透明導電性薄膜及觸摸面板的製作方法

2023-10-07 10:24:59

透明導電性薄膜及觸摸面板的製作方法
【專利摘要】本發明涉及透明導電層進行了圖案化且能夠抑制因圖案部和圖案開口部的正下方之間的反射光的色相的差異導致的外觀惡化的透明導電性薄膜，以及使用其的觸摸面板。本發明的透明導電性薄膜(10)在透明基材(1)上依次形成有第1透明電介質層(2)及透明導電層(4)。優選的是，在將對圖案部(P)照射白色光時的反射光的色相a*值及色相b*值分別設為a*P及b*P、將對圖案開口部(O)的正下方照射白色光時的反射光的色相a*值及色相b*值分別設為a*O及b*O時，滿足0≤|a*P-a*O|≤4.00的關係，且滿足0≤|b*P-b*O|≤5.00的關係。
【專利說明】透明導電性薄膜及觸摸面板
[0001] 本申請是申請日為2010年9月28日、申請號為201080042102.X、發明名稱為"透 明導電性薄膜及觸摸面板"的申請的分案申請。

【技術領域】
[0002] 本發明涉及透明導電性薄膜及使用其的觸摸面板。

【背景技術】
[0003] 在可見光線區域透明且具有導電性的透明導電性部件，除了用於液晶顯示器、場 致發光顯示器等顯示器、觸摸面板等的透明電極W外，還用於物品的防靜電、電磁波阻斷 等。
[0004]W往，作為透明導電性部件，已知的是在玻璃上形成有氧化鋼薄膜的所謂導電性 玻璃，但是導電性玻璃由於基材為玻璃，因此挽性、加工性差，根據用途的不同，有時使用困 難。因此，近年來，從挽性、加工性W及耐衝擊性優異、輕量等優點考慮，使用將W聚對苯二 甲酸己二醇醋為首的各種塑料薄膜作為基材的透明導電性薄膜。
[0005] 作為觸摸面板等中用於檢測輸入位置的透明導電性薄膜，已知有具備具有規定的 圖案形狀的透明導電層的透明導電性薄膜。但是，將透明導電層圖案化時，圖案部和圖案開 口部（非圖案部）的差異明確化，有顯示元件的外觀變差之虞。
[0006] 為了改善將透明導電層圖案化時的外觀，例如，在下述專利文獻1中提出了在透 明基材和透明導電層之間形成透明電介質層的方案。
[0007] 現有技術文獻
[0008] 專利文獻
[0009] 專利文獻1:日本特開2009-76432號公報


【發明內容】

[0010] 發明要解決的巧穎
[0011] 然而，在W往的透明導電性薄膜中，圖案部和圖案開口部的正下方之間的反射光 的色相的差異導致圖案部和圖案開口部的邊界明確化，其結果，有顯示元件的外觀變差之 虞。
[0012] 因此，本發明提供透明導電層進行了圖案化的、可W抑制由圖案部和圖案開口部 的正下方之間的反射光的色相的差異導致的外觀惡化的透明導電性薄膜和使用其的觸摸 面板。
[0013] 巧於解決巧穎的方案
[0014] 為了達成上述目的，本發明的透明導電性薄膜的特徵在於，其為在透明基材上 依次形成有第1透明電介質層及透明導電層的透明導電性薄膜，上述透明導電層通過圖 案化形成有圖案部和圖案開口部，在將對上述圖案部照射白色光時的反射光的色相值 及色相6>值分別設為3^>及的>、將對上述圖案開口部的正下方照射白色光時的反射光的 色相a*值及色相b*值分別設為a*。及b*。時，滿足0《IaVa*。I《4.00的關係，且滿足 0《|lA-bg《5. 00的關係。需要說明的是，上述"反射光"是指，利用楓鶴燈，W10度入 射角從透明導電層側向圖案部或圖案開口部正下方照射白色光時的反射光。
[0015] 利用本發明的透明導電性薄膜，由於圖案部和圖案開口部正下方之間的反射光的 色相的差異得到抑制，因此難W辨別圖案部和圖案開口部，能夠提供外觀良好的透明導電 性薄膜。
[0016] 本發明的透明導電性薄膜優選的是，進一步具有配置在上述第1透明電介質層和 上述透明導電層之間的、折射率與上述第1透明電介質層不同的第2透明電介質層。該是 因為，能夠降低圖案部和圖案開口部正下方之間的反射率差，從而可進一步抑制圖案部和 圖案開口部的差異。
[0017] 本發明的透明導電性薄膜進一步具有上述第2透明電介質層時，優選上述第1透 明電介質層的光學厚度為3?45nm、優選上述第2透明電介質層的光學厚度為3?50nm、優 選上述透明導電層的光學厚度為20?lOOnm，將上述第2透明電介質層的折射率設為nl、 將上述透明導電層的折射率設為n2時，優選滿足nl<n2的關係。該是因為，利用該構成， 可進一步抑制圖案部和圖案開口部正下方之間的反射光的色相的差異。另外，由於能夠進 一步降低圖案部和圖案開口部正下方之間的反射率差，因此可進一步抑制圖案部和圖案開 口部的差異。需要說明的是，各層的"光學厚度"是指，各層的物理厚度（利用厚度計等測 定出的厚度）乘W該層的折射率所得的值。另外，本發明中的折射率是對波長589. 3nm的 光的折射率。需要說明的是，本發明中，物理厚度僅稱為"厚度"。
[0018] 上述第2透明電介質層優選通過圖案化而形成圖案部和圖案開口部。該是因為， 利用該構成，可進一步抑制圖案部和圖案開口部正下方之間的反射光的色相的差異。該情 況下，優選上述透明導電層的圖案部和上述第2透明電介質層的圖案部一致。該是因為，利 用該構成，可進一步抑制圖案部和圖案開口部正下方之間的反射光的色相的差異，而且可 進一步降低圖案部和圖案開口部正下方之間的反射率差。
[0019] 本發明的觸摸面板為包含上述本發明的透明導電性薄膜的觸摸面板。利用本發明 的觸摸面板，可得到與上述本發明的透明導電性薄膜的效果同樣的效果。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0020] 圖1是表示本發明的透明導電性薄膜的一例的剖面圖。
[0021] 圖2是表示本發明的透明導電性薄膜的另外的一例的剖面圖。
[0022] 圖3中A?C是表示本發明的透明導電性薄膜的其他例的剖面圖。

【具體實施方式】
[0023]W下，參照附圖對本發明的實施方式進行說明。需要說明的是，對於相同的構成要 素附上相同的符號而省略重複的說明。
[0024] 圖1是表示本發明的透明導電性薄膜的一例的剖面圖。圖1所示的透明導電性薄 膜10包括；透明基材1、和在該透明基材1上依次形成的第1透明電介質層2、第2透明電 介質層3及透明導電層4。透明導電層4及第2透明電介質層3進行了圖案化，分別形成有 圖案部P和圖案開口部0。另外，透明導電層4的圖案部P和第2透明電介質層3的圖案部 p-致。
[00巧]而且，關於透明導電性薄膜10,在將對透明導電層4的圖案部P照射白色光時 的反射光的色相3>值及色相6>值分別設為3^>及的、將對透明導電層4的圖案開口部 0的正下方照射白色光時的反射光的色相值及色相值分別設為a>。及時，滿足 0《|3*。-3*。|《4.00的關係，且滿足0《|的-町|《5.00的關係。由此，圖案部？和圖案 開口部0的正下方之間的反射光的色相的差異得到抑制，從而難W辨別圖案部P和圖案開 口部0,能夠形成外觀良好的透明導電性薄膜10。需要說明的是，所謂"圖案開口部0的正 下方"，在圖1的情況下，是指面向圖案開口部0的第1透明電介質層2的表面。為了進一步 抑制透明導電性薄膜10中上述反射光的色相的差異，優選的是，滿足〇《laVa*。！《3.00 的關係，且滿足〇《|的>-1/。|《4.50的關係。從同樣的觀點考慮，|曰^>-3>。|的值更優選為 0?2. 00、進一步優選為0?1. 00、更進一步優選為0?0. 70。
[0026] 從進一步抑制透明導電性薄膜10中圖案部P和圖案開口部0的正下方之間的反 射光的色相的差異的觀點、W及降低圖案部P和圖案開口部0的正下方之間的反射率差從 而進一步抑制圖案部P和圖案開口部0的差異的觀點考慮，優選透明導電性薄膜10滿足W 下的條件。目P，優選的是，透明導電性薄膜10中，第1透明電介質層2的光學厚度為3? 45皿、第2透明電介質層3的光學厚度為3?50皿、透明導電層4的光學厚度為20?100皿， 且在將第2透明電介質層3的折射率設為nl、透明導電層4的折射率設為n2時，滿足nl <n2的關係。各層的光學厚度的更優選的範圍是，第1透明電介質層2為3?22nm、第2 透明電介質層3為3?40皿、透明導電層4為20?75皿。
[0027] 作為透明基材1，沒有特別的限制，可使用具有透明性的各種塑料薄膜。例如，作為 其材料，可列舉出聚醋系樹脂、醋酸醋系樹脂、聚離諷系樹脂、聚碳酸醋系樹脂、聚醜胺系樹 月旨、聚醜亞胺系樹脂、聚帰姪系樹脂、（甲基）丙帰酸系樹脂、聚氯己帰系樹脂、聚偏二氯己 帰系樹脂、聚苯己帰系樹脂、聚己帰醇系樹脂、聚芳醋系樹脂、聚苯硫離系樹脂等。其中，特 別優選的是聚醋系樹脂、聚碳酸醋系樹脂、聚帰姪系樹脂。
[0028] 另外，也可W使用日本特開2001-343529號公報（W001/37007)中記載的高分子薄 膜。例如，可例示出含有側鏈具有取代和/或非取代亞氨基的熱塑性樹脂、和側鏈具有取代 和/或非取代苯基W及膳基的熱塑性樹脂的樹脂組合物。具體而言，還可使用含有由異下 帰和N-甲基馬來醜亞胺形成的交替共聚物、和丙帰膳-苯己帰共聚物的樹脂組合物的高分 子薄膜。
[002引透明基材1的厚度優選在2?200iim的範圍內、更優選在2?100iim的範圍內。 該是因為，厚度在該範圍內時，確保了基材的機械強度，且易於透明導電性薄膜10的薄膜 化。
[0030] 也可W對透明基材1的表面預先實施姍射、電暈放電、火焰、紫外線照射、電子射 線照射、化學轉化、氧化等蝕刻處理、底塗處理，提高設置在其上的第1透明電介質層2對透 明基材1的密合性。另外，在設置第1透明電介質層2之前，可W根據需要，通過溶劑清洗、 超聲波清洗等進行除塵、清潔化。
[0031] 第1及第2透明電介質層2、3可由無機物、有機物、或無機物和有機物的混合 物形成。例如，作為無機物，可列舉出NaF(l. 3)、化sAlFeQ. 35)、LiF(l. 36)、MgF2(l. 38)、 CaFs(1. 4)、BaFs(1. 3)、Si〇2(1. 46)、LaFs(1. 55)、CeFs(1. 63)、AI2O3(1. 63)等無機物（上述各 材料的括號內的數值為折射率。）。另外，除上述w外，也可w使用至少包含氧化鋼及氧化鋪 的複合氧化物。另外，作為有機物，可列舉出丙帰酸樹脂、氨基甲酸醋樹脂、H聚氯胺樹脂、 醇酸樹脂、娃氧焼系聚合物、有機娃焼縮合物及它們的混合物等。
[0032] 其中，第2透明電介質層3優選由無機物形成。該是因為，利用該構成，可防止第2 透明電介質層的光劣化，從而能夠提高透明導電性薄膜10的耐久性。該情況下，上述無機 物優選為Si化。Si化廉價且容易獲得，而且耐酸性高，因此利用酸蝕刻透明導電層4進行圖 案化時，可防止第2透明電介質層3的劣化。
[0033] 第1及第2透明電介質層2、3被設置於透明基材1和透明導電層4之間，不具有作 為導電層的功能。目P，第1及第2透明電介質層2、3W透明導電層4的圖案部P，P之間能 夠絕緣的方式作為電介質層設置。因此，第1及第2透明電介質層2、3的表面電阻為例如 ixi〇6q/nw上、優選為ixi〇7q/ □W上、更優選為ixi〇8q/nw上。需要說明的是， 第1及第2透明電介質層2、3的表面電阻的上限沒有特別限定。通常，第1及第2透明電 介質層2、3的表面電阻的上限為測定限界即1X10"Q/ □左右，也可W超過1X10"Q/□。
[0034] 透明導電層4的構成材料沒有特別限定，例如可W使用選自由鋼、錫、鋒、嫁、鍵、 鐵、娃、鉛、鎮、鉛、金、銀、銅、把及鶴組成的組中的至少1種金屬（或半金屬）的氧化物。該 氧化物中，可W根據需要進一步添加上述組中所示的金屬元素、其氧化物。優選使用例如含 有氧化錫的氧化鋼、含有鍵的氧化錫等。
[0035] 第1透明電介質層2的折射率（nO)優選為1. 3?2. 5、更優選為1. 4?2. 3。第2 透明電介質層3的折射率（nl)優選為1. 3?2.0、更優選為1. 3?1.6。透明導電層4的 折射率（n2)優選為1.9?2.1。只要各層的折射率在上述範圍內，則可確保透明性，且可有 效抑制圖案部P和圖案開口部0的正下方之間的反射光的色相的差異。
[0036]需要說明的是，從厚度的均勻性、防止龜裂的發生及提高透明性的觀點考慮，第1 透明電介質層2的厚度優選為2?30nm、更優選為2?12nm。從同樣的觀點考慮，第2透明 電介質層3的厚度優選為2?30nm。從同樣的觀點考慮，透明導電層4的厚度優選為10? 50nm、更優選為10?40nm、進一步優選為10?30nm。
[0037] 作為透明導電性薄膜10的製造方法，例如，可例示出具有W下工序的方法：在透 明基材1的單面，從透明基材1側開始依次形成第1透明電介質層2、第2透明電介質層3 及透明導電層4的工序；和利用蝕刻液蝕刻透明導電層4而進行圖案化的工序；和利用蝕 刻液蝕刻第2透明電介質層3而進行圖案化的工序。
[003引作為第1透明電介質層2、第2透明電介質層3及透明導電層4的形成方法，例如， 可列舉出真空蒸鍛法、姍射法、離子鍛法、塗覆法等，可W根據材料的種類及所需的厚度採 用適宜的方法。
[0039] 蝕刻透明導電層4時，利用用於形成圖案的掩模覆蓋透明導電層4,並利用酸等蝕 刻液蝕刻透明導電層4即可。作為上述酸，可列舉出；氯化氨、漠化氨、硫酸、硝酸、磯酸等無 機酸，醋酸等有機酸，及該些酸的混合物W及該些酸的水溶液。
[0040] 蝕刻第2透明電介質層3時，利用用於形成與蝕刻透明導電層4時同樣的圖案的 掩模覆蓋透明導電層4,並利用蝕刻液蝕刻第2透明電介質層3即可。如上所述，第2透明 電介質層3適宜使用Si化等無機物，因此，作為蝕刻液，適宜使用鹼。作為鹼，例如可W舉 出：氨氧化軸、氨氧化鍾、氨、四甲基氨氧化饋等的水溶液、及該些鹼的混合物。
[0041] 需要說明的是，將透明導電層4圖案化後，還可w根據需要，對圖案化了的透明導 電層4進行熱處理。該是因為，通過熱處理，透明導電層4的構成成分結晶化，能夠提高透 明性及導電性。此時的加熱溫度例如在100?150°C的範圍內，加熱時間例如在15?180 分鐘的範圍內。
[0042] 對於透明導電層4及第2透明電介質層3的圖案的形態，沒有特別的限定，可W根 據透明導電性薄膜10所適用的用途，形成條紋（stripe)狀等各種圖案。
[0043] 接著，參照圖2對本發明的另外的一例的透明導電性薄膜進行說明。如圖2所示， 透明導電性薄膜20在上述透明導電性薄膜10的透明基材1的圖中的下表面（目P，透明基 材1的與第1透明電介質層2處於相反側的面），介由透明粘合劑層5設置透明基體6。
[0044] 作為透明粘合劑層5的構成材料，只要是具有透明性的材料就可W沒有特別限定 地使用。例如，可W適當選擇W丙帰酸系聚合物、有機娃系聚合物、聚醋、聚氨醋、聚醜胺、聚 己帰離、醋酸己帰醋/氯己帰共聚物、改性聚帰姪、環氧系、氣系、天然橡膠、合成橡膠等橡 膠系等聚合物為基體聚合物的材料。特別是從光學透明性優異；表現出適當的潤溼性、聚集 性及粘接性等粘合特性；耐候性、耐熱性等也優異的方面考慮，優選使用丙帰酸系粘合劑。
[0045]另外，透明粘合劑層5通常由使基體聚合物或其組合物溶解或分散在溶劑中而得 到的粘合劑溶液（固體成分濃度為10?50重量％左右）形成。作為上述溶劑，可W適當 選擇甲苯、醋酸己醋等有機溶劑、水等對應粘合劑的種類的溶劑使用。
[0046] 透明基體6的厚度優選為10?300ym、更優選為20?250ym。另外，由多個基 體薄膜形成透明基體6時，各基體薄膜的厚度優選為10?200ym、更優選為20?150ym。 作為透明基體6、上述基體薄膜，可使用與上述透明基材1同樣的材料。
[0047] 對於透明基材1和透明基體6的貼合，可W預先在透明基體6側設置透明粘合劑 層5,然後將其與透明基材1貼合，相反，也可W預先在透明基材1側設置透明粘合劑層5， 然後將其與透明基體6貼合。利用後一種方法，可W對親狀的透明基材1連續地形成透明 粘合劑層5,因此，在生產率方面是更有利的。另外，也可W對透明基材1利用透明粘合劑層 (未圖示）依次貼合多個基體薄膜從而形成透明基體6。需要說明的是，基體薄膜的層疊中 使用的透明粘合劑層可W使用與上述透明粘合劑層5同樣的層。
[0048] 透明粘合劑層5例如在粘接透明基體6後，因其緩衝效果，具有提高設置在透明基 材1的一個面上的透明導電層4的耐擦傷性、作為觸摸面板用的打點特性（所謂筆觸輸入 耐久性、面壓耐久性）的功能。從更有效地發揮該功能的觀點考慮，優選將透明粘合劑層5 的彈性模量設定在1?lOON/cm2的範圍、將厚度設定在1ymW上（更優選為5?100ym) 的範圍。在該範圍內時，可W充分發揮上述效果，並且透明基體6和透明基材1的密合力也 充分。
[0049] 經由該樣的透明粘合劑層5貼合的透明基體6可W賦予透明基材1 W良好的機械 強度，能夠提高筆觸輸入耐久性、面壓耐久性。
[0050]另外，可W根據需要在透明基體6的外表面設置用於保護外表面的硬塗層（未圖 示）。作為該硬塗層，例如，優選使用由H聚氯胺系樹脂、氨基甲酸醋系樹脂、醇酸系樹脂、丙 帰酸系樹脂、有機娃系樹脂等固化型樹脂形成的固化覆膜。作為上述硬塗層的厚度，從硬度 的觀點及防止龜裂、捲曲發生的觀點考慮，優選為0. 1?30ym。
[0051] W上對本發明的一例的透明導電性薄膜進行了說明，但本發明不受上述實施方式 的限定。例如，在上述實施方式中，例示了第2透明電介質層進行了圖案化的情況，但第2透明電介質層也可W不進行圖案化。
[005引另外，在本發明中，也可W不設置第2透明電介質層。在該種情況下，優選W將第 1透明電介質層的折射率設為nO、將透明導電層的折射率設為n2時，滿足nO<n2的關係 的方式選擇構成材料。
[0053] 另外，在本發明中，如圖3的A?C所示，第2透明電介質層3和透明導電層4之 間也可W形成第3透明電介質層7。該情況下，可W像圖3的A的透明導電性薄膜30那樣 各透明電介質層不進行圖案化，也可W像圖3的B、C那樣一部分的透明電介質層進行圖案 化。目P，可W像圖3的B的透明導電性薄膜40那樣第3透明電介質層7進行圖案化，也可 W像圖3的C的透明導電性薄膜50那樣第2及3透明電介質層3、7進行圖案化。另外，雖 然沒有圖示，但也可W設置4層W上的透明電介質層。
[0054] 另外，本發明的透明導電性薄膜中，也可W設置用於提高可視性的防胺處理層、防 反射層。特別是用於電阻膜方式的觸摸面板時，可W與上述硬塗層同樣地在透明基體的外 表面（與透明粘合劑層處於相反側的面）設置防胺處理層、防反射層。另外，也可W在硬塗 層上設置防胺處理層、防反射層。另一方面，用於靜電容量方式的觸摸面板時，防胺處理層、 防反射層有時也會設置在透明導電層上。
[0055] 上述防胺處理層的構成材料沒有特別限定，例如可W使用電離福射固化型樹脂、 熱固化型樹脂、熱塑性樹脂等。防胺處理層的厚度優選為0. 1?30ym。
[0056] 作為上述防反射層，可使用氧化鐵、氧化鉛、氧化娃、氣化鎮等。為了進一步發揮防 反射功能，優選使用氧化鐵層和氧化娃層的層疊體。上述層疊體優選在透明基體、硬塗層上 形成折射率高的氧化鐵層（折射率：約2. 35)，然後在該氧化鐵層上形成折射率低的氧化娃 層（折射率：約1. 46)的2層層疊體。進而，更優選在該2層層疊體上依次形成氧化鐵層及 氧化娃層的4層層疊體。通過設置該樣的2層層疊體或4層層疊體的防反射層，能夠均勻 降低可見光線的波長範圍（380?780nm)的反射。
[0057] 本發明的透明導電性薄膜可W適宜用於例如靜電容量方式、電阻膜方式等的觸摸 面板中。
[00則 實施例
[0059]W下，結合比較例對本發明的實施例進行說明，但是本發明不被下述的實施例限 定性地解釋。需要說明的是，實施例及比較例中的評價利用下述所示的方法進行。
[0060]
[0061] 對於各層的折射率，使用AtagoCO巧oration製造的阿貝折射率計，在25. 0°C的 條件下，使測定光（波長：589. 3nm)入射到各測定面，利用該折射計所示的規定的測定方法 進行測定。
[0062]
[0063] 透明基材的厚度使用MiUltoyo Co巧oration製造的Microgage式厚度計進行測 定。對其他的層的厚度，利用日立製作所製造的透射型電子顯微鏡H-7650觀察截面來測 定。
[0064]
[0065] 使用島津製作所製造的分光分析裝置UV-240,測定波長550nm處的可見光的透射 率。
[0066]
[0067] 使用日立製作所製造的分光光度計U4100的積分球測定模式，W10度入射角測 定反射光譜，算出在波長450?650nm的區域處的圖案部和圖案開口部正下方的平均反射 率。然後，由它們的平均反射率的值算出圖案部和圖案開口部正下方之間的反射率差的絕 對值。需要說明的是，上述測定在如下狀態下進行，即，在透明導電性薄膜（樣品）的背面 側（透明基材側），使用黑色噴霧器形成遮光層，幾乎沒有來自樣品背面的反射、來自背面 側的光的入射的狀態。
[0068]
[0069] 從透明導電層側W10度入射角向圖案部或圖案開口部正下方照射白色光，使用 日立製作所製造的分光光度計U4100,測定此時的波長380?780皿的反射光的色相值 及值。利用W下的式子，由得到的測定值算出Aa>及AIA反射色彩的計算採用JISZ 8720中規定的標準的光D65,在2度視野的條件下進行。需要說明的是，在W下的式子中， 及的分別是指對圖案部照射白色光時的反射光的色相a*值及色相b*值，a*。及町分別 是指對圖案開口部正下方照射白色光時的反射光的色相值及色相值。
[0070] Aa* =Ia*p-a*〇
[0071] Ab* =Ib*p-b*〇
[0072]
[0073] 在太陽光下，將樣品放置在黑色的板上使透明導電層側朝上，W下述基準，通過目 視進行外觀的評價。
[0074] A;圖案部和圖案開口部的辨別困難。
[007引 B;能夠稍微辨別圖案部和圖案開口部。
[0076] C;能夠清晰辨別圖案部和圖案開口部。
[0077]
[007引（第1透明電介質層的形成）
[0079] 在厚度125ym的由聚對苯二甲酸己二醇醋薄膜下稱為陽T薄膜）形成的透明 基材（折射率nf=1.66)的一面塗覆H聚氯胺樹脂；醇酸樹脂：有機娃焼縮合物（重量比 為2 ;2 ;1)的熱固化型樹脂組合物，使其固化，形成第1透明電介質層（折射率nO= 1. 54、 厚度；4nm)。
[0080] (第2透明電介質層的形成）
[0081] 接著，在第1透明電介質層上，利用電子束加熱法W1X1(T2?3X1(T中a的真空度 真空蒸鍛Si〇2(折射率nl= 1. 46)，形成厚度為20nm的第2透明電介質層。
[0082] (透明導電層的形成）
[0083] 接著，在第2透明電介質層上，在氮氣98%和氧氣2%的混合氣體化4Pa)的氣氛 中，使用氧化鋼97重量％、氧化錫3重量％的燒結體材料，利用反應性姍射法形成作為透明 導電層的厚度22皿的IT0層（折射率n2 = 2. 00)。
[0084] (IT0層的通過蝕刻進行的圖案化）
[00財在上述IT0層上，形成圖案化為條紋狀的光致抗蝕劑膜後，將其在25°C、5重量％ 的鹽酸（氯化氨水溶液）中浸潰1分鐘，進行IT0層的蝕刻。所得的IT0層的圖案寬為5mm、 圖案間距（pitch)為1mm。
[0086] (第2透明電介質層的通過蝕刻進行的圖案化）
[0087] 在上述IT0層的整個圖案部上形成光致抗蝕劑膜後，將其在5(TC、2重量％的氨氧 化軸水溶液中浸潰1分鐘，進行IT0層的圖案開口部正下方的第2透明電介質層的蝕刻。所 得的第2透明電介質層的圖案寬為5mm、圖案間距為1mm。
[0088]
[0089] 實施例1中，除了將第1透明電介質層及第2透明電介質層的厚度調整為表1所 示的數值W外，進行與實施例1同樣的操作得到透明導電性薄膜。
[0090]
[0091] 實施例1中，除了用下述所示的方法形成第1透明電介質層，和將透明導電層（IT0 層）的厚度設為40皿W外，進行與實施例1同樣的操作得到透明導電性薄膜。
[0092] (實施例7的第1透明電介質層的形成方法）
[0093] 在厚度125ym的由PET薄膜形成的透明基材（折射率nf= 1.66)的一面，在氮 氣50%和氧氣50%的混合氣體化5Pa)的氣氛下，使用鐵祀，利用反應性姍射法，形成由氧 化鐵形成的第1透明電介質層（折射率nO= 2. 35、厚度；8nm)。
[0094]
[0095] 實施例1中，除了將第1透明電介質層及第2透明電介質層的厚度調整為表1所 示的數值W外，進行與實施例1同樣的操作得到透明導電性薄膜。
[009引
[0097] 實施例7中，除了將透明導電層（IT0層）的厚度設為55皿W外，進行與實施例7 同樣的操作得到透明導電性薄膜。
[009引
[0099] 實施例1中，除了將第1透明電介質層的厚度設為35nm，和不設置第2透明電介質 層W外，進行與實施例1同樣的操作得到透明導電性薄膜。
[0100] 對上述實施例及比較例的透明導電性薄膜（樣品）進行上述評價。結果示於表1。
[0101] 表1
[0102]

【權利要求】
1. 一種透明導電性薄膜，其特徵在於， 其為在透明基材上依次形成有第1透明電介質層及透明導電層的透明導電性薄膜， 所述透明導電層通過圖案化形成有圖案部和圖案開口部， 在將對所述圖案部照射白色光時的反射光的色相a#值及色相b#值分別設為a#P及b #P、 將對所述圖案開口部的正下方照射白色光時的反射光的色相a#值及色相b#值分別設為a、 及13*。時，滿足0彡|&*廠&*。|彡4.00的關係，且滿足0彡|1/ 1^*。|彡5.00的關係。
2. 根據權利要求1所述的透明導電性薄膜，其中，進一步具有配置在所述第1透明電介 質層和所述透明導電層之間的、折射率與所述第1透明電介質層不同的第2透明電介質層。
3. 根據權利要求2所述的透明導電性薄膜，其中， 所述第1透明電介質層的光學厚度為3?45nm， 所述第2透明電介質層的光學厚度為3?50nm， 所述透明導電層的光學厚度為20?lOOnm， 在將所述第2透明電介質層的折射率設為nl、將所述透明導電層的折射率設為n2時， 滿足nl〈 n2的關係。
4. 根據權利要求2所述的透明導電性薄膜，其中，所述第2透明電介質層通過圖案化形 成有圖案部和圖案開口部。
5. 根據權利要求3所述的透明導電性薄膜，其中，所述第2透明電介質層通過圖案化形 成有圖案部和圖案開口部。
6. 根據權利要求4所述的透明導電性薄膜，其中，所述透明導電層的圖案部和所述第2 透明電介質層的圖案部一致。
7. 根據權利要求5所述的透明導電性薄膜，其中，所述透明導電層的圖案部和所述第2 透明電介質層的圖案部一致。
8. -種觸摸面板，其包含權利要求1所述的透明導電性薄膜。
【文檔編號】G06F3/041GK104375701SQ201410594615
【公開日】2015年2月25日 申請日期:2010年9月28日 優先權日:2009年9月30日
【發明者】中島一裕, 菅原英男, 梨木智剛 申請人:日東電工株式會社