測量玻璃板中畸變的量規的製作方法

2023-10-08 08:09:29 6

專利名稱：測量玻璃板中畸變的量規的製作方法
測量玻璃板中畸變的量規
背景技術：
發明領域
本發明一般涉及坐標測量設備，尤其涉及用於測量平面基板中的畸變的裝 置和方法。
背景技術：
為測量玻璃板在經受致畸變處理(例如切割、退火)時的畸變，通常在處 理之前和之後測量玻璃上標記的位置。作為處理結果的這些標記位置的變化量 被定義為畸變。當前的基板畸變量規通常是將機器視覺與精確運動組合以便於
用高精確度測量位置的坐標測量機器(CMM)。
在一種當前方法中，常規CMM設計採用與使用標記網格劃線的機座上的 固定玻璃基準板一起的單個相機的精確運動。可相對於基準板固定網格制定部 分標記位置。單個相機在各種位置間運動以測量玻璃上每個標記的位置。這些 當前單個相機CMM需要使用昂貴且易碎的精確運動部件。附加地，單個相機 的運動可減少所獲得測量值的總量。因而，在本領域中存在對坐標測量機器的 需要，該坐標測量機器可提供一種便宜的方式來快速且準確地測量基板在經歷 一些形式的處理時的畸變，諸如在它被切割成較小塊時的應力釋放或者在它被 熱退火時的壓實。

發明內容
本發明提供一種可快速且準確測量諸如玻璃板之類的平面基板在它經歷 一些形式的致畸變處理時的畸變的便宜裝置，這些致畸處理諸如在它被切割成 較小塊時的應力釋放或者在它被熱退火時的壓實。 一般而言，本發明的裝置包 括多個圖像捕捉設備(基板上的每一個基準標記用一個設備)，並且採用多個圖像捕捉設備來測量處理之前和之後的標記位置。圖像捕捉設備位置維持不變 並且因而在測量過程期間不運動。因而，將在各個相應圖像捕捉設備的視場
(FOV)內直接測量標記位置變化。
因為在測量過程期間未移動或觸摸本發明的多圖像捕捉設備坐標測量系 統，所以該系統是非常穩定且魯棒的。此外，多個固定圖像捕捉設備的實現消 除了對於先前用來定位圖像捕捉設備的昂貴精確運動系統的需要。更進一步 地，因為多圖像捕捉設備自身提供穩定的基準系統，所以也不再需要易碎的玻 璃基準平面。
可由本發明的各個方面提供若干優點和益處。首先，因為完全在相機的 FOV內確定標記位置，所以可避免對於相機運動的需要(如在現有技術中所表 示的)。還可使用新系統同時進行多標記位置的測量，然而現有技術需要單個 相機從一個標記到一個標記的運動，這增大了總的測量時間。更進一步地，因 為不需要高精確的運動系統或者易碎的基準平面，所以本發明的裝置的維護相 對較少。
因此，在一方面，本發明提供用於測量平面基板中的畸變的坐標測量裝置。 該裝置包括基座組件以及圖像捕捉設備的多維陣列，該基座組件包括具有配置 成接受平面基板的頂面的底板。各個圖像捕捉設備具有視場，並且被定位在與 底板的頂面的至少一部分平行且疊加對準的平面中。進一步使多個圖像捕捉設 備的取向與多維陣列的平面垂直，以使各個圖像捕捉設備的視場可捕捉底板的 頂面的至少一部分。更進一步地，臺架運動系統可選擇性地使多個圖像捕捉設 備的每一個定位在多維陣列的平面內定義的預定坐標中。
在另一方面，本發明還提供一種用於測量平面基板中的畸變的方法。該方 法包括提供平面基板，該平面基板在其表面上具有可視的多個畸變基準標記。 使用圖像捕捉組件針對每個基準標記生成基準圖像，圖像捕捉組件包括相對於 多個基準標記定位以使每個基準標記在多個圖像捕捉設備之一的視場中的多 個圖像捕捉設備的固定陣列。在生成基準圖像之後，基板經受致畸變處理情況， 在此之後，使用用來生成基準圖像的圖像捕捉設備的固定陣列針對每個基準標 記生成處理後的圖像。然後比較處理後的圖像以及基準圖像以在多個圖像捕捉 設備的視場內測量在使平面基板經受致畸變處理情況之前和之後的基準標記的定位之間的任何偏差。
在又一方面，本發明還提供一種用於比較兩個或更多個平面基板的尺寸參 數的方法。根據此方面的方法包括提供平面主基板，該平面主基板在其表面上 具有多個可視的尺寸基準標記。使用圖像捕捉設備的陣列生成各個主基板基準 標記的基準圖像，該圖像捕捉設備的陣列定位在相對於多個基準標記的預定位 置中以使各個基準標記在多個圖像捕捉設備之一的視場中。然後可提供第二平 面基板，第二平面基板在其表面上具有多個可視的尺寸基準標記。然後使用定 位在預定位置中的用來生成主基板的基準圖像的圖像捕捉設備的陣列生成各 個第二基板基準標記的基準圖像。在獲得第二基板的基準圖像之後，該方法進 一步包括將第二基板的基準圖像與主基板的基準圖像進行比較以在多個圖像 捕捉設備的視場內測量第一基板和第二基板尺寸基準標記的定位之間的任何 尺寸差異。根據此方面，示例性的基準標記可在評估之下包括基板的一個或多 個角落和/或一個或多個邊緣部分。
將在詳細描述以及隨後的任何權利要求中部分地闡述本發明附加的實施 例，並且將部分地來自該詳細描述、或者可通過實踐本發明來掌握。應當理解， 上述一般描述和以下詳細描述僅僅是示例性和說明性的而不是限制所公開的 本發明。
附圖簡述
包含在此並構成本說明書一部分的


了本發明的某些方面，並且與 說明書一起用來說明而非限制本發明的原理。
圖1示出根據本發明一方面的示例性坐標測量裝置。在其它方面中，示出 選擇性地定位成與底板以及置於其上的基板的至少一部分對準的多個圖像捕 捉設備的單個示例性圖像捕捉設備。
圖2示出根據本發明一方面的示例性基座組件。
圖3示出根據本發明一方面的圖像捕捉設備的示例性多維陣列的示意性
俯視圖。
圖4示出根據本發明一方面的圖像捕捉設備的示例性多維陣列的示意性 俯視圖，圖像捕捉設備被選擇性地定位成與底板對準。圖5示出根據本發明一方面的示例性坐標測量裝置。特別地，多維陣列的 示例性圖像捕捉設備與計算機連通。另外，還示出通過底板的頂面延伸的多個 真空口與真空源連通。
詳細描述
提供本發明的以下描述作為在其最佳的、當前已知的實施例中的本發明的 可能的示教。所以，相關領域的那些技術人員將認識且理解可對在此所述的發 明的各種實施例作各種改變，而仍能獲得本發明的有益結果。還將顯而易見地， 可通過選擇本發明的某些特徵而不採用其它特徵來獲得某些本發明的所需益 處。因此，在本領域工作的那些人將認識到本發明的許多修改和改變是可能的， 並且在某些環境中可以甚至是令人期望的並且是本發明的一部分。因而，提供 以下描述作為本發明的原理的說明且不是其限制。
如在此所使用，單數形式的"一"、"一個"以及"該"包括複數指示物， 除非上下文另外明確地指出。因而，例如，引用"成像設備"包括具有兩個或 更多個這種成像設備的實施例，除非上下文另外明確地指出。
可在此表達範圍為從"約" 一個具體值，和/或至"約"另一具體值。當 表達這種範圍時，另一實施例包括從一具體值和/或至另一具體值。類似地，當 表達值為近似值時，通過使用先行詞"約"，將理解該具體值形成另一實施例。 將進一步理解，每個範圍的端點關於另一端點以及獨立於另一端點都是重要 的。
如以上所簡單地總結，在第一方面中，本發明提供一種用於測量平面基板 經受致畸變處理時的畸變的坐標測量裝置。參考附圖，示出了示例性的坐標測 量裝置100以及其各種部件。如圖1所示，該裝置通常包括配置成接受平面基 板200的基座組件110。還設置圖像捕捉設備122的多維陣列120 (注意僅 為說明目的，圖1描述多圖像捕捉設備陣列的單個示例性圖像捕捉設備)。每 個圖像捕捉設備122具有單獨的視場124，並且可在與基座組件的至少一部分 平行且疊加對準(in overlying registration)的平面中定位。在一個方面，多個 圖像捕捉設備122的取向可垂直於多維陣列120的平面，以使每個圖像捕捉設 備的視場可捕捉基座組件的頂面的至少一部分，並且因此捕捉其上所接受的平面基板的至少一部分。更進一步地，可使多個圖像捕捉設備的每一個選擇性地 定位在多維陣列的平面內定義的預定坐標中。圖像捕捉設備的選擇性定位可使 每個圖像捕捉設備的視場定位成使它能捕捉基座組件上所接受的基板表面的 所需部分。
參考圖2，示出示例性基座組件110。該基座組件110由具有平面頂面112(a) 的平面底板112構成，定該平面頂面112(a)的定尺寸和形狀以接受置於其上的 平面基板200。所以，底板可被按比例擴縮至任何所需尺寸以便於容納從，例 如，面積為若干平方釐米的基板樣品至面積為若干平方米的較大的基板樣品。 更進一步地，底板優選地由魯棒且穩定的材料構成，諸如自然或合成的石材。 例如，在一方面，底板由經精磨的花崗巖構成。
基座組件110還可包括用於在相對於底板的預定取向上對準所接受的平 面基板的裝置。例如，在一方面，可由一個或多個擋針(fence pin) 114或沿 平面底板的一個或多個邊緣定位的停止件來提供平面基板的機械定位。例如， 如所示，可沿底板的兩個正交邊緣放置多個擋針114。根據此方面，平面底板 112可定義穿過底板的頂面延伸並且配置成接受至少一部分相應擋針的多個 孔。由底板定義的孔可接受多個擋針以提供適用於在所需位置對準基板的示例 性擋板。
在又一方面，基座組件可進一步包括一種用於將平面基板可鬆開地附著到 底板的頂面的裝置。例如，在一方面，底板可進一步定義多個穿過底板的頂面 延伸並且與真空源117選擇性地連通的真空口 116。在使用中，可把負壓力施 加到覆蓋一個或多個真空口的基板表面部分上，以便於將基板可鬆開地附著到 底板的頂面。替換地，在另一方面，底板的頂面可包括也與真空源117連通的 一個或多個插入多孔片(poroustile)(未示出)。再一次，在使用時，真空源 可將負壓力施加到覆蓋一個或多個多孔插入片的基板表面部分上，以便於將基 板可鬆開地附著到底板的頂面。
參考圖3，示出了圖像捕捉設備122的示例性多維陣列120的示意圖。特 別地，每個圖像捕捉設備具有預定視場124，並且被定位在與底板112的頂面 的至少一部分平行且疊加對準的平面中。在一個方面，如圖4所示，多個圖像 捕捉設備122的取向垂直於多維陣列120的平面，以使每個圖像捕捉設備的視場可捕捉底板的頂面的至少一部分，並且因此捕捉其上所接受的基板表面200
的至少一部分。如上所述，可使多個圖像捕捉設備的每一個選擇性地定位在多 維陣列的平面內定義的預定坐標中。每個圖像捕捉設備的選擇性定位可使每個 圖像捕捉設備的視場定位成使它能捕捉底板的頂面的所需部分和/或定位在底 板上的平面基板的所需部分。
在一方面，多維陣列120可以是兩維陣列，可選擇性地定位在笛卡爾坐標 系的X和Y軸中。替換地，圖像捕捉設備的多維陣列120還可以是三維陣列， 可選擇性地定位在笛卡爾坐標系的X、 Y和Z軸中。所以，多維陣列可包括任 何所需數目的圖像捕捉設備。例如，在一方面，坐標測量裝置可包括至少兩個 圖像捕捉設備。在另一方面，該陣列包括至少三個圖像捕捉設備。在又一方面 且如圖3和圖4所示，多維陣列可包括至少四個圖像捕捉設備。
圖像捕捉設備的多維陣列可安裝在常規臺架運動系統上，以使圖像捕捉設 備懸掛在裝置的底板部分上。根據此方面，可由臺架運動系統提供各個圖像捕 捉設備的選擇性定位，可將該臺架運動系統配置成使任何一個或多個圖像捕捉 設備選擇性地定位在多維陣列的平面內定義的預定坐標中。例如，可用臺架運 動系統來使多個圖像捕捉設備的任何一個或多個能在與底板的平面平行的平 面中的"x"或"y"軸上橫向調整。更進一步地，在另一方面中，圖像捕捉設 備的任何一個或多個可在與底板平面至少基本垂直的"z"軸上移動，以便於 相對於底板的頂面升高或降低圖像捕捉設備。
可以預期，在一個方面中，可通過電氣控制臺架系統，以在多維陣列的平 面內定義的預定坐標中使多個圖像捕捉設備選擇性地定位和鎖定，以使適當的 目標在多個圖像捕捉設備的視場內。替換地，在另一方面，可以預期，可手動 地控制臺架系統，只要適當的目標在特定圖像捕捉設備的視場內，就可以使每 個圖像捕捉設備選擇性地定位和鎖定。
在替換方面中，且如圖5中的示例所示，可把多維陣列的一個或多個圖像 捕捉設備安裝在臂組件130上，臂組件130從鄰近底板頂面的一部分基座組件 延伸，並且延伸越過底板自身的至少一部分。如所示，可使臂組件的基座部分 選擇性地定位在由基座組件的X和Y軸定義的平面內的預定坐標上，以便於 使圖像捕捉的視場定位在相對於底板和/或其上所接受的基板表面的所需位置上。例如，可通過調整臂組件的高度來提供Z軸中的運動。替換地，還可通
過相對於臂組件升高或降低圖像捕捉設備的位置來提供圖像捕捉設備在z軸
的運動。更進一步地，應理解，臂組件可由適用於在底板112的至少一部分上 吊掛一個或多個圖像捕捉器件的任何常規材料構成。例如，如附圖中所例示地， 臂組件可由按堆疊排列放置的一個或多個塊130(a)、 (b)、 (c)構成。在一方面， 這些塊可由諸如經精研的花崗巖材料之類的石材形成。
可根據本發明使用的圖像捕捉設備可包括基於常規兩維電荷耦合器件 (CCD)陣列的模擬和/或數字電子相機。附加地，在一方面中，也可使用基 於常規一維CCD或互補型金屬氧化物半導體(CMOS)陣列的電子相機。這 些在本領域中通常被稱為行掃描相機。示例性的可購得圖像捕捉設備是Teli 型TK5572A7、具有640乘480像素清晰度並配備有Motic PLAN APO EL WD 20X/0.42 WD-20物鏡的模擬兩維CCD相機。更進一步地，本領域的一名普通 技術人員將理解，在使用模擬相機的那些方面中，該系統將進一步包括與模擬 圖像捕捉設備連通的數字轉換器。可使用的示例性數字轉換器是具有針對4個 相機的多路輸入的Matrox Meteor II幀接收器。
還把多個圖像捕捉設備設置成與諸如計算機140之類的常規電子設備和 數據處理設備電連通，使該常規電子設備和數據處理設備配置成接收並分析從 多個圖像捕捉設備接收的電子圖像饋入。例如，可使由每個圖像捕捉設備提供 的圖像數據發送到計算機，並且為標記或目標位置而進行處理。在一方面，一 旦完成了處理後的測量值，計算機還可以計算玻璃樣品的畸變值。
在使用中，本發明的坐標測量設備還提供一種用於測量平面基板中的畸變 的方法。該方法包括提供平面基板，平面基板在其表面上具有可視的多個畸變 基準標記。在一方面中，基板可以是平面的玻璃基板，諸如液晶顯示器(LCD) 玻璃板。還可由用於標記的任何常規已知方法提供基板上的多個基準標記。例 如，且非限制，可由劃痕、不能消除的墨水、或雷射器技術提供基準標記。替 換地，基板自身的一個或多個角落或邊緣可適用於作為基準標記。
可使用本發明的圖像捕捉組件獲得每個基準標記的基準圖像，包括相對於 多個基準標記定位以使每個基準標記在多個圖像捕捉設備之一的視場中的多 個圖像捕捉設備的固定陣列。例如，可把經基準標記的基板樣品放置在平面機器基座的頂面上，並且抵靠多個檔針而調整或對準到所需位置。然後可起動真 空源以將基板牢固地保持在位。可機械地調整每個圖像捕捉設備的位置以使基 板上相應的目標或的基準標記焦點對準，並且在相應的圖像捕捉設備的視場之 內。在示例性方面中,且不旨在限制，此調整可涉及三個自由度，即沿與平面基
座表面的頂面至少基本平行的平面的X和Y軸、以及在與平面機器基座的頂
面的平面至少基本垂直的z軸上的運動自由度。在一方面，可由配備有可變焦 距透鏡的圖像捕捉設備提供Z軸上的運動自由度，該可變焦距透鏡可相對於Z 軸調整或聚焦。替換地，還可由圖像捕捉設備沿Z軸的相對運動提供Z軸上的 運動自由度，這對於具有單個或固定焦距的圖像捕捉設備尤其有用。
一旦調整到所需位置，就可使每個圖像捕捉設備牢固地鎖定在位。然後可 命令常規計算機以獲取並處理來自各個相應的圖像捕捉設備的視頻輸出的各 個基準標記的圖像。例如，可用圖像的處理來生成並存儲指示相應圖像捕捉設 備的視場內的各個基準標記的初始位置的數據。在一方面，在尺寸至少基本一 致的樣品集的情況下，可按批處理方式進行基板畸變測量。因而，在此方面，
可停止使用真空源以能去除先前樣品並且加載後續樣品而獲得基準圖像。通過 重複此工藝，只要相機位置未被擾亂，就可為基準圖像測量一系列任何數目的 樣品。
在另一方面，多個圖像捕捉設備還設置成與諸如計算機之類的常規電子設 備和數據處理設備電連通，該常規電子設備和數據處理設備可接收並分析從多 個圖像捕捉設備接收的電子圖像饋入。例如，可把每個圖像捕捉設備的視頻輸 出發送到計算機中的數位化硬體，在該計算機中軟體抓取圖像並為標記或目標 位置處理它們。 一旦完成了處理後的測量，計算機軟體還為玻璃樣品計算畸變 值。
在獲得經標記的平面基板的參考圖像之後，然後可使基板經受可導致平面 基板的畸變的任何一個或多個常規製造工藝或處理情況。例如，且非限制性， 處理情況可包括平面基板的切割和/或熱退火。
在使平面基板經受致畸變處理情況之後，然後可把平面基板放回底板部分 的頂面以便於獲得各個基準標記的處理後的圖像。 一旦放置在底板的頂面上， 基板再次抵靠多個檔針而調整或對準，並且可再次起動真空源以將基板牢固定地保持在位。然後使用圖像捕捉設備的固定陣列在它們用來生成初始基準圖像 的相同位置獲得每個基準標記的處理後的圖像。再一次，可命令常規計算機電 子設備和軟體以獲取和處理來自各個相應圖像捕捉設備的視頻輸出的各個基 準標記的處理後的圖像。例如，可用圖像的處理來生成並存儲指示相應圖像捕 捉設備的視場內的各個基準標記的畸變位置的數據。如上所述，在尺寸至少基 本一致的樣品集的情況下，通常按批處理方式進行基板畸變測量。因而，在此 方面，可停用真空源以能去除先前的處理後的樣品並且加載後續樣品而獲得基 準圖像。通過重複此工藝，只要相機位置未從生成相應基準圖像的初始位置被 擾亂，還可為處理後的圖像而測量一系列任何數目的處理後的樣品。
在獲得各個畸變基準標記的處理後的圖像之後，可對各個基準標記的相對 位置與各個相應的畸變處理後的基準標記的相對位置進行比較以在多個圖像 捕捉設備的視場內測量在使平面基板經受致畸變處理情況之前和之後的基準 標記的定位之間的任何偏差。因此，可用使用常規數學算法的計算機軟體來計 算從處理情況獲得的特定樣品的總畸變值。例如，在一方面，可用可購得的
Matrox Meteor II幀接收器以及Matrox檢査器圖像捕捉和分析軟體包(都可從 Matrox電子系統有限公司，魁北克(Quebec)，加拿大(Canada)購得)對 圖像進行數位化並處理，以提供在各個圖像捕捉設備的FOV內的基準標記位 置的XY坐標。
在替換使用中，可用本發明的坐標測量設備來比較多個基板的一個或多個 尺寸參數。例如，可用此測量技術來相對於第一或主基板比較一個或多個第二 (和後續)基板的大小。根據此方面的方法可包括提供平面的第一或主基板， 在其表面上具有多個可視的尺寸基準標記。可使用圖像捕捉設備的陣列生成各 個主基板基準標記的基準圖像，該圖像捕捉設備的陣列被定位在相對於多個基 準標記的預定位置中，以使各個基準標記在多個圖像捕捉設備之一的視場中。 然後提供在其表面上具有多個可視的尺寸基準標記的一個或多個第二平面基 板，並且使用定位在與用來生成第一或主基板的基準圖像相同的預定位置中的 圖像捕捉設備陣列生成各個第二基板基準標記的基準圖像。然後可使一個或多 個第二基板的基準圖像與主基板的基準圖像作比較，以在多個圖像捕捉設備的 視場內檢測和/或測量第一基板和第二基板尺寸基準標記的定位之間的任何尺寸差異。
根據此方面，基板可以再次是平面玻璃基板，諸如液晶顯示器(LCD)玻 璃板。更進一步地，還可由用於標記的任何常規已知方法提供基板上的多個尺 寸基準標記。例如，且非限制，可由劃痕、不能消除的墨水、或雷射器技術提 供基準標記。替換地，尺寸基準標記可包括基板自身的一個或多個角落或邊緣 部分。
在又一方面中，該方法可結合入基板裝配或生產線，藉此使針對尺寸差異 被評估的一個或多個第二基板附著到傳輸系統或者否則被傳輸系統操作，該傳 輸系統在圖像捕捉設備的陣列的適當視場內使各個後續第二基板定位。因而， 根據此方面，可獲得一個或多個第二基板的尺寸測量而無需中斷裝配或生產 線。
最後，應理解，雖然已關於某些說明性的且具體的實施例詳細描述了本發 明，但是不應認為被限制於此，因為多個修改是可能的而不背離由權利要求書 所定義的本發明的寬泛的精神和範圍。
權利要求
1.一種用於測量平面基板中畸變的方法，所述方法包括以下步驟提供平面基板，在其表面上具有可視的多個畸變基準標記，使用圖像捕捉設備的陣列生成各個基準標記的基準圖像，使所述圖像捕捉設備的陣列定位在相對於所述多個基準標記的預定位置中以使各個基準標記在所述多個圖像捕捉設備之一的視場中；使所述平面基板經受致畸變處理情況；使用在所述預定位置中的圖像捕捉設備的陣列生成各個基準標記的處理後的圖像；以及將各個基準圖像的處理後的圖像與各個基準標記的基準圖像進行比較以在所述多個圖像捕捉設備的視場內測量在使所述平面基板經受所述致畸變處理情況之前和之後的所述基準標記的定位之間的任何偏差。
2. 如權利要求l所述的方法，其特徵在於，所述基板是玻璃。
3. 如權利要求1所述的方法，其特徵在於，所述致畸變處理情況是熱退火。
4. 如權利要求l所述的方法，其特徵在於，所述致畸變處理情況是切割。
5. 如權利要求1所述的方法，其特徵在於，同時生成各個基準標記的基 準圖像。
6. 如權利要求1所述的方法，其特徵在於，同時生成各個基準標記的處 理後的圖像。
7. —種用於比較兩個或更多個平面基板的尺寸參數的方法，所述方法包 括以下步驟提供平面主基板，在其表面上具有可視的多個尺寸基準標記，使用圖像捕捉設備的陣列生成各個主基板基準標記的基準圖像，使所述圖像捕捉設備的陣列定位在相對於所述多個基準標記的預定位置中以使各個基準標記在所述多個圖像捕捉設備之一的視場中；提供第二平面基板，在其表面上具有可視的多個尺寸基準標記； 使用定位在所述預定位置的圖像捕捉設備的陣列生成各個第二基板基準標記的基準圖像；以及將所述第二基板的基準圖像與所述主基板的基準圖像進行比較以在所述多個圖像捕捉設備的視場內測量所述第一基板和第二基板尺寸基準標記的定 位之間的任何尺寸差異。
8. 如權利要求7所述的方法，其特徵在於，所述尺寸基準標記包括所述 第一和第二基板的一個或多個邊緣部分。
9. 如權利要求7所述的方法，其特徵在於，所述尺寸基準標記包括所述 第一和第二基板的一個或多個角落部分。
10. 如權利要求7所述的方法，其特徵在於，所述主和第二基板是玻璃。
11. 如權利要求7所述的方法，其特徵在於，包括提供多個第二平面基板， 在各個的表面上具有可視的多個尺寸基準標記；使用定位在所述預定位置的圖像捕捉設備的陣列生成所述多個第二平面 基板的每一個的各個第二基板基準標記的基準圖像；以及將所述多個第二基板的每一個的基準圖像與所述主基板的基準圖像進行 比較以在所述多個圖像捕捉設備的視場內測量所述主基板和所述多個第二基 板尺寸基準標記的定位之間的任何尺寸差異。
12. —種用於測量平面基板中的畸變的坐標測量裝置，其包括 基座組件，其包括具有配置成接受所述平面基板的頂面的底板；以及 圖像捕捉設備的多維陣列，各個圖像捕捉設備具有視場並且被定位在與所述底板的頂面的至少一部分平行且疊加對準的平面中；其中使所述多個圖像捕捉設備取向成與所述多維陣列的平面垂直，以使各 個圖像捕捉設備的視場可捕捉所述底板的頂面的至少一部分；以及其中可使所述多個圖像捕捉設備的每一個選擇性地定位在所述多維陣列 的平面內定義的預定坐標中。
13. 如權利要求12所述的坐標測量裝置，其特徵在於，所述基座組件進 一步包括一種用於相對於所述底板對準所接受的平面基板的裝置。
14. 如權利要求12所述的坐標測量裝置，其特徵在於，所述基座組件進 一步包括一種用於將所述平面基板可鬆開地附著於所述底板的裝置。
15. 如權利要求12所述的坐標測量裝置，其特徵在於，所述底板由石材構成。
16. 如權利要求15所述的坐標測量裝置，其特徵在於，所述石材是花崗山石。
17. 如權利要求12所述的坐標測量裝置，其特徵在於，所述多維陣列是 兩維陣列。
18. 如權利要求12所述的坐標測量裝置，其特徵在於，所述多維陣列是 三維陣列。
19. 如權利要求12所述的坐標測量裝置，其特徵在於，所述多維陣列包 括至少三個圖像捕捉設備。
20. 如權利要求12所述的坐標測量裝置，其特徵在於，所述多維陣列包 括至少四個圖像捕捉設備。
21. 如權利要求12所述的坐標測量裝置，其特徵在於，所述圖像捕捉設 備是相機。
22. 如權利要求12所述的坐標測量裝置，其特徵在於，圖像捕捉設備的 多維陣列進一步包括臺架系統，所述臺架系統用於將所述圖像捕捉設備選擇性 地定位在所述多維陣列的平面內定義的預定坐標中。
23. 如權利要求22所述的坐標測量裝置，其特徵在於，可手動地控制所 述臺架系統使所述圖像捕捉設備定位在所述多維陣列的平面內定義的預定坐 標中。
24. 如權利要求22所述的坐標測量裝置，其特徵在於，可電氣地控制所 述臺架系統使所述圖像捕捉設備定位在所述多維陣列的平面內定義的預定坐 標中。
25. 如權利要求12所述的坐標測量裝置，其特徵在於，所述多個圖像捕 捉設備與計算機電連通，所述計算機可接收並分析來自所述多個圖像捕捉設備 的電子圖像饋入。
全文摘要
公開了一種用於測量一個或多個平面基板中畸變和或尺寸變化的坐標測量裝置。在一方面，坐標測量裝置包括基座組件，其包括底板，該底板具有配置成接受平面基板的頂面；以及圖像捕捉設備的多維陣列，每個圖像捕捉設備具有視場並且被設置在與底板的頂面的至少一部分平行且疊加對準的平面中。使多個圖像捕捉設備的取向與多維陣列的平面垂直，以使各個圖像捕捉設備的視場可捕捉底板的頂面的至少一部分。進一步地，可使多個圖像捕捉設備的每一個選擇性地定位在多維陣列的平面內定義的預定坐標中。
文檔編號G01B11/245GK101542231SQ200780042959
公開日2009年9月23日 申請日期2007年11月16日 優先權日2006年11月21日
發明者R·W·夏普斯 申請人:康寧股份有限公司