶體。本發明的晶體的特徵在於，含有95面積％以上下述式(1)所示的不飽和羧酸醯胺，松密度為0.2～0.7g/mL。式中，R1～R5表示氫原子、烷基、羥基、烷氧基或硝基。R1～R5中的至少2個任選相互鍵合併與構成芳香環的碳原子一起形成環。R6、R7、R8表示氫原子、烷基或芳基。R7、R8任選相互鍵合併與構成咪唑環的碳原子一起形成環。
【專利說明】含有不飽和羧酸醯胺化合物的晶體及其製造方法

【技術領域】
[0001] 本發明涉及一種作為醫藥、農藥、高分子材料、功能材料或它們的中間體等精密化 學品有用的含有不飽和羧酸醯胺化合物的晶體及其製造方法。

【背景技術】
[0002] 作為不飽和羧酸醯胺化合物的製造方法，已知有使不飽和羧酸和胺進行脫水縮合 的方法。在專利文獻1中記載有如下方法：使用碳化二亞胺作為脫水縮合劑、使2-羥基肉 桂酸和胺類進行脫水縮合而得到2-羥基肉桂酸醯胺。另外，在非專利文獻1中記載有如下 方法：使用N，N-羰基二咪唑作為脫水縮合劑、使4-甲氧基肉桂酸和胺類進行脫水縮合而得 到4-甲氧基肉桂酸醯胺。但是，上述方法中使用的脫水縮合劑為高價，有時引起強的變態 反應，因此，工業上不能說是有利的方法。另外，也已知有通過不飽和羧酸腈的水和而得到 不飽和羧酸醯胺的方法，但反應的選擇性因不飽和羧酸的種類而降低等，未必可以說是一 般的方法。
[0003] 因此，作為不飽和羧酸醯胺的合成方法，大多採用使不飽和羧酸醯氯和胺反應的 方法。另外，從亞硫醯氯的沸點比較低、容易除去剩餘的亞硫醯氯方面等方面考慮，作為不 飽和羧酸醯氯的製造方法，使不飽和羧酸和亞硫醯氯反應的方法為最一般的。在非專利文 獻2中記載有如下方法：將相對於不飽和羧酸和上述不飽和羧酸為8. 6摩爾倍的亞硫醯氯 在冷卻下進行混合，反應開始後設為加熱回流狀態而得到不飽和羧酸醯氯。
[0004] 即，作為不飽和羧酸醯胺的製造方法，通過使不飽和羧酸和亞硫醯氯反應來合成 不飽和羧酸醯氯、通過使得到的不飽和羧酸醯氯和胺反應來合成不飽和羧酸醯胺的方法為 一般的。
[0005] 另一方面，在尚功能材料，例如電氣、電子部件的製造中所利用的感光性尚功能材 料（抗蝕劑材料）、尤其是要求高可靠性的半導體密封材料、半導體或MEMS (Micro Electro Mechanical Systems)等包裝材料及半導體、液晶顯示器或MEMS用感光性材料等中，要求 其構成材料的高純度化。其中，已知有含氯化合物對電氣、電子部件的性能給予大的影響。 在專利文獻2中公開有：副產物中所含的滷原子在曝光時成為滷陰離子，使酸發生劑的效 果降低，使靈敏度降低。另外，在專利文獻3中公開有：在電氣、電子部件的製造中使用含有 通過吸溼將氯離子游離的水解性氯等多種有機氯化合物作為雜質的化合物時，容易引起配 線的腐蝕或斷線、絕緣性的降低，產生電氣、電子部件的可靠性的降低。
[0006] 因此，通過實施精製處理而得到含有不飽和羧酸醯胺的高純度的晶體是重要的。 但是，用現有的精製方法精製而得到的不飽和羧酸醯胺化合物的晶體由於純度高而呈現絨 毛狀、松密度低且體積膨脹，因此，存在如下問題：在進行乾燥時需要用大的乾燥機使其幹 燥、或每少量分成多次使其乾燥等適用性差、運輸性、填充性也差。
[0007] 現有技術文獻
[0008] 專利文獻
[0009] 專利文獻1 :國際公開第2009/123122號
[0010] 專利文獻2 :日本特開2002-187868號公報
[0011] 專利文獻3 :日本特開2009-263543號公報
[0012] 非專利文獻
[0013] 非專利文獻 I :Journal of Organic Chemistry ( ^ 々一於少才；7'、才一力、二 7夕少 S只卜y -）69卷42比頁（2〇04年）
[0014] 非專利文獻 2 : Journal of the American Chemical Society ( ^ 々一於少才 ^ y力y亇S力；I/ y寸彳工亍4 - ) 72卷3885頁（1950年）
[0015] 非專利文獻3 :Synthesis (シ > 七シ只）598頁（I989年）


【發明內容】

[0016] 發明要解決的問題
[0017] 因此，本發明的目的在於，提供一種不飽和羧酸醯胺的晶體，其作為醫藥、農藥、高 分子材料、功能材料或它們的中間體等精密化學品是有用的，高純度且體積低且適用性優 異。
[0018] 本發明的其它目的在於，提供一種上述高純度且體積低且適用性優異的不飽和羧 酸醯胺的晶體的製造方法。
[0019] 解決問題的方法
[0020] 本發明人為了解決上述問題進行了潛心研宄，結果發現：在使咪唑化合物與將不 飽和羧酸用亞硫醯氯進行氯化而得到的不飽和羧酸醯氯反應的不飽和羧酸醯胺的製造方 法中，將亞硫醯氯的使用量調整為特定的範圍、或在反應後設置使用吸附劑進行精製的反 應工序時，可得到含氯化合物的含量非常低的不飽和羧酸醯胺，反應後進一步用水清洗，共 沸脫水至水含量為0. 3重量％以下之後進行晶析，由此得到高純度且體積低的不飽和羧酸 醯胺的晶體。本發明是基於上述見解而完成的發明。
[0021] 即，本發明提供一種晶體，其特徵在於，含有95面積％以上（使用氣相色譜法，利 用下述分析條件測定）下述式（1)所示的不飽和羧酸醯胺，且松密度為〇. 2?0. 7g/mL，
[0022] [化學式1]
[0023]

【權利要求】
1. 一種晶體，其特徵在於，含有95面積％以上（使用氣相色譜法，利用下述分析條件測 定）下述式（1)所示的不飽和羧酸醯胺，且松密度為〇. 2?0. 7g/mL，
式⑴中，R1?R5相同或不同，表示氫原子、烷基、羥基、烷氧基或硝基；R1?R5中的至 少2個任選相互鍵合併與構成芳香環的碳原子一起形成環；R6、R7、R8相同或不同，表示氫原 子、烷基或芳基；R7、R8可以相互鍵合併與構成咪唑環的碳原子一起形成環， 氣相色譜法的分析條件： 柱DB-1701 徑X長度CL 25mm X 30m膜厚0.25 μ m 分流比1/50 流速1mT,/mi n(He) 注入量1μL注入口溫度250°C 檢測器溫度280°C 升溫條件：在50°C保持4分鐘，其後，以15°C/分鐘升溫至280°C，在280°C保持10分 鍾， 分析時間30分鐘。
2. 權利要求1所述的晶體，其中，在X射線衍射中，在2Θ為選自6. 0?8. 0、13. 5? 15. 5及16. 5?18. 0中的至少1個的範圍內具有峰值，且在2Θ為選自9. 0?10. 5、12. 5? 13. 5及29. 0?30. 0的範圍內沒有峰值。
3. 權利要求1或2所述的晶體，其中，不飽和羧酸醯胺為選自下述式（1-1)?（1-6)所 示的化合物中的至少1種化合物
O
4. 一種權利要求1?3中任一項所述的晶體的製造方法，該方法包括： 將下述式（2)所示的不飽和羧酸利用亞硫醯氯進行氯化、得到下述式（3)所示的化合 物的反應工序1 ;以及
式⑵中，R1?R5相同或不同，表示氫原子、烷基、羥基、烷氧基或硝基；R1?R5中的至 少2個任選相互鍵合併與構成芳香環的碳原子一起形成環，
式（3)中，R1?R5與上述相同， 通過使得到的上述式（3)所示的化合物和下述式（4)所示的咪唑化合物反應而得到下 述式（1)所示的不飽和羧酸醯胺的反應工序2 ;以及 精製工序；
式（4)中，R6、R7、R8相同或不同，表示氫原子、烷基、或芳基；R7、R8任選相互鍵合併與構 成咪挫環的碳原子一起形成環，
式（1)中，R1?R8與上述相同， 其中，所述晶體製造方法具有下述2個條件：
1. 在反應工序1中使亞硫醯氯的使用量為上述式（2)所示的不飽和羧酸的0. 5?3.O 摩爾倍，和/或在精製工序中使用吸附劑對含氯化合物進行分離、除去；
2. 在精製工序中，向反應體系內加入水並清洗，在共沸脫水至水含量為0. 3重量％以 下之後進行晶析。
【文檔編號】C07D235/18GK104470901SQ201380037985
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2013年8月5日 優先權日:2012年8月10日
【發明者】藤田浩平 申請人:株式會社大賽璐