用於目標物體的位置的無接觸幹涉檢測的位置檢測系統和裝備有其的掃描系統的製作方法

2023-10-11 05:05:14 2

專利名稱：用於目標物體的位置的無接觸幹涉檢測的位置檢測系統和裝備有其的掃描系統的製作方法
技術領域：
本發明涉及用於目標物體的空間中的位置的無接觸幹涉檢測的位置 才企測系統以及包括其的掃描系統。
背景技術：
在許多使用領域中，存在確定目標物體的位置的問題。特別地，目標 物體能夠是以任意方式被移動或自身移動的部分。例如生產或測量機的部 件。
本發明特別關注要求具有1微米範圍或甚至比1微米更佳(亞微米範 圍)的精度的位置檢測的應用。在該領域中，主要使用所謂的雷射跟蹤系 統，通過其幹涉地確定期望的距離信息。這樣的系統具有目標物體單元， 其相對於目標物體處於固定的位置並且回射器固定於其上。雷射跟蹤系統 還包括具有測量光發射器的測量光發射器單元，通過該測量光發射器，激 光被輻射到目標物體單元的回射器上。回射器以其反射測量光束回到光源 的方式來配置。
測量光發射器單元包括幹涉儀設備和檢測器，由於測量光束與參考光 束的幹涉，檢測器產生幹涉測量信號，從該幹涉測量信號獲取幹涉測量數 據。這些幹涉測量數據允許以極高精度獲取關於回射器和測量光發射器單 元之間的距離(更精確地，關於距離的變化)的距離信息。該距離信息被 用於確定目標物體的期望位置。在多數情況中，該信息與關於回射器相對 於測量光發射器單元定位的立體角的角信息結合。
例如，在下列公開文本中描述了這樣的雷射跟蹤系統
(1) WO 2005/026772
(2) US 6,667,798 Bl
(3) WO 01/09643
(4) US 6,675,122 Bl公知的雷射跟蹤系統的缺點在於它們複雜的結構。特別地，對應於目 標物體的移動，測量光束的極精確跟蹤需要複雜的機械設計。
以此為基礎，本發明基於該技術問題以提供位置檢測系統，其需要較 小開銷，特別是關於高精確的、可移動的部分，但是可以獲得與雷射跟蹤 系統相當的、或比其更佳的精度。

發明內容
根據本發明，該問題通過用於目標物體的位置的無接觸幹涉檢測的位 置檢測系統來解決，該位置檢測系統包括目標物體單元和具有至少一個測 量光發射器的測量光發射器單元，具有相干光的測量光束從該至少一個測 量光發射器輻射到目標物體單元上，其中，由於測量光束與和該測量光束 相干的參考光束的幹涉，通過從檢測器產生的幹涉信號獲得的幹涉測量數
據來確定目標物體單元的位置，其特徵在於該目標物體單元包括參考光 發射器，該參考光發射器以其發射具有彎曲的光波前的參考光束的方式來 配置，該目標物體單元包括具有多個檢測器像素的至少 一個檢測器陣列， 該檢測器陣列以參考光發射器的參考光束照射到其上的方式被固定到該 目標物體單元，其中
該測量光束的波前照射到所述目標物體單元的檢測器陣列上，該測量 光束的波前的曲率小於該參考光束的波前的曲率，
該測量光束的波前和該參考光束的波前以足夠平行的取向僅照射在 該檢測器陣列的檢測器像素的部分上，以允許在該檢測器像素中產生幹涉 信號，
評估檢測器陣列的至少 一個產生幹涉信號的檢測器像素的幹涉信號， 以確定關於各自的檢測器像素和測量光發射器之間的距離的變化的距離 信息，且
使用該距離信息，確定該目標物體相對於該測量光發射器單元的位置。
目標物體單元可以是目標物體的部分或可以是緊固到目標物體的單 元(在任一情況中，位於相對於目標物體的限定位置中)。與公知的跟蹤 系統不同，該單元並非僅僅是被動反射器，而是包括參考光發射器和至少 兩個檢測器陣列的主動系統部件，當適當的幾何條件(將在下面解釋)滿 足時，檢測器陣列的檢測器像素能夠產生幹涉測量信號。為了確保測量光束和參考光束的相干性，其對於幹涉要求，2個光束都通過從相同的雷射 光源分束來得到，且有利地通過柔性的光傳導光纜一方面被傳播到光發射 器單元，並且另一方面被傳播到目標物體單元。
通過本發明，獲得尤其下列優點
不要求測量光束的精確跟蹤。事實上，測量光束被大致定向到目標物 體單元使得其以足夠的強度照射在其的檢測器陣列上是足夠的。因此，通 常位置檢測不要求機械移動。即使測量光束的方向必須由於目標物體的大 範圍移動而變化，由於低精度的要求，也能夠以簡單且節省成本的方式實 現該移動。
在公知的雷射跟蹤系統中，回射器的髒的汙染物導致測量精度的限 制，但對於本發明不存在類似的問題。
由於公知的雷射跟蹤系統的測量精度受至回射器上的入射角的變化 影響，所以其產生了其它問題。這是本發明所消除的測量精度的另一個限制。
在公知的跟蹤系統中，距離信息的精度也受測量光沿發射器和接收器 之間的光路傳播兩次的事實所影響。因此，例如由系統部件的振動所導致 的某些測量誤差對總誤差起兩次作用。但是，在本發明中，測量光在測量 光發射器單元和目標物體單元之間的光路僅傳播一次。
本發明不《又允許以非常高速度確定目標物體單元(並因此目標物體) 的位置還允許確定它們在空間中的取向。
總之，以減小的花銷獲得了改進的技術性能。
如所解釋的，位置檢測系統能夠用於不同的使用領域，尤其是生產和 測量技術中。在上述引用的文獻(1)至(4)中提到了這樣的使用領域。 在(5)美國專利6,134, 507中示出了其他例子。
根據本文獻,使用雷射跟蹤器以標定所謂非接觸傳感器的位置。此處 所述是光學系統，其允許檢測自動製造線中(例如在汽車生產中)的所制 造的物體的特徵結構，以允許另外的部分精確配合安裝到部分完成的物 體。也在這樣的情況中，可以有利地使用位置檢測系統來代替傳統的雷射 跟蹤器。其它感興趣的使用領域是迷你致動器的夾持器系統，如用於研究 或生產過程中的元件的非常精確的移動。
本發明的特別重要的使用領域是物體的表面的掃描。
術語"掃描，，在此總的以這樣的意義來理解，即其是指獲得關於表面上的多個測量點的位置信息(此後稱為"表面掃描信息，，)以檢測空間中 的表面的位置和形狀的任意方法。這不僅尤其涉及物體的確切維度的確定 ("維度檢查")，而且涉及表面的結構特徵，例如其粗糙度。
對於表面掃描，主要使用坐標測量機。它們包括具有多維、高精確的 驅動器的定位裝置和由定位裝置相對於將被檢查的物體移動的掃描傳感 器，從而由掃描傳感器掃描物體的表面。作為掃描傳感器，主要使用機械 的掃描器，其用細尖端或小球接觸將被測量的物體，由電子裝置檢測此接 觸。因此能夠獲得高至亞微米範圍的非常高精度。為獲得該期望的表面掃 描信息，需要關於傳感器的位置的相應的精確的位置信息。為確保這個， 坐標測量機必須被非常精確的構建。這要求高花銷。而且， 一方面由於掃 描速度是受限制的，且另 一方面由於在敏感的且彈性的表面的情況中不可 避免存在損害或測量偏差，所以機械的掃描具有顯著缺陷。
基於此，本發明也涉及用於掃描物體表面的改進的掃描系統，其中該 系統包括掃描傳感器和定位裝置，通過定位裝置，被緊固到定位裝置的掃 描傳感器能夠相對於其表面將被掃描的物體移動到不同的期望位置。這 裡，通過使用根據本發明的位置檢測系統，以減小的結構花銷獲得非常高 的精度，其中位置檢測系統的目標物體單元被定位在相對於掃描傳感器的 限定的位置(優選地剛性地緊固到其上)，使得通過目標物體單元的位置 的檢測來獲得傳感器位置信息。為確定期望的表面掃描信息，通過位置檢 領'J系統獲得的傳感器位置信息與傳感器掃描信息組合。
優選的，使用定位機器人作為用於表面掃描的定位裝置。其具有多維 可移動機器人臂。掃描傳感器和目標物體單元被固定到該機器人臂。使用
定位機器人的掃描系統在DE 102004039760 Al中描述。這裡，球形殼體 被接附在機器人臂的遠端。 一方面，其形成通過其機械地掃描表面的掃描 尖端。另一方面，其包括通過雷射跟蹤系統能夠確定其位置的回射器。該 設計的目的為獲得亞毫米範圍的精度。在本發明的上下文中，利用了由定 位機器人的使用所導致的優點(寬操作範圍，大的運動自由度，其允許非 常複雜的表面的跟蹤；與坐標測量機相比低成本)。同時，獲得了與DE 102004039760Al相比顯著較高的精度，範圍低至亞微米範圍。
優選的，在根據本發明的表面掃描系統的上下文中，使用無接觸地操 作的掃描傳感器。合適的掃描傳感器的優選的設計特徵在US2005/0190371 Al， WO2005/088241 Al和國際專利申請PCT/EP 2006/011586中描述。這些文獻的內容通過引用的方式包含在本專利申請中。通過將其中所述的掃 描傳感器和此處所述的掃描系統的設計特徵相組合，可以以最高精度、快 速方式且相對低的花銷掃描即使非常複雜的表面。


本發明通過圖中所示的示例性實施例在之後更詳細地描述。所述的特
徵能夠被單獨或組合使用以提供本發明的優選實施例。圖中
圖1示出根據本發明的掃描系統的示意性側視圖，部分地為框圖，包 括定位機器人和掃描傳感器，掃描傳感器的位置通過根據本發明的位置檢 測系統來衝企測，
圖2示出用於圖解關於測量光和參考光的幾何條件的詳細視圖，在本 發明的上下文中該幾何條件是基本要素，和
圖3示出適於本發明的檢測器陣列的替代實施例的側視圖。
具體實施例方式
圖1示出用於掃描物體3的表面2的掃描系統1。掃描系統1包括無 接觸操作掃描傳感器5和具有多維可移動機器人臂8的定位機器人7,定 位機器人7用作用於掃描傳感器的定位裝置6。
通過定位機器人7,掃描傳感器5能夠以其(優選地光學地)掃描表 面2的方式被引導越過物體3的表面2。因此掃描傳感器5和表面之間的 距離的變化能夠被高精度地檢測。除了在此所述的特殊性外，合適的掃描 傳感器和定位機器人是公知的。在此方面，能夠參考尤其是上述的文獻。
為獲得關於表面2的期望的表面掃描信息，除了由掃描傳感器提供的 掃描信息外，還必須準確地檢測掃描傳感器的位置。為該目的，使用位置 檢測系統，其包括作為兩個分開的部件的測量光發射器單元10和與測量 傳感器5剛性聯接的目標物體單元11。相對於位置檢測系統，傳感器5形 成其位置被位置檢測系統檢測的目標物體。
在所圖解的情況中，測量光發射器單元IO具有兩個光發射器13a和 13b，且目標物體單元11具有兩個檢測器陣列14a和14b,如將更詳細解 釋的，每個探測器陣列包括多個光敏檢測器像素。光發射器13的數目和 檢測器陣列14的數目應優選地對應於位置檢測問題的維數。當位置的檢 測是一維問題(例如，由於目標物體僅沿準確限定的路徑移動並因此通過確定測量光發射器單元和目標物體單元之間的距離可以獲得關於目標物 體的全部位置信息)， 一個光發射器和一個檢測器陣列足以。但是，特別 適合的是對於分別多維位置檢測或掃描的本發明，其中光發射器單元包括
至少2個，優選的至少3個光發射器，且目標物體單元包括至少2個，優 選的至少3個檢測器陣列。
光發射器的最小數目和檢測器陣列的最小數目優選地對應於問題的 維數。因此，對於二維問題，該數目分別至少為2,且對於三維問題，該 數目分別至少為3。光發射器和/或檢測器陣列的數目大於相應的問題維數 不是必需的，但是通過冗餘來獲得對幹擾因素的顯著地高魯棒性可能是有 利的。
例如通過相應的多個分開的諸如CCD晶片的電子部件，能夠提供多 個檢測器陣列。但是，原則上，也可以在具有適當大的面積的單個部件上 提供多個檢測器陣列。在該情況中，各自的部分量的像素形成各自的有效 的檢測器陣列。每個檢測器陣列優選地具有至少 一行沿線延伸的檢測器像 素，該線優選地為直的。
測量光發射器13a和13b每個以它們的測量光束16a和16b的每個照 射到檢測器陣列14的每個上的方式朝著目標物體單元11輻射相干光。激 光光源17a和17b被用作相干測量光的光源。測量光從這些光源通過光纖 18a、 18b,光耦合器19a、 1%和進一步的光纖20a、 20b,皮傳播到相位調 制器單元21，並從那裡到位於光纖端部處的發射點，該發射點形成光發射 器13a、 13b。
目標物體單元11包括參考光發射器23,參考光發射器23像測量光發 射器13a和13b —樣由位於光纖光纜24的端部的光發射點形成。通過參 考光光纖光纜24,在光耦合器19a、 19b中從雷射光源17a、 17b的光中分 流的參考光被傳播到參考光發射器23。從參考光發射器23,參考光束25 以其照射到目標物體單元11的每個檢測器陣列14a、 14b上的方式輻射。
關於測量光束16a、 16b和參考光束25的疊加波前，如果滿足一定條 件，其將在後面更詳細解釋，則形成檢測器陣列14a、 14b的其中一個像 素或多個像素在每個陣列中產生幹涉信號。關於產生幹涉信號的各自的檢 測器像素分別和測量光發射器13a或13b (且因此測量光發射器單元10) 之間的距離變化的距離信息能夠從這些幹涉信號來確定。用於確定距離信 息的千涉信號的處理以公知的方式通過也被用在雷射跟蹤系統中的技術來進行。優選的，測量光束16a、 16b的光通過相位調製器單元21來調製 頻率。測量光束16a、 16b的光優選地被不同地調製以允許所產生的幹涉 信號的分開。該不同的調製能夠是相位調製和幅度調製。通過圖1中僅象 徵性地示出的中央單元26進行信號處理，測量數據能夠通過未示的數據 線或無線地發射到該中央單元26。中央單元26也產生用於系統的有效部 件(雷射光源17、相位調製器單元21、定位機器人7和掃描傳感器5)的 控制信號。
圖1示出對於二維問題的具有2個光發射器和2個檢測器陣列的二維 視圖。通過分別確定每個陣列的(至少) 一個幹涉信號產生檢測器像素和 每個光發射器之間的距離，能夠完全確定目標物體單元的位置，因此確定
目標物體的位置，包4舌其在空間內的:f又向(例如，由四個空間坐標x、 y、 傾斜和傾向表示)。在三維問題的情況中，如上所解釋的，優選地提供至 少3個光發射器和3個檢測器陣列。因此，能夠確定所有的6個空間坐標
(x, y, z，傾斜，傾向，旋轉)，其全面地描述了空間中的目標物體的位 置和取向。
在所示的位置檢測系統9中，從作為分束器的光耦合器19a、 19b到 參考光發射器23的光路非常長的事實產生技術問題。由於定位機器人7 的移動，能夠發生參考光纖光纜24的(較小的)動態伸長。在對所確定 的距離信息的精度的要求非常高的情況中，要求這樣的動態伸長所導致的 參考光路的長度變化的補償。這能夠通過參考光的部分反饋來實現。
為該目的，參考光纖光纜24以參考光的部分被反射回到光纖光纜24 中的方式形成在參考光發射器23的區域中。同樣，光纖光纜20a、 20b也 以測量光的部分被反射回到所述光纖光纜中的方式在光發射器13a、 13b 的區域中形成。所反射回的光部分二者通過光耦合器19a、 19b到達補償 器單元27a、 27b，在補償器單元27a、 27b中發生2個光部分的幹涉。從 所產生的幹涉信號，能夠確定關於與測量光路(光纖光纜20a、 20b)相比 參考光路(光纖光纜24)的動態長度變化的信息，該信息對於補償是必需 的。基於該信息，能夠補償由光纖光纜(特別是到參考光發射器的長光纜) 的動態伸長所導致的誤差。
此後，參考圖2,解釋必需滿足的幾何條件，以即使相對於目標物體 單元，因此相對於其檢測器陣列，測量光束的入射角在寬的角度範圍內變 化，也允許在沒有可移動部分的情況下產生幹涉信號。圖2示出相對於檢測器陣列14的表面的法線N以cc角入射的測量光 束16。由於從光發射器13的距離遠大於檢測器陣列14的伸長的事實，測 量光束16的波前29近似直地延伸。在任意情況下，它們的曲率度顯著小 於參考光束25的波前30的曲率，參考光束25照射在從參考光發射器23 經由半透明鏡32到檢測器陣列14的顯著較短的路徑上。
用於允許幹涉信號的測量的條件為測量光束16和參考光束25的局部 波前足夠平行地照射到陣列14的檢測器像素31上。因為幹涉信號的可評 估性尤其依賴於所使用的測量電子設備，所以不能提供關於與此平行要求 可允許的偏差的確切信息。公式a = X/(2d)允許近似的估計。在波長入= 630nm且^r測器像素的直徑d= 10jum的情況下，基於此公式計算可允許 的角度偏差為oc-0.03 rad或1.7° 。
圖2中的視圖示出由于波前29、 30的不同的曲率，僅對於檢測器陣 列14的一個或少數鄰近檢測器像素31滿足該條件。在圖3中，這應用到 陣列14的第8檢測器像素，該像素被標識為31-8。
因此，在沒有可移動部分的情況下，通過遵照關於測量光束和參考光 束從其開始的點(光發射器)的位置和關於兩個束的波前的相關的曲率結 合合適的檢測器陣列的所解釋的幾何條件，明顯的能夠捕獲較大範圍入射 角的測量光束16。相對於測量光束16的波前，參考光束25的波前的曲率 度越高，測量光束16和檢測器陣列14的法線N之間的可評估角oc越大。 同時，幹涉相鄰像素的數目減小。本發明的實驗評估已經示出對於平面檢 測陣列(在公共的平面中布置檢測器像素)的角a大約為± 45。至最大± 60。。 這對於大多數使用情況是足夠的。萬一較大的範圍是必要的，能夠選擇圖 3中所示^f企測器陣列的布置，其中陣列的不同部分14- 1和14-2被^i向 為互相成角P,其中角(3優選為至少30°。
所述發明可以有多種變化，其中尤其要考慮以下內容
不同的電子部件適於製造檢測器陣列，只要它們包括允許光的位置分 辨檢測的多個光敏元件。優選的，檢測器陣列的光敏元件(像素)沿線延 伸，該線優選地(但不是必需的)直地延伸。考慮到成本和功能，CCD檢 測器陣列尤其合適。
在本發明的上下文中所使用的光的波長無需在可視範圍內。因此，在 本發明的意義中的"光，，也表示鄰近可視範圍的電磁波(接近IR以及UV )。
各自的光發射器處的測量光束和參考光束的波前的曲率由存在於該處的光條件來確定。使用點光源，產生球形波前。但是，通過合適的輸出 光學器件，只要滿足關於照射到檢測器陣列的不同的曲率的所解釋的條 件，也能夠產生適合於本發明的不同的(非球形的)彎曲的波前。
圖1中所示的配置由於實踐原因是有利的，但不是必須的，在該配置
中對應於多個光發射器13a、 13b的(相干的且因此適於幹涉的)參考光 在相同(共同)的點(參考光發射器23)離開。也可以在目標物體單元為 參考光提供多個離開位置(參考光發射器)。
如所解釋的，位置檢測系統原則上可以在沒有可移動部分的情況下運
行。但是，需要測量光以足夠的強度照射到目標物體單元的檢測器陣列上。 因此，其必須被足夠寬地輻射。如果為了強度原因要求較高集中的測量光 或在目標物體的非常大的移動範圍的情況下，可以提供轉動裝置，其將測 量光導引到目標物體單元上。但是，和雷射跟蹤器系統不同，測量光的大 致取向是足夠的，其可以以節省成本的方式獲得。
權利要求
1、用於目標物體(11)的位置的無接觸幹涉檢測的位置檢測系統，包括目標物體單元(11)，和具有至少一個測量光發射器(13)的測量光發射器單元(10)，具有相干光的測量光束(16)從所述至少一個測量光發射器(13)輻射到所述目標物體單元(11)上，其中，由於所述測量光束(16)與和所述測量光束(16)相干的參考光束(25)的幹涉，使用從檢測器產生的幹涉信號獲得的幹涉測量數據來確定所述目標物體單元(11)的位置，其特徵在於所述目標物體單元(11)包括參考光發射器(23)，所述參考光發射器(23)以其發射具有彎曲的光波前(30)的參考光束(25)的方式來配置，所述目標物體單元包括具有多個檢測器像素(31)的至少一個檢測器陣列(14)，所述檢測器陣列(14)以所述參考光發射器(23)的參考光束(25)照射到其上的方式被固定到所述目標物體單元(11)，其中所述測量光束(16)的波前(29)照射到所述目標物體單元(11)的所述檢測器陣列(14)上，所述測量光束(16)的波前(29)的曲率小於所述參考光束(25)的波前(30)的曲率，所述測量光束(16)的波前(29)和所述參考光束(25)的波前(30)以充分平行的取向僅照射在所述檢測器陣列(14)的檢測器像素的部分(31-8)上，以允許在所述檢測器像素(31-8)中產生幹涉信號，評估所述檢測器陣列(14)的至少一個產生幹涉信號的檢測器像素(31-8)的幹涉信號以確定關於所述各自的檢測器像素(31-8)和所述測量光發射器之間的距離變化的距離信息，且使用該距離信息來確定所述目標物體相對於所述測量光發射器單元(10)的位置。
2、根據權利要求1所述的位置檢測系統，其特徵在於，所述檢測器陣列(14)包括一行檢測器像素(31),其沿線延伸，所述線優選為直的。
3、 根據前述權利要求的任意一項所述的位置檢測系統，其特徵在於， 所述位置檢測系統包括用於調製所述測量光束(16)的相位調製器(21)。
4、 根據前述權利要求的任意一項所述的位置檢測系統，其特徵在於， 所述目標物體單元(ll)包括多個檢測器陣列(14a， 14b)，至少為2個，優選的為至少3個，所述多個檢測器陣列(14a, 14b)的每個具有多 個檢測器像素(31)，所述多個檢測器陣列(14a, 14b)以所述參考光發 射器(23)的所述參考光束(25)照射到其上的方式被固定到所述目標物 體單元(11 )，其中所述至少一個測量光束(16)的波前(29)和所述參 考光束(25)的波前以充分平行的取向僅照射在每個檢測器陣列(14a, 14b)的檢測器像素(31)的部分上，以允許在所述檢測器像素(31-8) 中產生千涉信號，且使用通過評估所述多個檢測器陣列(14a， 14b)的每個的至少一個產 生幹涉信號的檢測器像素(31-8)的幹涉信號所獲得的距離信息來確定 所述目標物體相對於所述測量光發射器單元(10)的位置。
5、 根據前述權利要求的任意一項所述的位置檢測系統，其特徵在於， 所述測量光發射器單元(10)具有多個測量光發射器(13a, 13b),至少為2 個，優選的為至少3個，所述多個測量光發射器(13a， 13b)的每個適於輻射 測量光束(16a， 16b)到所述目標物體單元上。
6、 根據權利要求5所述的位置檢測系統，其特徵在於，其包括調製 器，通過所述調製器，所述多個測量光發射器(13a， 13b)的所述多個測量光 束(16a, 16b)被不同地調製。
7、 用於掃描將被掃描的物體(3)的表面(2)的掃描系統，包括 掃描傳感器(5)，和定位裝置(6),通過所述定位裝置(6),被固定到所述定位裝置(6) 的掃描傳感器(5)能夠相對於所述將被掃描的物體移動到不同的期望位 置，其特徵在於，其包括根據前述權利要求的任意一項所述的用於檢測位置的位置檢 測系統(9)，其中所述目標物體單元被定位在相對於所述掃描傳感器的限 定的位置，使得通過所述目標物體單元(11)的位置的檢測來確定所述掃 描傳感器(5)的位置，和通過所述定位系統確定的所述傳感器(5)位置信息和所述傳感器掃 描信息一起被處理來產生期望的表面掃描信息。
8、 根據權利要求7所述的掃描系統，其特徵在於，所述定位裝置包 括具有多維可移動機器人臂(8)的定位機器人(7)，其中所述掃描傳感 器(5)和所述目標物體單元(11)被固定到所述機器人臂(8)。
9、 根據權利要求7或8的任意一項所述的掃描系統，其特徵在於， 所述掃描傳感器(5)無接觸地操作。
全文摘要
本發明涉及用於目標物體的位置的無接觸幹涉檢測的位置檢測的系統。目標物體單元(11)包括參考光發射器(23)，其被配置使得其發射具有彎曲的光波前(30)的參考光束(25)。該目標物體單元包括具有多個檢測器像素(31)的至少一個檢測器陣列(14)，其被緊固到目標物體單元(11)，使得參考光發射器(23)的參考光束(25)照射到其上。
文檔編號G01B9/02GK101595364SQ200780049135
公開日2009年12月2日 申請日期2007年12月5日 優先權日2007年1月2日
發明者A·克努特 申請人:艾斯聖創有限公司