抗眩蓋板的製造方法及顯示裝置與流程
2023-12-06 00:15:56 2
本發明涉及顯示技術領域，特別是涉及一種抗眩蓋板的製造方法及顯示裝置。
背景技術：
人們在使用手機時時常受到高亮環境光及鬼影現象的困擾，為此人們常通過在手機蓋板表面進行抗眩抗反射處理。目前，抗眩處理為蓋板表面處理的重要方式之一，常用的做法是在蓋板表面進行溼刻蝕提高蓋板表面的粗糙度，增加蓋板表面的漫射。然而，當蓋板表面的抗眩微結構尺寸過大時，在高解析度面板上會造成閃爍(sparkle)現象，且目前暫未找出改善sparkle現象的方法，造成抗眩蓋板在高解析度面板上應用受到限制。
技術實現要素：
本發明提供一種抗眩蓋板的製造方法及顯示裝置，能夠改善蓋板在高解析度面板上的sparkle現象，提升面板閱讀的舒適度。
為解決上述技術問題，本發明採用的一種技術方案是：提供一種抗眩蓋板的製造方法，所述方法包括：洗淨所述蓋板；採用第一刻蝕液對所述蓋板進行預刻蝕，以形成凹凸不平的微結構；在所述進行預刻蝕後的蓋板上沉積一層且厚度不均勻的掩膜層；採用第二刻蝕液對所述金屬膜層及所述預刻蝕後的蓋板進行刻蝕，以製備出具有多個相分離弧形微結構的蓋板。
為解決上述技術問題，本發明採用的另一種技術方案是：提供一種顯示裝置，所述顯示裝置包括上述任一所述製備方法製備的抗眩蓋板以及顯示面板，其中，所述抗眩蓋板與所述顯示面板的顯示面貼合設置。
本發明的有益效果是：區別於現有技術的情況，本發明通過多步刻蝕在蓋板上製備出多個相分離的弧形微結構，能夠改善蓋板在高解析度面板表面的sparkle現象，有利於提升面板閱讀的舒適度。
附圖說明
圖1為本發明抗眩蓋板的製造方法一實施例的流程示意圖；
圖2為本發明抗眩蓋板的製造過程一實施方式的結構示意圖；
圖3為本發明抗眩蓋板掃在描電子顯微鏡下的結構示意圖；
圖4為本發明全高清解析度面板在貼合/未貼合抗眩蓋板的顯示效果對比示意圖；
圖5為本發明的表面呈龜裂狀的弧形微結構蓋板與表面層弧面狀微結構蓋板光學特性測量對比示意圖；
圖6本發明顯示裝置一實施方式的結構示意圖。
具體實施方式
下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本發明的一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬於本發明保護的範圍。
請參閱圖1及圖2，圖1為本發明抗眩蓋板的製造方法一實施例的流程示意圖，圖2為本發明抗眩蓋板的製造過程一實施方式的結構示意圖，該方法包括如下步驟：
s1，洗淨蓋板。
參閱圖2中a)，所述的蓋板可以為透明材質，具體可以是玻璃、陶瓷基板或者透明塑料等任意形式的基板，此處本發明不做具體限定。
s2，採用第一刻蝕液對蓋板進行預刻蝕，以形成凹凸不平的微結構。
將上述洗淨後的蓋板採用第一刻蝕液進行預刻蝕，在本實施例中，第一刻蝕液可以為氫氟酸、磷酸及硫酸的混合酸液，且濃度可以為0.5wt％-1wt％，在其它實施例中，也可以採用可以腐蝕該蓋板的其他濃度的酸液，此處本發明不做進一步限定。其中，在該步驟中，預刻蝕的目的是採用濃度較稀的的刻蝕酸液對蓋板進行刻蝕，以使得在蓋板表面形成凹凸不平的微結構a。該微結構a的刻蝕痕跡比較淺，其形狀可以為弧形、錐形及圓臺狀中的一種，具體參見圖2中b)，其主要是起整體抗眩的效果。
s3，在進行預刻蝕後的蓋板上沉積一層且厚度不均勻的掩膜層。
採用蒸鍍或者濺鍍的方式，在預刻蝕後的蓋板上沉積一層厚度不均勻的掩膜層b，當然該掩膜層b的沉積方法不限於上述兩種方式，在其它實施例中，還可以採用電化學沉積氣相沉積法等等，此處不做具體限定。其中，該掩膜層b材料可以為金屬、金屬氧化物、矽酸鹽或者任何可以和刻蝕液進行反應的材料。
具體地，在蓋板不同位置，其掩膜層的厚度均勻性不一且厚度隨機分布。具體地，該掩膜層b的厚度範圍約為50nm～1μm，在較薄處膜層厚度在50nm-200nm之間，較厚處膜層厚度在500nm-1μm之間，可見在較薄處膜層厚度與較厚處膜層厚度相差較大，具體參見圖2中c)。當然，本實施例中的膜層厚度範圍只是示意性舉例，在其它實施例中，具體可以通過對蒸鍍或者濺鍍工藝進行控制，例如在蒸鍍時可以使用兩塊不同的掩膜板，使其中一塊掩膜板的蒸鍍時間較長，保證掩膜層的厚度較厚，另一塊掩膜板的蒸鍍時間相對較短，掩膜層的厚度較薄，從而以得到需要厚度的掩膜層。
s4，採用第二刻蝕液對掩膜層及預刻蝕後的蓋板進行刻蝕，以製備出具有多個相分離的弧形微結構蓋板。
再沉積完掩膜層後，採用第二刻蝕液對掩膜層及預刻蝕後的蓋板進行刻蝕。其中，第二刻蝕液可以為氫氟酸、磷酸及硫酸的混合酸液，且第二刻蝕液的濃度可以為10wt％-20wt％，在其它實施例中，也可以採用可以腐蝕該蓋板的其他濃度的酸液，此處本發明不做進一步限定。
在本實施例中，由於在蓋板表面有一層厚度不均勻的掩膜層，刻蝕酸液需要先對掩膜層進行溶解才能刻蝕到蓋板表面基材，該掩膜層的厚度不均勻，造成刻蝕酸液在蓋板表面蝕刻的時間和蝕刻量不同，且在掩膜層較薄區域刻蝕酸液的蝕刻時間較長，且刻蝕深度較大，掩膜層較厚區域刻蝕酸液的蝕刻時間較短，且蝕刻深度較淺，從而製備出具有多個相分離的弧形微結構蓋板，其中該相分離的弧形微結構c具體可以參見圖2中的d)。
請進一步參閱圖3，圖3為本發明抗眩蓋板掃在描電子顯微鏡下的結構示意圖。如圖3，該蓋板相鄰的弧形微結構之間存在刻蝕形成的溝壑，完全不同於傳統的球狀凹面結構，從測量的數據可知，每一弧形微結構的圓心角在50°～80°之間，且每一相分離的弧形微結構表面呈龜裂狀，此種結構有利於形成光阱，即使進入的光無法逃出，減弱反射光的強度，並通過表面不平整結構產生漫射，從而達到抗眩的效果。
參閱圖4，圖4為本發明全高清解析度面板在貼合/未貼合抗眩蓋板的顯示效果對比示意圖。如圖4，貼合該抗眩蓋板的區域幾乎不可見sparkle現象，說明此種形貌抗眩微結構可以很好的改善顯示面板的sparkle現象。
請進一步參閱圖5，圖5為本發明的表面呈龜裂狀的弧形微結構蓋板與表面層弧面狀微結構蓋板光學特性測量對比示意圖。其中，圖5中的a)、b)及c)分別為表面呈龜裂狀的弧形微結構蓋板與表面層弧面狀微結構蓋板的反射率、透射率及霧度值的對比示意圖。由圖可知，表面呈龜裂狀的弧形微結構蓋板的反射率約為93.61％，透過率約為1.96％，霧度值為71.13％，其中是霧度是指偏離入射光2.5°角以上的透射光強佔總透射光強的百分數，霧度越大意味著蓋板表面光澤度尤其成像度下降，成像影響輪廓越模糊,抗眩效果越好。再來看表面層弧面狀微結構蓋板，其反射率約為93％，透過率約為2.05％，霧度值為22.02％。其中，龜裂狀微結構蓋板的反射率和透過率均略高於球面狀微結構蓋板，說明龜裂狀微結構蓋板的光學性能略好於球面狀微結構的蓋板，龜裂狀微結構蓋板的霧度值可達遠高於球面狀微結構蓋板的霧度值，說明該龜裂狀微結構形貌可以製備出霧度值較高的蓋板，具有很好的抗眩效果，利於提升手機在戶外的可讀性和閱讀的舒適性。
上述實施方式中，通過多步刻蝕在蓋板上製備出多個相分離的弧形微結構，能夠改善蓋板在高解析度面板表面的sparkle現象，有利於提升面板閱讀的舒適度。
請參閱圖6，圖6為本發明顯示裝置一實施方式的結構示意圖。該顯示裝置20包括由上述任一方法所製成的抗眩蓋板d，以及顯示面板21。其中，該抗眩蓋板d與顯示面板21的顯示面貼合設置，且該抗眩蓋板d的製造方法以及使用說明詳見上述實施方式中的描述，此處不再贅述。
上述實施方式中，通過多步刻蝕在蓋板上製備出多個相分離的弧形微結構，能夠改善蓋板在高解析度面板表面的sparkle現象，有利於提升面板閱讀的舒適度。
綜上所述，本領域技術人員容易理解，本發明提供一種抗眩蓋板的製造方法及顯示裝置，通過多步刻蝕在蓋板上製備出多個相分離的弧形微結構，能夠改善蓋板在高解析度面板表面的sparkle現象，有利於提升面板閱讀的舒適度。
以上僅為本發明的實施方式，並非因此限制本發明的專利範圍，凡是利用本發明說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本發明的專利保護範圍內。