感光性組合物和圖像形成方法

2023-05-05 20:08:46

專利名稱：：感光性組合物和圖像形成方法
技術領域：
：本發明涉及一種感光性組合物，該組合物用於如抗蝕劑或電鍍防護劑，所述抗蝕劑或電鍍防護劑用於在如印刷線路板、液晶顯示元件、等離子體顯示、大規模集成電路、薄型電晶體、半導體封裝、濾色片或有機電致發光體中形成如導體電路或電極加工基板，具體地說，本發明涉及適用於以諸如氦氖雷射器、氬離子雷射器、釔鋁石榴石雷射器、HeCd雷射器、半導體雷射器或紅寶石雷射器等曝光光源直接記錄的感光性組合物以及採用該組合物的圖像形成方法。
背景技術：
：迄今為止，在例如印刷電路板、液晶顯示元件、等離子體顯示、大規模集成電路、薄型電晶體、半導體封裝、濾色片或有機電致發光體中，用於形成例如導體電路或電極加工基板的感光性組合物可以是下列兩種類型。即，公知的兩類感光性組合物負型感光性組合物和正型感光性組合物，作為負型感光性組合物，通常有以下兩種組合物之一包含烯屬不飽和化合物、光聚合引發劑和鹼溶性樹脂(例如含羧基的樹脂)，通過光照射使所述烯屬不飽和化合物聚合併固化，從而使該組合物在鹼性顯影劑中變得不溶；或組合物之二，該組合物包含含酚羥基的樹脂(例如聚乙烯基苯酚樹脂)、用於所述樹脂的交聯劑、含酸性可交聯基團的樹脂(例如含環氧基的甲階酚醛樹脂)和光酸產生劑(例如滷甲基化均三嗪衍生物)，所述光酸產生劑在光照射下產生酸，所述酸使該組合物發生交聯從而變得不溶於鹼性顯影劑。此外，作為正型感光性組合物，通常有包含含酸分解性基團的樹脂(例如包含酸分解性基團諸如烷氧基的聚乙烯基苯酚樹脂)和光酸產生劑(例如滷甲基化均三嗪衍生物)的組合物等，所述光酸產生劑在光照射下產生酸，所述酸使該組合物分解而變得可溶於鹼性顯影劑。此外，為了形成例如導體電路或電極加工基板，廣泛使用平版印刷術，其包括下列步驟(l)在臨時支持膜上形成該感光性組合物層，以被覆膜覆蓋該感光性組合物層的表面以得到幹膜抗蝕材料，剝離該被覆膜後將所述幹膜抗蝕材料層壓在被加工基板上以製備圖像形成元件，或直接在被加工基板上形成感光性組合物層並根據情況需要在其上形成保護層，以製備圖像形成元件，該圖像形成元件的感光性組合物層通過畫有電路或電極圖案的掩膜進行圖像曝光；(2)然後剝離掩膜；(3)此外，如果形成臨時支持膜或保護層等，則將其剝離；(4)用鹼性顯影劑溶解並除去作為無圖像部分(在負型情況下)的未曝光部分或用鹼性顯影劑溶解並除去作為無圖像部分(在正型情況下)的曝光部分，以形成與電路圖案對應的抗蝕劑圖像；和(5)對以抗蝕劑圖像為抗蝕劑的被加工基板進行例如蝕刻或電鍍，然後除去抗蝕劑圖像，從而在所述被加工基板上形成掩膜上所描繪的電路圖案或電極圖案。此外，近年來，雷射直接記錄方法受到了關注，該方法根據例如計算機的數字信息，採用雷射束作為曝光光源，不使用掩膜直接形成圖像，因為這樣不僅可以改善生產性能而且可以改善解析度性能、定位精度等。因此，人們也已經在積極地研究雷射束在平版印刷術中的應用。作為雷射束，已知有各種自紫外區至紅外區的光源，但是作為用於圖像曝光的雷射束，考慮到輸出功率、穩定性、曝光性能、花費等，目前主要採用可產生從可見光區域至紅外區等光線的如氬離子雷射器、氦氖雷射器、釔鋁石榴石(YAG)雷射器或半導體雷射器。例如，實踐中已經使用了採用波長488nm的氬離子雷射器或波長532nm的FD-YAG(倍頻YAG)雷射器的平版印刷術，並且對應於365nm紫外雷射器的用於印刷線路板的材料已經商品化。然而，傳統感光性組合物在利用雷射束的直接記錄方法中不一定具有適當的靈敏度，並且當採用可見光雷射束時，該感光性組合物在黃色燈下缺乏安全光性能，並存在需要在暗室環境中例如用紅燈照明的環境中作業的限制。另一方面，隨著近年來雷射技術的顯著進步，可以穩定地在青紫色區域中振蕩的半導體雷射器已變得有用，該雷射器可以在明亮環境例如用黃色燈照明的環境中作業。然而，由於與其它雷射束例如可見光區域的雷射束相比，該雷射器的輸出功率較低，因此不僅必須改善該感光性組合物的靈敏度，而且，特別是對於在感光性組合物層較厚的狀態下使用的抗蝕材料而言，該組合物與所要得到的圖像的高解析度性能、矩形性能等不對應，並且實際上該感光性組合物在直接記錄方法中和平版印刷術中均未達到實用水平。另一方面，作為感光性組合物，為了改善青紫色區域中的靈敏度，已經提出一種用於平版印刷術的光聚合性組合物，該組合物包含芳香環中具有至少一個乙烯基並且鄰位和對位的至少一個位置由硫原子取代的化合物作為增感劑，並結合使用二茂鈦型化合物作為聚合引發劑(JP-A-2002-169282)。然而，對於作為抗蝕材料的感光性組合物，特別是經由幹膜抗蝕材料在需加工的基板上形成的感光性組合物，其厚度較大，為至少10微米。此外，在作為生產例如印刷線路板中的步驟的電鍍步驟中，因為近年來線路的線寬變細，要求電鍍厚度較厚，因此仍然需要改善青紫色區域中的靈敏度。另一方面，當組合物具有高靈敏度時存在在黃色燈下安全光性能易於降低的問題。此外，已經嘗試將與紫外雷射對應的上述材料應用於青紫色雷射束，然而，對於高靈敏度型來說，得到的圖像在解析度性能和矩形性能方面較差，而高解析度型又在靈敏度方面較差。
發明內容在上述條件下得到了本發明，本發明的目的是提供負型青紫色雷射感光性組合物，該組合物對青紫色區域中的雷射束具有高靈敏度並且在黃色燈下具有優異的安全光性能，此外，該組合物將使所得到的圖像具有優異的解析度性能和矩形性能，特別地，該組合物可用作幹膜抗蝕材料的感光層，並且其適用於利用青紫色雷射束的直接記錄。此外，本發明的目的還在於提供一種採用該組合物的圖像形成材料、圖像形成元件和圖像形成方法。為克服上述問題，本發明人已作了廣泛研究，結果發現通過使該感光性組合物中青紫色雷射束的曝光量與薄膜殘留率之間或者顯影速度與曝光量之間具有特定關係，可達成上述目的，因此完成了本發明。艮P，本發明的要旨在於一種負型青紫色雷射感光性組合物，其特徵在於，該組合物在曝光於青紫色雷射束時，使薄膜殘留率達到至少90%的最小曝光量至多為40mJ/cm2，而且，以曝光部分上的薄膜殘留率(《％》對青紫色雷射束的曝光量對數(logE(mJ/cm、)作圖，在得到的薄膜殘留率/曝光量曲線中，連接所述薄膜殘留率的15%點和80%點的下列公式(1)的直線的Y值至少為4.0X12:t=ylogE+S(1)此外，本發明的要旨在於一種負型青紫色雷射束感光性組合物，其特徵在於，該組合物在曝光於青紫色雷射束時，使薄膜殘留率達到至少90%的最小曝光量至多為40mJ/cm2，而且，由曝光部分處的薄膜殘留率(t(Q/o))計算得到溶解薄膜率(1004(%))後，在以該溶解薄膜率(100<%))除以顯影時間(T(秒))得到的顯影速度(s^lOO-tVT(%/秒))對青紫色雷射束的曝光量對數(logE(mJ/cm^)作圖而得到的顯影速度/曝光量曲線中，連接最大顯影速度的80%點和20%點的下列公式(2)的直線的01值至少為12:s=-alogE+p(2)此外還發現，當所述感光性組合物為包含烯屬不飽和化合物和光聚合引發劑作為基本組成的負型感光性組合物(在下文中有時稱為光聚合性組合物)時，可以實現上述目的，其中所述組合物中的阻聚劑的量為特定的較少量，更優選將在特定波長範圍內具有最大吸收的化合物用作增感劑。即，作為本發明優選實施方案，上述感光性組合物是負型感光性組合物，該組合物包含烯屬不飽和化合物和光聚合引發劑作為基本組成，其中，所述感光性組合物中阻聚劑的含量為5至60ppm。此外，作為另一個優選實施方案，上述感光性組合物包含在330至450nm的波長範圍中具有最大吸收的化合物作為增感劑。在這裡，對於光聚合性組合物，在被認為是光聚合性組合物中的必要組分的烯屬不飽和化合物中加入阻聚劑是為了防止生產時發生聚合或為了賦予產物以儲存穩定性。此外，為了賦予光聚合性組合物以成層性，生產時可根據情況需要將阻聚劑加入要使用的聚合物粘合材料。而且，除了將阻聚劑加入烯屬不飽和化合物和聚合物粘合材料以防止例如光聚合性組合物熱聚合或隨時間聚合之外，還在製備組合物時加入阻聚劑以確保光聚合性組合物的穩定性，結合其餘光聚合抑制劑的量，阻聚劑總量通常至少為100ppm。因此，控制光聚合性組合物中阻聚劑的含量為相對少量與本領域熟練技術人員的常識矛盾。此外，本發明的要旨在於一種負型青紫色雷射感光性圖像形成材料，其特徵在於，在臨時支持膜上形成上述負型青紫色雷射感光性組合物的層；一種負型青紫色雷射感光性圖像形成元件，其特徵在於，在需加工的基板上，在所述負型青紫色雷射感光性組合物層一側層壓上述負型青紫色雷射感光性圖像形成材料；以及一種圖像形成方法，其特徵在於，用波長390至430nm的雷射束對上述負型青紫色雷射感光性圖像形成元件的負型青紫色雷射感光性組合物層進行掃描曝光，隨後對其進行顯影處理以顯影圖像。發明效果本發明組合物對青紫色區域的雷射束具有高靈敏度，在黃色燈下具有優異的安全光性能，並使所得到的圖像具有優異的解析度性能和矩形性能。特別地，本發明提供一種可用作幹膜抗蝕材料感光層並適用於利用青紫色雷射束的直接記錄的負型青紫色雷射感光性組合物和採用該組合物的圖像形成材料、圖像形成元件以及圖像形成方法。圖1是本發明實施例1和2以及對比例1至3的青紫色雷射感光性組合物的薄膜殘留率/曝光量曲線。圖2是本發明實施例1和2以及對比例1至3的青紫色雷射感光性組合物的顯影速度/曝光量曲線。具體實施方式{最小曝光量}本發明的負型青紫色雷射感光性組合物(在下文中本發明的負型青紫色雷射感光性組合物有時可以簡稱為青紫色雷射感光性組合物)在曝光於青紫色雷射束時，使薄膜殘留率達到至少90%的最小曝光量為至多40mJ/cm2，優選為至多20mJ/cm2，特別優選至多IOmJ/cm2。使薄膜殘留率達到至少90%的最小曝光量是指在以下條件下得到的使薄膜殘留率達到至少90%的最小曝光量通過改變曝光量，對在支持物上形成的尺寸為0.5cmX0.5cm且厚度為5至100微米的感光性組合物層施加波長範圍400至410nm的青紫色雷射束的全面曝光，然後在25'C、0.15MPa下在該組合物層上噴灑作為顯影劑的0.7重量％的碳酸鈉水溶液，並進行顯影，所述顯影的時間為在相同條件下通過顯影使未曝光的感光性組合物層完全溶解所需的時間(斷點)的1.5倍。最小曝光量的下限沒有特別限制，優選為儘可能小，但是通常為至少lmJ/cm2。{薄膜殘留率/曝光量曲線和訶直}進一步地說，對於本發明的青紫色雷射感光性組合物必不可少的是使薄膜殘留率達到至少90%時的最小曝光量至多為40mJ/cm2,此外，在以曝光部分上的薄膜殘留率(t(。/。))對青紫色雷射束曝光量的對數(1ogE(mJ/cm")作圖而得到的薄膜殘留率/曝光量曲線中，連接薄膜殘留率的15。/。點和80e/。點的下列公式(l)的直線的Y值為至少4.0X102。Y值優選為至少4.5X102，特別優選為至少5.0X102，最優選為至少5.5X102。下列公式(l)的直線中，當logE二0時等於t的值5並不是本發明中有特殊意義的值:t=ylogE+S(1)如果Y值小於上述範圍，得到的圖像將缺乏解析度性能和矩形性能。此外，Y值越高，得到的圖像解析度性能和矩形性能越優異，但是上限通常為約i.oxio4。在以曝光部分上的薄膜殘留率(t(。/。))對青紫色雷射束曝光量的對數(logE(mJ/cm、)作圖而得到的薄膜殘留率/曝光量曲線中，理想的是，在曝光量不足的區域中簿膜殘留率顯示的是近似0%的基本恆定值，在曝光量至少為使薄膜殘留率達到至少90%的最小曝光量的區域，薄膜殘留率顯示的是至少90%的基本恆定值，中間曝光量區域是曝光量至少為臨界曝光量的區域，該區域中的曝光量不足以形成具有至少90%薄膜殘留率的圖像但可得到一定程度的薄膜殘留率，而且在該中間曝光量區域中，曲線從左到右呈線性向上傾斜。本發明中，將薄膜殘留率/曝光量曲線中的中間曝光量區域的線性斜率視為連接薄膜殘留率15%點和80%點的上述公式(1)的直線的斜率Y，並限定為至少為一特定值。即，與曝光部分鄰近的部分被不少洩漏光照射，當然，所述洩漏光的量最多為最小曝光量且至少為臨界曝光量，因此在不應被曝光的部分上形成薄膜，從而導致矩形性能惡化。因此，限定斜率y至少為一特定值，以減小中間曝光量區域(被曝光量為至少臨界曝光量的洩漏光照射的、與曝光部分鄰近的部分)，從而抑制由照射在與曝光部分鄰近的部分的洩漏光造成的成膜。{顯影速度/曝光量曲線和01值}進一步地說，對於本發明的青紫色雷射感光性組合物必不可少的是使薄膜殘留率達到至少90%的最小曝光量至多為40mJ/cm2，此外，由曝光部分處的薄膜殘留率(《％))計算得到溶解薄膜率(100-《％》後，在以該溶解薄膜率(100-t(%》除以顯影時間(丁(秒》得到的顯影速度(3={100-1}/丁(％/秒))對青紫色雷射束曝光量的對數(logE(mJ/cm^)作圖而得到的顯影時間/曝光量曲線中，連接最大顯影速度的80%點和20%點的下列公式(2)的直線的a值至少為12。a值優選為至少13，更優選為至少14。下列公式(2)的直線中當logE:O時等於s的值p並不是本發明中具有特殊意義的值s—alogE+卩(2)如果a值小於上述範圍，得到的圖像將缺乏解析度性能和矩形性能。此外，a值越高，得到的圖像解析度性能和矩形性能越優異，但是上限通常為約100。此外，由溶解薄膜率(100-《％))(由曝光部分處的薄膜殘留率(t(。/。》計算得至U)除以顯影時間(丁(秒》得到顯影速度(3={100-t^T(。/。/秒))後對青紫色雷射束曝光量的對數(logE(mJ/cm^)作圖而得到的顯影速度/曝光量曲線中，理想的是，在曝光量不足的區域中，溶解薄膜率接近100%，且顯影速度為高水平的基本恆定值，在曝光量至少為使溶解薄膜率達到最多10%的最少曝光量的區域中，顯影速度為低水平的基本恆定值，中間曝光量區域是其中曝光量至少為臨界曝光量的區域，該區域中的曝光量不足以得到最多10%的溶解薄膜率但可得到一定程度的溶解薄膜率，該中間曝光量區域中，曲線從左至右呈線性向下傾斜。本發明中，將顯影速度/曝光量曲線中的中間曝光量區域中的線性斜率視為連接最大顯影速度(該顯影速度為進行以下顯影時溶解薄膜率(100-《％))等於0時的顯影速度)的80°/。點和20%點的上述公式(2)的直線的斜率01，並限定其至少為一特定值。在這裡，作為最大顯影速度，採用的是在下列條件下進行顯影時當溶解薄膜率(100-t(°/。))=100%時的顯影速度。按下述方法作出上述薄膜殘留率/曝光量曲線和上述顯影速度/曝光量曲線。(l)通過改變曝光量，用400至410nm波長範圍的青紫色雷射束對尺寸0.5cmX0.5cm、厚度5至100微米的感光性組合物層進行全面曝光；(2)然後，在25'C、0.15MPa下在該感光性組合物層上噴灑作為顯影劑的0.7重量％碳酸鈉水溶液，以進行顯影，所述顯影的時間為在相同條件下通過顯影使未曝光感光性組合物層完全溶解所需的時間(斷點)的1.5倍，由此測量薄膜殘留率；(3-l)對於薄膜殘留率/曝光量曲線，以曝光部分的薄膜殘留率(t(Q/。))對所述曝光量的對數(logE(mJ/cn^))作圖；或(3-2)對於顯影速度/曝光量曲線，由曝光部分的薄膜殘留率(100-t(o/。))計算得到溶解薄膜率(100-t(%))，由該溶解薄膜率(100-t(。/。))除以顯影時間(T(秒))得到顯影速度(s^lOO-t)/T(%/秒))後，以該顯影速度(3={100-1}/丁(％/秒))對所述曝光量的對數(logE(mJ/cm勺)作圖。{增感劑}為了有效地發揮上述薄膜殘留率/曝光量特性或上述顯影速度/曝光量特性以及達到上述最小曝光量的效果，本發明的青紫色雷射感光性組合物優選包含在330至450nm的波長範圍中具有最大吸收的化合物作為具有增感功能的增感劑，當用活性光束照射該感光性組合物時，所述增感功能為將光激發能量轉移給活性物質例如光聚合引發劑或下文中所述的光酸產生劑，分解所述活性物質並產生例如自由基或酸等活性種。作為所述增感劑，例如，可以是(i)公開於例如JP-A-2000-10277或日本專利申請號2002-362326的具有下列結構式作為基本骨架的二氨基二苯甲酮型化合物，(ii)公開於例如JP-A-2004-198446的具有下列結構式作為基本骨架的氨基苯基苯並咪唑/苯並噁唑/苯並噻唑型化合物，(iii)公開於例如日本專利申請號2004-424180的具有下列結構式作為基本骨架的磺醯亞氨基型化合物，(iv)公開於例如日本專利申請號2003-392404的具有下列結構式作為基本骨架的氨基喹諾酮型化合物，(v)公開於例如JP-A-2002-169282、JP-A-2004-191938的具有下列結構式作為基本骨架的部花青型化合物，(vi)公開於例如JP-A-2002-268239的具有下列結構式作為基本骨架的噻唑烷酮型化合物，(vii)公開於例如日本專利申請號2003-291606的具有下列結構式作為基本骨架的醯亞胺型化合物，(viii)具有下列結構式作為基本骨架的苯並咪唑/苯並噁唑/苯並噻唑型化合物，(ix)具有下列結構式作為基本骨架的三唑型化合物，(x)具有下列結構式作為基本骨架的氰基苯乙烯基型化合物，(xi)具有下列結構式作為基本骨架的芪型化合物，(xii)具有下列結構式作為基本骨架的噁二唑/噻二唑型化合物，(xiii)具有下列結構式作為基本骨架的二氫吡唑型化合物，(xiv)具有下列結構式作為基本骨架的香豆素型化合物，(xv)公開於例如日本專利申請號2004-218915的具有下列結構式作為基本骨架的三苯胺型化合物，和(xvi)具有下列結構式作為基本骨架的吖啶酮型化合物。下列結構式中，每個X和Z彼此獨立地代表氮原子、氧原子、硫原子或C-R，Y代表選擇性的連接基團，n是O或大於O的整數。此外，下列代表基本骨架的結構式的每個化合物可以具有以下取代基例如烷基、環烷基、鏈烯基、環烯基、烷氧基、烷硫基、芳基、芳氧基、芳垸基、烯氧基、烯硫基、醯基、醯氧基、氨基、醯氨基、羧基、羧酸酯基、氨基甲酸酯基、氨甲醯基、氨磺醯基、磺酸酯基、飽和或不飽和的雜環基，並且該取代基可以進一步具有取代基，並且多個取代基可以互相鍵連形成環狀結構formulaseeoriginaldocumentpage13作為本發明感光性組合物中的增感劑，其中優選的增感劑是結構中具有二烷基氨基苯結構的二垸基氨基苯型化合物和結構中具有三苯基結構的三苯胺型化合物。特別地，作為前者，優選是二烷基氨基二苯甲酮型化合物、在苯環上相對於氨基的對位碳原子上具有雜環基作為取代基的二烷基氨基苯型化合物、在苯環上相對於氨基的對位碳原子上具有包含磺醯亞胺基的取代基的二垸基氨基苯型化合物和形成喹諾酮骨架的二烷基氮基苯型化合物。作為二烷基氨基二苯甲酮型化合物，由下列通式(I)代表的化合物是優選的(通式(I)中，R1、R2、RS和W各自彼此獨立地代表選擇性地具有取代基的烷基，R3、R4、W和RS各自彼此獨立地代表選擇性地具有取代基的垸基或氫原子，R嘲R2、R5和R6、W和R3、R2和R4、R5和R7或者R6和R8可以獨立地形成含氮雜環。)通式(I)中，烷基R1、R2、R5和R6的碳數，和R3、R4、117和尺8是烷基時的碳數優選是1至6。此外，當形成含氮雜環時，優選是5元環或6元環，並優選Ri和R3、f和R4、RS和W或者W和RS形成6元四氫喹啉環，特別優選R1、R2、113和114和/或115、R6、R"和RS形成久洛尼定環。此外，更優選是在2位具有垸基作為取代基的四氫喹啉環，或包含所述四氫喹啉環的久洛尼定環。作為上述通式(I)代表的化合物具體實例，可以是例如4，4'-雙(二甲基氨基)二苯甲酮、4,4，-雙(二乙基氨基)二苯甲酮和下列結構所示的化合物。此外，在其苯環上相對於氨基的對位碳原子上具有雜環基作為取代基的二烷基氨基苯型化合物中，優選雜環基是含氮原子、氧原子或硫原子的5元環或6元環，特別優選是具有稠合苯環的5元環，優選化合物是下列通式(II)代表的化合物(11>(通式(II)中，Ri和W各自彼此獨立地代表選擇性具有取代基的垸基，R3和W各自彼此獨立地代表選擇性具有取代基的垸基或氫原子，^和R2、W和R3、或R，nW可獨立地形成含氮雜環，X代表氧原子、硫原子、二垸基亞甲基、亞氨基或垸基亞氨基，與雜環稠合的苯環選擇性具有取代基。)通式(n)中，垸基R'和i^的碳數，和113和114是烷基時的碳數優選是1至6。此外，當形成含氮雜環時，優選是5元環或6元環，並優選Ri和R3、R，PR4、RS和R"或者RS和RS形成6元四氫喹啉環，特別優選R1、R2、R、口R嘴/或R5、R6、W和RS形成久洛尼定環。此外，更優選是在2位具有垸基作為取代基的四氫喹啉環，或包含所述四氫喹啉環的久洛尼定環。此外，當X是二垸基亞甲基時，烷基的碳數優選是1至6，當它是烷基亞氨基時，烷基的碳數優選是1至6。作為上述通式(II)代表的化合物具體實例可以是例如2-(對二甲基氨基苯基)苯並噁唑、2-(對二乙基氨基苯基)苯並噁唑、2-(對二甲基氨基苯基)苯並[4,5]苯並噁唑、2-(對二甲基氨基苯基)苯並[6,7]苯並噁唑、2-(對二甲基氨基苯基)苯並噻唑、2-(對二乙基氨基苯基)苯並噻唑、2-(對二甲基氨基苯基)苯並咪唑、2-(對二乙基氨基苯基)苯並咪唑、2-(對二甲基氨基苯基)-3,3-二甲基-3H-吲哚、2-(對二乙基氨基苯基)-3,3-二甲基-3H-吲哚和下列結構的化合物。此外，作為在苯環上相對於氨基的對位的碳原子上具有雜環作為取代基的二垸基氨基苯型化合物，除了上述通式(II)代表的化合物之外，還可以是例如2-(對二甲基氨基苯基)吡啶、2-(對二乙基氨基苯基)吡啶、2-(對二甲基氨基苯基)喹啉、2-(對二乙基氨基苯基)喹啉、2-(對二甲基氨基苯基)嘧啶、2-(對二乙基氨基苯基)嘧啶、2,5-雙(對二乙基氨基苯基)-1,3,4-噁二唑或2，5-雙(對二乙基氨基苯基)-1,3,4-噻二唑。此外，作為在苯環上相對於氨基的對位碳原子上具有含磺醯亞氨基的取代基的二垸基氨基苯型化合物，優選是下列通式(in)代表的化合物(通式(in)中，W和W各自彼此獨立地代表選擇性具有取代基的垸基，r3和W各自彼此獨立地代表選擇性具有取代基的垸基或氫原子，W和R2、1^和113或者112和114可以獨立地形成含氮雜環，w代表單價基團或氫原子，R^代表單價基團。)通式(m)中，烷基Ri和ie的碳數，和RS和W是烷基時的碳數均優選是l至6。此外，當形成含氮雜環時，優選是5元環或6元環，然而，W和R4優選是氫原子。此外，作為單價基團R，PR1可以是例如烷基、環垸基、鏈烯基、環烯基、烷氧基、鏈烯氧基、醯基、醯氧基、芳基、芳氧基、芳烷基、芳烯基、羥基、醛基、羧基、羧酸酯基、氨基甲醯基、氨基、醯氨基、氨基甲酸酯基、磺醯胺基、磺酸基、磺酸酯基、氨磺醯基、烷硫基、亞氨基、氰基或雜環基。其中，優選W是氫原子，RW是芳基。此外，作為形成喹諾酮骨架的二烷基氨基苯型化合物，優選是下列通式(IV)代表的化合物(通式(IV)中，R1、R，卩RU各自彼此獨立地代表選擇性具有取代基的垸基，RS和R"各自彼此獨立地代表選擇性具有取代基的垸基或氫原子，^和R2、Ri和RS或者R，卩W可以獨立地形成含氮雜環，R^代表選擇性具有取代基的烷基、選擇性具有取代基的芳基或氫原子。)通式(IV)中，烷基R1、R,RU的碳數，和R3、114和1112是烷基時的碳數均優選是1至6。此外，當形成含氮雜環時，優選是5元環或6元環，然而，RS和W優選是氫原子。此外，R^優選是苯基。本發明中，上述二垸基氨基苯型化合物的增感劑中，特別優選是上述通式(I)代表的二烷基氨基二苯甲酮型化合物、由上述通式(III)代表的在苯環上相對於氨基的對位的碳原子上具有包含磺醯亞氨基的取代基的二烷基氨基苯型化合物、或上述通式(IV)代表的形成喹諾酮骨架的二垸基氨基苯型化合物。此外，作為本發明優選的增感劑，可以是下列通式(XI)至(XIII)代表的其結構中具有鍵連至氮原子的至少兩個芳香環的化合物(下列通式(XI)包括上述三苯胺型化合物)。(上述通式(xi)(xm)中，環AG各自彼此獨立地具有作為基本骨架的芳烴環或芳香雜環，環A和B、環D和E、或者環F和G可以互相鍵連形成包含N的鍵合環；上述通式(XII)中，連接基團L代表包含芳烴環和/或芳香雜環的連接基團，連接基團L和N通過所述芳烴環或芳香雜環鍵連，n代表至少為2的整數；通式(Xm)中，R代表選擇性具有取代基的烷基；環AG和連接基團L選擇性具有取代基，該取代基選擇性地互相鍵連成環。)上述通式(XI)(XIII)中，作為由環AG代表的芳烴環，可以是例如苯環、萘環、蒽環、菲環、甘菊環、芴環、苊烯環或茚環。此外，作為環AG代表的芳香雜環，可以是例如呋喃環、噻吩環、吡咯環、噁唑環、異噁唑環、噻唑環、異噻唑環、咪唑環、吡唑環、呋咱環、三唑環、妣喃環、噻二唑環、噁二唑環、吡啶環、噠嗪環、嘧啶環或吡嗪環。優選作為芳烴環AG的是苯環、萘環或蒽環，更優選是苯環。此外，優選作為芳香雜環AG的是呋喃環、噻吩環、吡咯環、吡啶環、噁唑環或噻唑環，更優選是呋喃環、噻吩環或吡咯環。此外，環A、B、D、E、F和G以及連接基團L中包含的環可以互相鍵連形成含N的稠環，作為這種情況的實例，可以是形成包含N原子(各個環鍵連至該N原子上)的咔唑環。在其中形成咔唑環的情況中，環AG中的任一個環毫無例外地不能具有環狀結構並可以是任選的取代基，在這種情況下，優選是選擇性地具有取代基的烷基。環AG各自可以在任意位置具有任選的取代基，並且該取代基可以互相鍵連形成環。上述通式(XII)中，連接基團L是包含一個或多個芳烴環和/或芳香雜環的連接基團，N直接與所述連接基團L中的芳烴環或芳香雜環鍵合。作為連接基團L中包含的芳烴環和芳香雜環，可以是與作為環AG的實例列舉的芳烴環和芳香雜環相同的環。優選連接基團L中包含的芳烴環是苯環、萘環或蒽環，更優選是苯環。此外，優選連接基團L中包含的芳香雜環是呋喃環、噻吩環、吡咯環、吡啶環、噁唑環、噻唑環、噻二唑環或噁二唑環，更優選是呋喃環、噻吩環或吡咯環。當連接基團L包含兩個或兩個以上的芳烴環和/或芳香雜環時，該環可以直接連接或經由二價或高於二價的連接基團(而且，該連接基團不局限於二價或高於二價的基團，而是包括二價或高於二價的原子)連接。在這種情況下，作為二價或高於二價的連接基團，可以是公知的例如下列通式所示的亞烴基(m是不小於l的整數)胺基、O原子、S原子、酮基、硫酮基、_c(=o)o—、醯氨基、金屬原子(例如Se、Te、P、As、Sb、Bi、Si或B)、芳烴環基、芳香雜環基(不飽和雜環基)、非芳香雜環基(飽和雜環基)或其任意組合。可以存在於連接基團L中包含的芳烴環和/或芳香雜環之間的連接基團優選是下列通式所示的亞烴基二c《m~fc=m(m是不小於l的整數)胺基、O原子、S原子、酮基、—c(=o)o—、醯氨基、芳烴環基、芳香雜環基、—C=N—、—C=N—N=、飽和或不飽和的雜環基，更優選是Cw亞烴基、一OCH20—、_OCH2CH20—、一O—、酮基、苯環基、呋喃環基、噻吩環基或吡咯環基。此外，上述通式(XII)中，n優選是2至5。對於所述連接基團L，優選調節所述芳烴環或芳香雜環與不飽和連接基團的組合，使得最大吸收和適當吸收處於350至430nm。連接基團L中包含的環和連接環的連接基團可以在任意位置具有任選的取代基，並且所述取代基可以互相鍵連形成環。作為環AG和連接基團L選擇性地具有的任選取代基，可以是例如滷素原子，如氟原子、氯原子、溴原子或碘原子；羥基；硝基；氰基；或單價有機基團，而且作為該單價有機基團，可以是下列基團Cw8線性或支化烷基，例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、戊基、叔戊基、正己基、正庚基、正辛基或叔辛基；^->^3^35代表的基團或者飽和或不飽和的雜環基。當環AG和連接基團L可能具有的上述任選取代基進一步具有任選的取代基時，該取代基的優選實例可以是例如d.K)烷氧基，如甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基或叔丁氧基；C2.12垸氧烷氧基，例如甲氧甲氧基、乙氧甲氧基、丙氧甲氧基、乙氧乙氧基、丙氧乙氧基或甲氧丁氧基；Cw5垸氧烷氧基垸氧基，例如甲氧甲氧基甲氧基、甲氧甲氧基乙氧基、甲氧乙氧基甲氧基、乙氧甲氧基甲氧基或乙氧乙氧基甲氧基；(36-12芳基，例如苯基、甲苯基或二甲苯基(它們可進一步具有取代基)；Cw2芳氧基，例如苯氧基、甲苯氧基、二甲苯氧基或萘氧基；Cw2烯氧基，例如乙烯氧基或烯丙氧基；醯基，例如乙醯基或丙醯基;氰基；硝基；羥基；四氫呋喃；氨基；Cw。烷基氨基，例如N,N-二甲基氨基或N,N-二乙基氨基；Q.6垸基磺醯氨基，例如甲基磺醯氨基、乙基磺醯氨基或正丙基磺醯氨基；滷素原子，例如氟原子、氯原子或溴原子；C2.7垸氧羰基，例如甲氧羰基、乙氧羰基、正丙氧羰基、異丙氧羰基或正丁氧羰基；C2.7垸基羰氧基，例如甲基羰氧基、乙基羰氧基、正丙基羰氧基、異丙基羰氧基或正丁基羰氧基；C2.7垸氧基羰氧基，例如甲氧基羰氧基、乙氧基羰氧基、正丙氧基羰氧基、異丙氧基羰氧基、正丁氧基羰氧基或叔丁氧基羰氧基；Cw8線性或支化烯基，例如乙烯基、丙烯基或己烯基。用於本發明的由上述通式(XI)至(XIII)各自代表的增感劑在390至430nm的波長範圍中具有適當吸收，因此，它優選在330至450nm的波長範圍內具有最大吸收，優選其最大吸收在350至430nm。為此，其每分子中優選具有四個或多於四個的芳烴環和/或芳香雜環，更優選具有五個或多於五個的芳烴環和/或芳香雜環。上述通式(XI)至(XIII)代表的增感劑的具體實例如下所示，然而，所述增感劑不限於此上述通式(XI)的增感劑實例:formulaseeoriginaldocumentpage23formulaseeoriginaldocumentpage24formulaseeoriginaldocumentpage25上述通式(xn)的增感劑的實例formulaseeoriginaldocumentpage26formulaseeoriginaldocumentpage27formulaseeoriginaldocumentpage28formulaseeoriginaldocumentpage29上述通式(XIII)的增感劑實例formulaseeoriginaldocumentpage30所述增感劑可以單獨使用或可以結合使用兩種或更多種。{阻聚劑}在下文中將詳細說明本發明的青紫色雷射感光性組合物的組成，優選是包含烯屬不飽和化合物和光聚合抑制劑作為基本組成的負型感光性組合物(N0。特別是為了有效發揮上述薄膜殘留率/曝光量特性或上述顯影速度/曝光量特性和達到上述最小曝光量的效果，優選將上述的在特定波長範圍中具有最大吸收的化合物用作增感劑，此外，該感光性組合物中阻聚劑的含量是5至60ppm。阻聚劑含量的上限特別優選是50ppm，下限特別優選是10ppm。艮口，如上所述，將阻聚劑加入被認為是光聚合性組合物中的必要組分的烯屬不飽和化合物，以防止在生產的時候聚合或用於賦予產品以儲存穩定性。此外，根據情況要求在其生產的時候將阻聚劑加入所用的聚合物粘合材料，以賦予光聚合性層形成性能。此外，除了將阻聚劑加入烯屬不飽和化合物和聚合物粘合材料以防止例如光聚合性組合物熱聚合或隨時間聚合之外，還在製備組合物的時候加入阻聚劑以確保光聚合性組合物的穩定性，結合其它光聚合抑制劑，阻聚劑的總量通常為至少iooppm。與此相反，本發明的優選實施方案中，降低了阻聚劑的含量。如果負型感光性組合物(ND中阻聚劑的含量太低，在生產下文中所述的抗蝕圖像形成元件的時候感光性組合物塗布液的儲存穩定性可能較差，因此導致凝膠化，或往往難以防止負型感光性組合物層發生熱聚合或隨時間聚合。另一方面，如果阻聚劑的含量過高，所得到的抗蝕圖像的圖案會帶有圓形或底部不能被充分切割，從而可能出現被稱為褶邊(footing)的現象，並且解析度性能往往變差。在本發明中，為了控制感光性組合物中阻聚劑的含量在上述範圍內，可以採用例如，(i)對於包含在烯屬不飽和化合物中的阻聚劑的含量，限制阻聚劑的添加量或採用具有低含量阻聚劑的烯屬不飽和化合物，(ii)對於包含在聚合物粘合材料中的阻聚劑的含量，限制阻聚劑的添加量或採用具有低含量阻聚劑的聚合物粘合材料，(iii)在生產抗蝕圖像形成元件時，通過採用例如高溫和長時間等條件來乾燥所述感光性組合物塗布液，以消耗阻聚劑，或(iv)在生產抗蝕圖像形成元件時設置例如通過加熱來消耗阻聚劑的步驟。其中，考慮到例如避免作為光聚合性組合物的惡化和生產性，優選的是上述方法(i)或(ii)。此外，在本發明中，阻聚劑沒有特別限制，只要它是通常以阻聚劑名義用於此類光聚合性組合物的化合物即可，具體地說，所述阻聚劑可以是例如，其結構中具有對苯二酚結構的對苯二酚衍生物，如對苯二酚、甲基對苯二酚、叔丁基對苯二酚、2，5-二叔丁基對苯二酚或對甲氧基苯酚；或其結構中具有對苯醌結構的對苯醌衍生物，例如對苯醌、甲基-對苯醌、叔丁基對苯醌或2,5-二苯基對苯醌。其中，對苯二酚衍生物是優選的，對甲氧基苯酚是特別優選的。在本發明中，用感光性組合物塗布液塗布臨時支持體，隨後通過乾燥而得到抗蝕圖像形成元件，基於以氣相色譜法用丙酮標準溶液製得的分析曲線，對於該抗蝕圖像形成元件的感光性組合物層的10重量％溶液，根據氣相色譜法的測量值來確定所述感光性組合物中阻聚劑的含量。本發明的青紫色雷射感光性組合物優選是包含上述化合物作為增感劑的負型感光性組合物。作為負型感光性組合物，可以是下列(Ni)(N3)，其中優選是(N^。(負型感光性組合物(N^本發明的青紫色雷射感光性組合物中，作為負型感光性組合物，可以是例如以上述化合物作為增感劑並包含烯屬不飽和化合物和光聚合引發劑作為基本組成的負型感光性組合物(ND。在本發明中，構成負型感光性組合物(ND的烯屬不飽和化合物是每分子中具有至少一個可自由基聚合的烯屬不飽和鍵的化合物，在用活性光束照射感光性組合物時，在包含以下所述的光聚合引發劑的光聚合引發體系的作用下，所述的化合物會發生加聚，並且有時候會發生交聯和固化。在本發明中，所述烯屬不飽和化合物可以是分子中具有一個烯屬不飽和鍵的化合物，具體地說，它可以是例如不飽和羧酸，如(甲基)丙烯酸(在本發明中，"(甲基)丙烯酸"是指"丙烯酸"和/或"甲基丙烯酸")、32巴豆酸、異巴豆酸、馬來酸、衣康酸或檸康酸，或其垸基酯；(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯醯胺或苯乙烯。特別地，考慮到聚合性能、交聯性能以及由此所致的曝光部分和未曝光部分在顯影劑中的可溶性之間的差異增加，優選是每分子中具有兩個或多於兩個的烯屬不飽和鍵的化合物，特別優選是其不飽和鍵衍生自(甲基)丙烯醯氧基的丙烯酸酯化合物。作為每分子中具有兩個或多於兩個的烯屬不飽和鍵的化合物，通常可以是例如不飽和羧酸和多羥基化合物形成的酯、含(甲基)丙烯醯氧基的磷酸酯、羥基(甲基)丙烯酸酯化合物和多異氰酸酯化合物形成的(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯、(甲基)丙烯酸或羥基(甲基)丙烯酸酯化合物與多環氧化合物形成的環氧基(甲基)丙烯酸酯。作為所述的酯，具體地說，可以是例如上述不飽和羧酸和脂肪族多羥基化合物的反應產物，所述脂肪族多羥基化合物為例如乙二醇、聚乙二醇(加成數為2至14)、1,2-丙二醇、聚l，2-丙二醇(加成數為2至14)、1，3-丙二醇、1，4-丁二醇、新戊二醇、1，6-己二醇、1，9-壬二醇、三羥甲基乙垸、四羥甲基乙烷、三羥甲基丙垸、丙三醇、季戊四醇、雙季戊四醇或山梨醇、或它們的環氧乙烷加成物或環氧丙烷加成物；或二乙醇胺或三乙醇胺；具體地說，可以是二(甲基)丙烯酸乙二酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、九乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙垸三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基乙垸三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙垸三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧乙烷加成三(甲基)丙烯酸酯、丙三醇二(甲基)丙烯酸酯、丙三醇三(甲基)丙烯酸酯、丙三醇環氧丙烷加成三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、雙季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、雙季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、雙季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、雙季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、雙季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、山梨醇三(甲基)丙烯酸酯、山梨醇四(甲基)丙烯酸酯、山梨醇五(甲基)丙烯酸酯或山梨醇六(甲基)丙烯酸酯和類似的巴豆酸酯、異巴豆酸酯、馬來酸酯、衣康酸酯和檸康酸酯。此外，作為所述的酯，可以是例如上述不飽和羧酸和芳香多羥基化合物(例如對苯二酚、間苯二酚、連苯三酚、雙酚F或雙酚A)或者它們的環氧乙烷加成物或縮水甘油基化合物的加成物的反應產物，具體地說，可以是對苯二酚二(甲基)丙烯酸酯、間苯二酚二(甲基)丙烯酸酯、連苯三酚三(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A雙[氧亞乙基(甲基)丙烯酸酯]、雙酚A雙[三氧亞乙基(甲基)丙烯酸酯]、雙酚A雙[五氧亞乙基(甲基)丙烯酸酯]、雙酚A雙[六氧亞乙基(甲基)丙烯酸酯]或雙酚A雙[縮水甘油醚(甲基)丙烯酸酯]。此外，可以是例如上述不飽和羧酸和雜環多羥基化合物(例如三(2-羥乙基)異氰脲酸酯)的反應產物，具體地說，可以為三(2-羥乙基)異氰脲酸酯的二(甲基)丙烯酸酯或三(甲基)丙烯酸酯；不飽和羧酸、多羥基羧酸和多羥基化合物的反應產物，具體地說，可以為(甲基)丙烯酸、鄰苯二甲酸和乙二醇的縮合物；(甲基)丙烯酸、馬來酸和二乙二醇的縮合物；(甲基)丙烯酸、對苯二甲酸和季戊四醇的縮合物；(甲基)丙烯酸、己二酸、丁二醇和丙三醇的縮合物。此外，所述的含(甲基)丙烯醯氧基的磷酸酯不受特別限制，只要它是包含(甲基)丙烯醯氧基的磷酸酯化合物即可，特別優選是下列通式(Va)或(Vb)代表的化合物-R130O〔CH2=C-C-0-(CH2)-O〕m—P~(OH)3，(Va)R，aOO〔CH2=C—C~0~(CH2CH2O)丄-P—(OH)3，(Vb)(通式(Va)和(Vb)中，1113代表氫原子或甲基，n是l至25的整數，m是l、2或3。)n優選是l至10，特別優選1至4。作為具體實例，可以是例如(甲基)丙烯醯氧基乙基磷酸酯、雙[(甲基)丙烯醯氧基乙基]磷酸酯和(甲基)丙烯醯氧基乙二醇磷酸酯。它們可以單獨使用或以混合物使用。此外，作為所述(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯，具體地說，可以是例如以下的羥基(甲基)丙烯酸酯化合物和以下的多異氰酸酯化合物的反應產物，所述羥基(甲基)丙烯酸酯化合物是例如羥甲基(甲基)丙烯酸酯、羥乙基(甲基)丙烯酸酯、丙三醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯或四羥甲基乙浣三(甲基)丙烯酸酯；所述的多異氰酸酯化合物是例如脂肪族多異氰酸酯，如六亞甲基二異氰酸酯、2，4,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、賴氨酸甲基酯二異氰酸酯、賴氨酸甲基酯三異氰酸酯、二聚酸二異氰酸酯、1,6,11-十一烷三異氰酸酯、1，3，6-六亞甲基三異氰酸酯或l,8-二異氰酸酯-4-異氰酸酯甲基辛烷；脂環族多異氰酸酯，例如環己烷二異氰酸酯、二甲基環己烷二異氰酸酯、4，4，-亞甲基雙(環己基異氰酸酯)、異佛爾酮二異氰酸酯或雙環庚垸三異氰酸酯；芳香族多異氰酸酯，例如對亞苯基二異氰酸酯、2,4-甲苯基二異氰酸酯、2，6-甲苯基二異氰酸酯、亞二甲苯基二異氰酸酯、四甲基亞二甲苯基二異氰酸酯、4，4，-二苯甲烷二異氰酸酯、聯甲苯胺二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、三(異氰酸酯苯甲烷)或三(異氰酸酯苯基)硫代磷酸酯；或雜環多異氰酸酯，例如異氰脲酸酯。其中，優選(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯是每分子中具有至少四個氨基甲酸酯鍵(-NH-CO-O-)和至少四個(甲基)丙烯醯氧基的化合物。該化合物可以通過例如使(i)每分子具有至少四個、優選至少六個異氰酸酯基的化合物與(ii)每分子具有至少一個羥基和至少兩個、優選至少三個(甲基)丙烯醯氧基的化合物反應得到，所述的化合物(i)有例如化合物(i-l)，該化合物是通過使每分子中具有至少四個羥基的化合物(例如季戊四醇或聚丙三醇)與二異氰酸酯化合物(例如六亞甲基二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯或甲苯基二異氰酸酯)反應得到的；化合物(i-2)，該化合物是通過使每分子中具有至少兩個羥基的化合物(例如乙二醇)與每分子中具有至少三個異氰酸酯基的化合物(例如縮二脲型如"Duranate24A-100"、"Duranate22A-75PX"、"Duranate21S-75E"或"Duranate18H-70B",或加成物型例如"DuranateP-301-75E"、"DuranateE-402-90T"或"DuranateE-405-80T"(均由旭化成工業社生產))反應得到的；或化合物(i-3)，該化合物是通過聚合或共聚例如(甲基)丙烯酸異氰酸酯乙基酯得到的，具體地說，例如由旭化成工業社生產的"DuranateME20-100";化合物(ii)有例如季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、雙季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、雙季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、雙季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯或雙季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯。上述化合物(i)具有優選500至200000的重均分子量，特別優選1000至150000。此外，上述(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯具有優選600至150000的重均分子量。此外，它優選具有至少六個、特別優選至少八個氨基甲酸酯鍵，並且它優選具有至少六個、特別優選八個(甲基)丙烯醯氧基。可以通過以下方法生產該(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯例如，在有機溶劑例如甲苯或乙酸乙酯中，以上化合物(i)的異氰酸酯基與以上化合物(ii)的羥基的摩爾比率為1/10至10/1，根據情況要求使用催化劑例如正丁基錫二月桂酸酯在1015(TC使化合物(i)和化合物(ii)反應5分鐘至3小時。在本發明中，上述(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯中，特別優選的是由下列通式(VI)代表的化合物0Q,、nh,、hff(VI)x(通式(VI)中，Ra代表的基團具有亞烷基氧基或亞芳基氧基重複結構並具有4至20個能夠鍵連至Rb的氧基，Rb和Rc各自彼此獨立地代表Cwo亞垸基，Rd代表具有l至10個(甲基)丙烯醯氧基的有機殘基，Ra、Rb、Rc和Rd選擇性地具有取代基，x是4至20的整數，y是0至15的整數，z是l至15的整數。)通式(VI)中，作為Ra亞烷基氧基的重複結構，可以是例如衍生自丙烯三醇、丙三醇或季戊四醇的重複結構，作為亞芳基氧基的重複結構，可以是例如衍生自連苯三酚或l,3,5-苯三醇的重複結構。此外，彼此獨立的Rb和Rc亞烷基的碳數優選是l至5，Rd中(甲基)丙烯醯氧基的數量優選是1至7。此外，優選x是4至15，y是l至10，z是l至10。此外，Ra特別優選是下列通式(通式中，k是2至10的整數)之一，彼此獨立的Rb和Rc特別優選是二亞甲基、一甲基二亞甲基或三亞甲基，Rd特別優選是下列通式之一formulaseeoriginaldocumentpage37此外，作為環氧(甲基)丙烯酸酯，具體地說，可以是例如(甲基)丙烯酸或上述羥基(甲基)丙烯酸酯化合物與聚環氧化物的反應產物，所述聚環氧化物是例如，脂肪族聚環氧化合物，如(聚)乙二醇聚縮水甘油醚、(聚)丙二醇聚縮水甘油醚、(聚)丁二醇聚縮水甘油醚、(聚)戊二醇聚縮水甘油醚、(聚)新戊二醇聚縮水甘油醚、(聚)己二醇聚縮水甘油醚、(聚)三羥甲基丙烷聚縮水甘油醚、(聚)丙三醇聚縮水甘油醚或(聚)山梨糖醇聚縮水甘油醚；芳香族聚環氧化物，例如酚醛聚環氧化物、溴化線型酚醛聚環氧化物、(鄰、間、對)甲酚-線型酚醛聚環氧化物、雙酚A聚環氧化物或雙酚F聚環氧化物；或雜環聚環氧化物，例如山梨糖醇酐聚縮水甘油醚、三縮水甘油基異氰脲酸酯或三縮水甘油基三(2-羥乙基)異氰脲酸酯。此外，作為另一種烯屬不飽和化合物，除了上述之外，可以是例如(甲基)丙烯醯胺，如亞乙基雙(甲基)丙烯醯胺；烯丙酯，例如鄰苯二甲酸二烯丙酯；或含乙烯基的化合物，例如鄰苯二甲酸二乙烯酯。上述烯屬不飽和化合物可以單獨使用或兩種或更多種結合使用。上述烯屬不飽和化合物中，本發明中優選的是酯(甲基)丙烯酸酯、含(甲基)丙烯醯氧基的磷酸酯或(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯，特別優選的是酯(甲基)丙烯酸酯，在酯(甲基)丙烯酸酯中，特別優選的是以下的酯(甲基)丙烯酸酯，該酯(甲基)丙烯酸酯包含聚氧亞垸基(例如聚乙二醇、聚丙二醇或雙酚A的聚氧化乙烯加成物的聚氧亞垸基)，並包含至少兩個(甲基)丙烯醯氧基。此外，本發明中，負型感光性組合物(N,)中的光聚合引發劑是這樣一種活性化合物當與所述增感劑共存且被光照射時，該化合物接受增感劑的光激發能量並產生作為活性種的自由基，從而使上述烯屬不飽和化合物發生聚合。所述光聚合引發劑可以是例如六芳基二咪唑型化合物、二茂鈦型化合物、滷代烴衍生物、碘鐺鹽或有機硼酸鹽。其中，考慮到作為感光性組合物的靈敏度、與基板的粘附性能和儲存穩定性，優選是六芳基二咪唑型化合物、二茂鈦型化合物或有機硼酸鹽。考慮到在黃色燈下的安全光性能，特別優選是六芳基二咪唑型化合物。作為六芳基二咪唑型化合物，具體地說，可以是例如2,2'-雙(鄰氯苯基)-4，4，，5，5，-四苯基二咪唑、2，2，-雙(鄰氯苯基)-4，4，，5，5，-四(對甲基苯基)二咪唑、2,2，-雙(鄰氯苯基)-4,4，，5，5，-四(對甲氧苯基)二咪唑、2，2，-雙(鄰，對-二氯苯基)-4,4，，5,5，-四(對甲氧苯基)二咪唑、2,2，-雙(鄰氯苯基)-4,4，，5,5，-四(對乙氧羰基苯基)二咪唑、2，2，-雙(鄰氯苯基)-4，4，,5，5，-四(對氯苯基)二咪唑、2，2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四(鄰，對-二氯苯基)二咪唑、2，2'-雙(鄰，對-二氯苯基)-4，4'，5,5'-四(鄰,對-二氯苯基)二咪唑、2,2'-雙(鄰氯苯基M，4,'5，5，-四(對氟苯基)二咪唑、2,2，-雙(鄰氯苯基)-4，4，,5，5，畫四(鄰,對-二溴苯基)二咪唑、2,2，-雙(鄰溴苯基)-4,4，,5,5，-四(鄰,對-二氯苯基)二咪唑、2，2，-雙(鄰溴苯基)-4,4，,5，5，-四(對碘苯基)二咪唑、2,2，-雙(鄰溴苯基)-4,4'，5，5'-四(鄰氯對甲氧基苯基)二咪唑或2,2，-雙(鄰氯苯基)-4，4',5,5'-四(對氯萘基)二咪唑。其中，優選是六苯基二咪唑化合物，更優選是具有鍵連至咪唑環上2，2'-位的苯環的二咪唑，該咪唑環由滷素原子在鄰位取代；特別優選是具有鍵連至咪唑環上4,4，,5,5，-位的苯環的二咪唑，該咪唑環是未取代的或被卣素原子或烷氧羰基取代。以往公知作為感光性組合物中的光聚合引發劑的六芳基二咪唑型化合物是以下所述的六芳基二咪唑型化合物具有至少19(TC的熔點，例如約196"C至約202"C的熔點，並且波長為1.54埃的X射線衍射譜中，它在布拉格角(26+0.2。)9.925。處具有最大衍射峰。考慮到在塗布溶劑中的溶解性、在感光性組合物中的分散穩定性等，本發明的六芳基二咪唑化合物最合適具有最多180。C的熔點，特別是最多175。C，並且波長為1.54埃的X射線衍射光譜中，它在布拉格角(2e+0.2。)21.16。處具有最大衍射峰。作為這種最合適的六芳基二咪唑型化合物，可以是例如2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4'，5，5'-四苯基二咪唑、2，2'-雙(鄰,對-二氯苯基)-4,4',5，5'-四苯基二咪唑、2，2'-雙(鄰溴苯基)-4，4'，5，5'-四苯基二咪唑、2，2'-雙(鄰,對-二氯苯基)-4，4，,5，5，-四(對甲氧苯基)二咪唑，其中，特別優選2，2'-雙(鄰氯苯基)-4，4，,5，5，-四苯基二咪唑或2，2'-雙(鄰，對-二氯苯基)-4,4'，5,5'-四(對甲氧苯基)二咪唑。此外，作為二茂鈦型化合物，具體地說，可以是例如，二氯化二茂鈦、二苯基二茂鈦、雙(2,4-二氟苯基)二茂鈦、雙(2,6-二氟苯基)二茂鈦、雙(2，4，6-三氟苯基)二茂鈦、雙(2，3，5，6-四氟苯基)二茂鈦、雙(2，3，4，5，6-五氟苯基)二茂鈦、雙(2,6-二氟苯基)二(甲基環戊二烯基)鈦、雙(2，3，4，5,6-五氟苯基)二(甲基環戊二烯)鈦或雙[2,6-二氟-3-(1-吡咯基)苯基]二茂鈦。其中優選具有雙環戊二烯結構和二苯基結構的鈦化合物，特別優選具有由滷素原子在鄰位取代的二苯基環。此外，作為滷代烴衍生物，可以是例如滷代鏈垸烴、滷甲基化均三嗪衍生物或滷甲基化l,3,4-噁二唑衍生物，作為滷代鏈垸烴，具體地說，可以是例如二氯甲垸、三氯甲烷、1，2-二氯乙垸或1，2-二溴乙垸。此外，作為滷甲基化均三嗪衍生物，具體地說，可以是例如2,4，6-三(單氯甲基)-均三嗪、2,4，6-三(二氯甲基)-均三嗪、2，4，6-三(三氯甲基)-均三嗪、2-甲基-4，6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-正丙基-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(a，a，f3-三氯乙基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-苯基-4，6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對甲氧基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(3，4-環氧苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對氯苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-[l-(對甲氧苯基)-2，4-丁二烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-苯乙烯基-4，6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對甲氧苯乙烯基)-4，6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對甲氧基間羥基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對異丙氧基苯乙烯基)-4，6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對甲苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對甲氧萘基)-4，6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對乙氧萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對乙氧羰基萘基)-4，6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-苯硫基-4，6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-苄硫基-4，6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2,4,6-三(二溴甲基)-均三嗪、2，4,6-三(三溴甲基)-均三嗪、2-甲基-4,6-雙(三溴甲基)-均三嗪或2-甲氧基-4，6-雙(三溴甲基)-均三嗪。其中，優選是雙(三滷代甲基)-均三嗪，特別優選是例如2-甲基-4，6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-苯基-4，6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對甲氧苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(3，4-環氧苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-[l-(對甲氧苯基)-2,4-丁二烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對甲氧苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對甲氧基間羥基苯乙烯基)-4，6-雙(三氯甲萄-均三嗪或2-(對異丙氧基苯乙烯基)-4，6-雙(三氯甲基)-均三嗪。作為滷甲基化噁二唑衍生物，具體地說，可以是例如2-(對甲氧苯基)-5-三氯甲基-l,3,4-噁二唑、2-(對甲氧苯乙烯基)-5-三氯甲基-l，3，4-噁二唑、2-(鄰苯並呋喃基)-5-三氯甲基-l，3，4-噁二唑或2-[(3-(鄰苯並呋喃基)乙烯基]-5-三氯甲基-l，3，4-噁二唑。此外，作為碘鎗鹽，具體地說，可以是例如二芳基碘鐡鹽，如六氟砷酸二苯基碘鎿、四氟硼酸二苯基碘錄、對甲苯磺酸二苯基碘鎗或樟腦磺酸二苯基碘鎗；或二環烷基碘鑰鹽，例如六氟砷酸二環己基碘鐡、四氟硼酸二環已基碘鎗、對甲苯磺酸二環己基碘鑰或樟腦磺酸二環已基碘鎗，其中優選二芳基碘鐵鹽。此外，作為有機硼酸鹽，可以是例如有機硼酸銨絡合物、有機硼酸轔絡合物、有機硼酸鋶絡合物、有機硼酸氧代鋶絡合物、有機硼酸碘鑰絡合物或有機硼酸過渡金屬配位絡合物。作為有機硼酸根陰離子，優選是烷基-三苯基硼酸根陰離子，例如正丁基-三苯基硼酸根陰離子、正丁基-三(2,4,6-三甲基苯基)硼酸根陰離子、正丁基-三(對甲氧苯基)硼酸根陰離子、正丁基-三(對氟苯基)硼酸根陰離子、正丁基-三(間氟苯基)硼酸根陰離子、正丁基-三(3-氟-4-甲基苯基)硼酸根陰離子、正丁基-三(2,6-二氟苯基)硼酸根陰離子、正丁基-三(2,4,6-三氟苯基)硼酸根陰離子、正丁基-三(2,3，4，5，6-五氟苯基)硼酸根陰離子、正丁基-三(對氯苯基)硼酸根陰離子、正丁基-三(2，6-二氟-3-吡咯基苯基)硼酸根陰離子，作為反荷陽離子，優選是鐵化合物例如銨陽離子、鱗陽離子、鋶陽離子或碘鑰陽離子，特別優選是有機銨陽離子，例如四烷基銨。本發明青紫色雷射感光性組合物中，作為負型感光性組合物(ND中的增感劑、烯屬不飽和化合物和光聚合引發劑的含量，基於負型感光性組合物(N,)的總量，優選所述增感劑為0.0520重量％，烯屬不飽和化合物為1090重量％，光聚合引發劑為0.550重量％，特別優選增感劑為0.110重量％，烯屬不飽和化合物為2070重量％，光聚合引發劑為130重、除了增感劑、烯屬不飽和化合物和光聚合引發劑之外，本發明負型感光性組合物(NO優選還包含鹼溶性樹脂，以改善感光性組合物層在基板上的形成性能、顯影性能等。作為鹼溶性樹脂，可以是例如含酚羥基的樹脂或含羧基的乙烯基型樹脂，對於負型感光性組合物(N^而言，優選是含羧基的乙烯基型樹脂。作為含羧基的乙烯基型樹脂，具體地說，可以是例如不飽和羧酸和另一種乙烯基化合物的共聚物，所述不飽和羧酸有例如(甲基)丙烯酸、巴豆酸、異巴豆酸、馬來酸、馬來酸酐、衣康酸或檸康酸，所述另一種乙烯基化合物有例如苯乙烯、a-甲基苯乙烯、羥基苯乙烯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己基酯、(甲基)丙烯酸羥甲基酯、(甲基)丙烯酸羥乙基酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油基酯、(甲基)丙烯酸苯甲基酯、(甲基)丙烯酸-N，N-二甲基氨基乙基酯、N-(甲基)丙烯醯基嗎啉、(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N，N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N，N-二甲基氨基乙基(甲基)丙烯醯胺或醋酸乙烯酯。該含羧基的乙烯基型樹脂具有優選50300KOH'mg/g的酸值，特別優選100250KOH'mg/g。此外，它的重均分子量以聚苯乙烯計算優選為10000200000，特別優選20000100000。其中，優選本發明負型感光性組合物(NO所包含的鹼溶性樹脂是包含衍生自苯乙烯型單體、(甲基)丙烯酸酯型單體和(甲基)丙烯酸各種單體的構成性重複單元的共聚物。該共聚物包含的衍生自苯乙烯型單體、(甲基)丙烯酸酯型單體和(甲基)丙烯酸各單體的構成性重複單元的優選比例分別為330mo1。/。(摩爾％)、1080molo/o和1060mo10/0，特別優選各比例分別為525mol%、2080mol。/。和1555mol%。作為上述共聚物中的苯乙烯型單體，具體地說，可以是例如苯乙烯;(x-取代垸基苯乙烯，如(x-甲基苯乙烯或cx-乙基苯乙烯；核取代烷基苯乙烯，例如鄰甲基苯乙烯、間甲基苯乙烯、對甲基苯乙烯或2，5-二甲基苯乙烯；核取代羥基苯乙烯，例如鄰羥基苯乙烯、間羥基苯乙烯、對羥基苯乙烯或二羥基苯乙烯；或核取代滷代苯乙烯，例如對氯苯乙烯、對溴苯乙烯或二溴苯乙烯。此外，作為丙烯酸酯型單體，具體地說，可以是例如(甲基)丙烯酸的垸基碳數優選112、更優選1至8的烷基酯，例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己基酯或(甲基)丙烯酸辛酯；或(甲基)丙烯酸的取代烷基酯，如(甲基)丙烯酸羥甲基酯、(甲基)丙烯酸羥乙基酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油基酯、(甲基)丙烯酸苯甲基酯、(甲基)丙烯酸氨基乙基酯或(甲基)丙烯酸-N,N-二甲基氨基乙基酯。除了上述衍生自苯乙烯型單體、(甲基)丙烯酸酯型單體和(甲基)丙烯酸各單體的構成性重複單元之外，上述共聚物還可以進一步包含衍生自另一可共聚單體的構成性重複單元，所述另一可共聚單體是例如不飽和羧酸，如巴豆酸、異巴豆酸、馬來酸、馬來酸酐、衣康酸或檸康酸；(甲基)丙烯酸衍生物，例如(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺或N，N-二甲基氨基乙基(甲基)丙烯醯胺；或乙烯基化合物，例如醋酸乙烯酯或氯乙烯。衍生自所述另一單體的構成性重複單元的含量優選是基於整個共聚物的最多10mo1。/。。此外，作為其他含羧基的乙烯基型樹脂，可以是在側鏈具有烯屬不飽和鍵的含羧基的乙烯基型樹脂。作為該含羧基的乙烯基型樹脂，具體地說，可以是如下反應產物例如，通過使含羧基的聚合物與含脂肪族環氧基的不飽和化合物或含脂環族環氧基的不飽和化合物反應而得到的反應產物，所述含脂肪族環氧基的不飽和化合物是例如烯丙基縮水甘油醚、(甲基)丙烯酸縮水甘油基酯、(甲基)丙烯酸(X-乙基縮水甘油基酯、巴豆酸縮水甘油基酯、異巴豆酸縮水甘油基酯、巴豆醯基縮水甘油醚、衣康酸單垸基酯單縮水甘油基酯、富馬酸單烷基酯單縮水甘油基酯或馬來酸單烷基酯單縮水甘油基酯；所述含脂環族環氧基的不飽和化合物是例如(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己基甲基酯、(甲基)丙烯酸2,3-環氧環戊基甲基酯或(甲基)丙烯酸7，8-環氧基[三環[5.2丄0]癸-2-基]氧甲基酯，所述含羧基的聚合物的羧基的反應量為590mol%、優選約30mol%約70mol%;或者，通過使具有至少兩類不飽和基團的化合物共聚合而得到的反應產物，所述具有至少兩類不飽和基團的化合物是例如(甲基)丙烯酸烯丙基酯、(甲基)丙烯酸3-烯丙氧基-2-羥丙基酯、(甲基)丙烯酸肉桂酯、(甲基)丙烯酸巴豆醯基酯、(甲基)丙烯酸甲基烯丙基酯或N,N-二烯丙基(甲基)丙烯醯胺；或通過使具有至少兩類不飽和基團的化合物與不飽和羧酸例如(甲基)丙烯酸共聚，或進一步與不飽和羧酸酯共聚而得到的反應產物，所述具有不飽和基團的化合物相對於總量的比例為1090mol%，優選約30mol。/。至約80mo1。/。，所述具有至少兩類不飽和基團的化合物是例如(甲基)丙烯酸烯丙基酯、(甲基)丙烯酸3-烯丙氧基-2-羥丙基酯、(甲基)丙烯酸肉桂酯、(甲基)丙烯酸巴豆酯、(甲基)丙烯酸甲基烯丙基酯或N，N-二烯丙基(甲基)丙烯酸醯胺；或者是(甲基)丙烯酸乙烯基酯、(甲基)丙烯酸1-氯乙烯基酯、(甲基)丙烯酸2-苯基乙烯基酯、(甲基)丙烯酸l-丙烯基酯、巴豆酸乙烯基酯或乙烯基(甲基)丙烯醯胺。此外，作為其他含羧基的乙烯基型樹脂，可以是包含不飽和基團和羧基的環氧樹脂，它包括環氧樹脂的a,p-不飽和單羧酸加成物以及加成到該加成物中的多羥基羧酸或其酸酐。具體地說，這種包含不飽和基團和羧基的環氧樹脂是這樣一種物質它具有以下烯屬不飽和鍵，所述烯屬不飽和鍵是通過OL,[3-不飽和單羧酸的羧基對環氧樹脂的環氧基的開環加成所形成的酯鍵(-COO-)而加入的，此外，包含不飽和基團和羧基的環氧樹脂還具有以下所述的殘留羧基，該殘留羧基是通過多羥基羧酸或其酸酐的羧基與由上述反應形成的羥基反應所形成的酯鍵而加入的。作為環氧樹脂，具體地說，可以是例如雙酚A環氧樹脂、雙酚F環氧樹脂、雙酚S環氧樹脂、線型酚醛環氧樹脂、甲酚-線型酚醛環氧樹脂或三苯酚環氧樹脂，其中，特別優選是線型酚醛環氧樹脂或甲酚-線型酚醛環氧樹脂。此外，作為a,(3-不飽和單羧酸，具體地說，可以是例如(甲基)丙烯酸、巴豆酸、馬來酸、富馬酸、衣康酸或檸康酸。其中，特別優選(甲基)丙烯酸。此外，作為多羥基羧酸或其酸酐，具體地說，可以是例如琥珀酸、馬來酸、衣康酸、鄰苯二甲酸、四氫化鄰苯二甲酸、甲基四氫化鄰苯二甲酸、橋亞甲基四氫化鄰苯二甲酸、甲基橋亞甲基四氫化鄰苯二甲酸、六氫化鄰苯二甲酸或甲基六氫化鄰苯二甲酸或其酸酐，其中優選是馬來酸酐、四氫化鄰苯二甲酸酐或六氫化鄰苯二甲酸酐，特別優選是四氫化鄰苯二甲酸酐。包含不飽和基團和羧基的環氧樹脂中，考慮到感光性組合物的靈敏度、解析度性能和與基板的粘附性能，特別優選其中環氧樹脂是線型酚醛環氧樹脂或甲酚-線型酚醛環氧樹脂，a,(3-不飽和單羧酸是(甲基)丙烯酸，多羥基羧酸或其酸酐是四氫化對苯二甲酸或其酸酐。此外，優選該包含不飽和基團和羧基的環氧樹脂的酸值為20至200KOH'mg/g並且重均分子量為2000至200000。對於本發明青紫色雷射感光性組合物，基於負型感光性組合物(N,)總量，負型感光性組合物(N,)中所包含的鹼溶性樹脂的含量優選為080重量％，特別優選1070重量％。此外，本發明負型感光性組合物(N,)可以進一步包含聚合加速劑，並優選聚合加速劑是包含胺基酸的酯或偶極離子化合物的聚合加速劑。作為胺基酸的酯或偶極離子化合物，優選為下列通式(VIIa)或(VIIb)代表的化合物formulaseeoriginaldocumentpage45(通式(VIIa)和(VIIb)中，R"和R"各自彼此獨立地代表選擇性具有取代基的烷基、選擇性具有取代基的芳基、選擇性具有取代基的雜環基或氫原子，R"和R卩各自彼此獨立地代表選擇性具有取代基的垸基或氫原子，R18代表選擇性具有取代基的垸基、選擇性具有取代基的烯基或選擇性具有取代基的芳基，R"代表選擇性具有取代基的垸基、選擇性具有取代基的芳基或選擇性具有取代基的雜環基，p為0到10的整數。)通式(VIIa)和(VIIb)中，烷基R14、R15、R16、R17、R，nR"的碳數優選為1至8，更優選1至4。此外，作為烯基R18，可以是例如乙烯基、烯丙基或異丙烯基；作為芳基R14、R15、R"和R19，可以是例如苯基或萘基；作為雜環基R14、R"和R19，可以是例如呋喃基、呋喃垸基(foranyl)、吡咯基或吡啶基。作為所述垸基和烯基中的取代基，可以是例如垸氧基、垸氧羰基、烯氧基、烯氧基羰基、苯基或滷素原子；作為所述芳基和雜環基中的取代基，可以是例如進一步具有例如烷氧基或苯基等取代基或不具有取代基的以下基團烷基、垸氧基、烯基、烯氧基醯基、醯氧基、垸氧羰基、苯氧基、烷硫基或垸基磺醯基；或者，醛基、羧基、羥基、磺基、硝基、氰基或滷素原子。在本發明中，上述通式(VIIa)和(VIIb)給出的胺基酸的酯和偶極離子化合物中，優選的是通式(VIIa)所示的胺基酸酯，其中，R"和R"中的一個是氫原子，另一個是選擇性具有取代基的苯基，R"和R^都是氫原子，R"是選擇性具有取代基的烷基或選擇性具有取代基的苯基，P是0、l或2;或通式(VIIb)所示的胺基酸偶極離子化合物，其中，R"和R"都是氫原子，或其中一個是選擇性具有取代基的烷基，R"和R卩都是氫原子，R^是選擇性具有取代基的烷基或選擇性具有取代基的苯基，P是0、l或2。特別優選的是上述通式(VIIa)所示的N-苯基甘氨酸的酯，其中，p是0，R"和R"中的一個是氫原子，另一個是苯基，R"和R"都是氫原子，特別是N-苯基甘氨酸苯甲基酯，其中，R"是苯甲基；或上述通式(VIIb)所示的N-苯基甘氨酸的偶極離子化合物，其中，p是0，R14、R15、R"和R"都是氫原子，1119是苯基)。此外，作為聚合加速劑，也可以是胺化合物。該胺化合物可以是脂肪胺、脂環胺和芳香胺中的任一種，而且該胺化合物不局限於單胺，而可以是多元胺例如二胺或三胺，並可以是伯胺、仲胺和叔胺中的任一種。然而，優選的是pKb至多為7的胺化合物。作為所述胺化合物，具體地說，可以是例如選擇性被羥基或苯基取代的脂肪胺，例如丁胺、二丁胺、三丁胺、戊胺、二戊胺、三戊胺、己胺、二己胺、三己胺、烯丙胺、二烯丙胺、三烯丙胺、三乙醇胺、苯甲基胺、二苄胺或三苄胺。其中，在本發明中，特別優選三苄胺。此外，作為聚合加速劑，可以是例如含巰基的化合物，如2-巰基苯並噻唑、2-巰基苯並咪唑、2-巰基苯並噁唑、3-巰基-l，2,4-三唑、2-巰基-4(3H)-喹唑啉、P-巰基萘、乙二醇二硫代丙酸酯、三羥甲基丙垸三硫代丙酸酯或季戊四醇四硫代丙酸酯；多官能硫醇化合物，例如己垸二硫醇、三羥甲基丙烷三硫代葡糖酸酯或季戊四醇四硫代丙酸酯、N,N-二垸基氨基苯甲酸酯或具有芳香環的胺基酸或其衍生物，例如N-苯基甘氨酸或其衍生物例如其鹽(例如其銨鹽或鈉鹽)、或苯丙氨酸或其衍生物例如其鹽(例如其銨鹽或鈉鹽)或其酯。其中，在本發明中，特別優選的是含巰基的化合物，或N-苯基甘氨酸或其衍生物例如其鹽(例如其銨鹽或鈉鹽)。對於本發明青紫色雷射感光性組合物，基於負型感光性組合物(Ni)的總量，負型感光性組合物(ND中包含的聚合加速劑的含量優選為至多30重量％，特別優選至多20重量％。此外，本發明負型感光性組合物(Ni)可以進一步包含非離子型、陰離子型、陽離子型、兩性型、氟型或其它表面活性劑，以便改善例如在形成感光性組合物層的時候在基板上的塗布性能和感光性組合物層的顯影性能。具體地說，作為非離子型表面活性劑，可以是例如聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯烷基酯、聚氧乙烯脂肪酸酯、丙三醇脂肪酸酯、聚氧化乙烯丙三醇脂肪酸酯、季戊四醇脂肪酸酯、聚氧乙烯季戊四醇脂肪酸酯、山梨聚糖脂肪酸酯、聚氧乙烯山梨聚糖脂肪酸酯、山梨糖醇脂肪酸酯或聚氧乙烯山梨糖醇脂肪酸酯；作為陰離子表面活性劑，可以是例如垸基磺酸鹽、垸基苯磺酸鹽、垸基萘磺酸鹽、聚氧乙烯垸基醚磺酸鹽、垸基硫酸鹽、硫酸垸基酯、高級醇硫酸酯、脂族醇硫酸酯、聚氧乙烯垸基醚硫酸酯、聚氧乙烯垸基苯基醚硫酸酯、磷酸烷基酯、聚氧乙烯垸基醚磷酸酯或聚氧乙烯烷基苯基醚磷酸酯；作為陽離子表面活性劑，可以是例如季銨鹽、咪唑啉衍生物或胺鹽；作為兩性表面活性劑，可以是例如甜菜鹼型化合物、咪唑鐺鹽、咪唑啉或胺基酸。對於本發明青紫色雷射感光性組合物，基於負型感光性組合物(NO的總量，負型感光性組合物(N^中包含的上述表面活性劑的含量優選為至多10重量％，特別優選至多5重量％。此外，本發明負型感光性組合物(ND可以包含至多2重量％的抗氧化劑，例如2,6-二叔丁基苯酚、2,6-二叔丁基對甲酚、2，4，6-三叔丁基苯酚或4，4，-亞甲基雙(2，6-二叔丁基苯酚)；至多20重量％的包含有機或無機染料或顏料的著色劑；至多40重量％的增塑劑，例如鄰苯二甲酸二辛酯、鄰苯二甲酸雙十二垸基酯或磷酸三甲苯酯；至多10重量％的靈敏度特性改善劑，例如叔胺或硫醇；或至多30重量％的染料前體，各用量均為基於負型感光性組合物(Ni)的總量的用量。此外，本發明青紫色雷射感光性組合物中，作為負型感光性組合物，可以是例如包含上述增感劑並以鹼溶性樹脂、用於所述樹脂的交聯劑和光酸產生劑為基本組成的負型感光性組合物(N2)。(負型感光性組合物(N2》在本發明中，負型感光性組合物(N2)中的鹼溶性樹脂是如下所述的樹脂用活性光束照射該感光性組合物時，該樹脂使以下所述的光酸產生劑在上述增感劑的作用下產生酸並藉助以下所述的交聯劑由酸形成交聯結構。作為所述鹼溶性樹脂，可以是例如含酚羥基的樹脂或含羧基的乙烯基型樹脂。負型感光性組合物(N2)中，優選的是含酚輕基的樹脂，例如聚乙烯基苯酚樹脂；酚樹脂，例如線型酚醛樹脂或甲階酚醛樹脂；或具有酚羥基的丙烯酸衍生物的共聚物樹脂或具有酚羥基的聚乙烯醇縮醛樹脂。其中，更優選是聚乙烯基苯酚樹脂或例如線型酚醛樹脂或甲階酚醛樹脂等酚樹脂，特別優選是聚乙烯基苯酚樹脂或線型酚醛樹脂。聚乙烯基苯酚樹脂可以是例如在自由基聚合引發劑或陽離子聚合引發劑的存在下通過聚合或共聚合一種或多種羥基(a-甲基)苯乙烯而得到的聚乙烯基苯酚樹脂，所述羥基(a-甲基)苯乙烯是例如鄰羥基(a-甲基)苯乙烯(在這裡，"(a-甲基)苯乙烯"是指"苯乙烯"和/或"a-甲基苯乙烯"，以下相同)、間羥基(a-甲基)苯乙烯、對羥基(a-甲基)苯乙烯、二羥基(a-甲基)苯乙烯、三羥基(a-甲基)苯乙烯、四羥基((x-甲基)苯乙烯和五羥基((x-甲基)苯乙烯；或是由羥基((X-甲基)苯乙烯進一步與另一乙烯基型化合物共聚而得到的聚乙烯基苯酚樹脂，所述另一乙烯基型化合物是例如(a-甲基)苯乙烯、具有不同於羥基的取代基(例如垸氧基、醯基、醯氧基、烯丙氧基、芳氧基或滷素原子)的(a-甲基)苯乙烯、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸酯、馬來酸或馬來醯亞胺；或者是通過使羥基(a-甲基)苯乙烯的羥基受保護的苯乙烯衍生物發生類似聚合或共聚合後，離解該保護基而得到的聚乙烯基苯酚樹脂。作為線型酚醛樹脂，可以是例如在酸性催化劑的存在下通過使至少一種酚與至少一種醛或酮縮聚而得到的酚醛樹脂，所述的酚是例如苯酚、鄰甲酚、間甲酚、對甲酚、2，5-二甲苯酚、3，5-二甲苯酚、鄰乙基苯酚、間乙基苯酚、對乙基苯酚、丙基苯酚、正丁基苯酚、叔丁基苯酚、l-萘酚、2-萘酚、4,4'-聯苯二酚、雙酚A、鄰苯二酚、間苯二酚、對苯二酚、連苯三酚、1，2,4-苯三酚或間苯三酚；所述酸是例如甲醛、低聚甲醛、乙醛、三聚乙醛、丙醛、苯甲醛或糠醛；所述酮是例如丙酮、甲基乙基酮或甲基異丁酮；作為甲階酚醛樹脂，可以是例如通過用於上述線型酚醛樹脂的相同縮聚而得到的，不同之處在於使用鹼性催化劑而不是酸性催化劑。該含酚羥基的樹脂具有優選1500至50000的重均分子量。負型感光性組合物(N2)中，交聯劑是用活性光束照射感光性組合物時能夠在上述鹼溶性樹脂上形成交聯結構的化合物，作為交聯劑，通常可以是氨基化合物等，這種氨基化合物例如具有兩個或更多羥甲基作為官能團，或具有通過羥甲基的醇縮合改性得到的烷氧基甲基或乙醯氧基甲基作為官能團。具體地說，可以是例如通過使三聚氰胺和甲醛縮聚得到的三聚氰胺樹脂、通過使苯並胍胺和甲醛縮聚得到的苯並胍胺樹脂、通過使甘脲和甲醛縮聚得到的甘脲樹脂、通過使脲和甲醛縮聚得到的脲樹脂、通過使三聚氰胺、苯並胍胺、甘脲、脲等中的兩種或更多種與甲醛共縮聚而得到的樹脂或通過該樹脂的羥甲基的醇縮聚改性而得到的改性樹脂。它們以商品名"CYMEL"和"NIKALAC"出售，其分別由MitsuiCytecLtd.禾口SanwaChemicalCo.,Ltd.生產。此外，作為所述交聯劑，還可以是含環氧基的化合物，作為該含環氧基的化合物，即所謂環氧樹脂的構成性重複單元，可以是低分子量至高分子量化合物，例如通過使多羥基化合物與表氯醇反應而得到的聚縮水甘油醚化合物、通過使多元羧酸化合物與表氯醇反應而得到的聚縮水甘油酯化合物、通過使多胺化合物與表氯醇反應而得到的聚縮水甘油基胺化合物。作為該聚縮水甘油醚化合物，具體地說，可以是例如聚乙二醇的二縮水甘油醚型環氧、雙(4-羥基苯基)的二縮水甘油醚型環氧、雙(3，5-二甲基-4-羥基苯基)的二縮水甘油醚型環氧、雙酚F的二縮水甘油醚型環氧、雙酚A的二縮水甘油醚型環氧、四甲基雙酚A的二縮水甘油醚型環氧或加成了環氧乙垸的雙酚A的二縮水甘油醚型環氧、線型酚醛型環氧或甲酚-線型酚醛型環氧樹脂。對於這種聚縮水甘油醚化合物，酸酐或二價酸的化合物可以與殘留羥基反應以引入羧基。此外，至於聚縮水甘油酯化合物，具體地，可以是例如六氫化鄰苯二甲酸的縮水甘油酯型環氧樹脂或鄰苯二甲酸的縮水甘油酯型環氧樹脂；至於聚縮水甘油胺化合物，具體地，可以是例如雙(4-氨基苯基)甲烷的縮水甘油胺型環氧樹脂或異氰脲酸的三縮水甘油胺型環氧樹脂。此外，在本發明中，負型感光性組合物(N。中的光酸產生劑是當以活性光束照射感光性組合物時在上述增感劑的作用下產生作為活性種的酸的活性化合物。作為光酸產生劑，可以是例如含滷素的化合物，如滷素取代的垸烴或卣代甲基化的均三嗪衍生物、鎗鹽或碸化合物，其中特別優選是產生磺酸的碸化合物。作為含滷素化合物的滷代鏈垸烴和滷甲基化均三嗪衍生物，可以是與上述負型感光性組合物(Ni)中所述的光聚合引發劑相同的化合物。此外，作為鎗鹽，可以是例如銨鹽，如四甲基溴化銨或四乙基溴化銨；碘鹽，例如二苯基六氟砷酸碘、二苯基四氟硼酸碘、二苯基對甲苯磺酸碘、二苯基樟腦磺酸碘、二環己基六氟砷酸碘、二環己基四氟硼酸碘、二環己基對甲苯磺酸碘或二環己基樟腦磺酸碘；或鋶鹽，例如三苯基六氟砷酸鋶、三苯基四氟硼酸鋶、三苯基對甲苯磺酸鋶、三苯基樟腦磺酸鋶、三環己基六氟砷酸鋶、三環己基四氟硼酸鋶、三環己基對甲苯磺酸鋶或三環己基樟腦磺酸鋶。作為碸化合物，具體地說，可以是例如雙(磺醯基)甲烷化合物，如雙(苯磺醯基)甲烷、雙(對羥基苯磺醯基)甲烷、雙(對甲氧苯磺醯基)甲垸、雙(a-萘基磺醯基)甲垸、雙(P-萘基磺醯基)甲烷、雙(環己基磺醯基)甲烷、雙(叔丁基磺醯基)甲垸或苯磺醯基(環己基磺醯基)甲烷；羰基(磺醯基)甲烷化合物，例如苯基羰基(苯磺醯基)甲烷、萘基羰基(苯磺醯基)甲垸、苯基羰基(萘磺醯基)甲烷、環己基羰基(苯磺醯基)甲垸、叔丁基羰基(苯磺醯基)甲烷、苯基羰基(環己基磺醯基)甲烷或苯基羰基(叔丁基羰基)甲垸；雙(磺醯基)重氮甲垸化合物，例如雙(苯磺醯基)重氮甲垸、雙(對羥基苯基磺醯基)重氮甲烷、雙(對甲氧苯基磺醯基)重氮甲烷、雙((x-萘基磺醯基)重氮甲垸、雙03-萘基磺醯基)重氮甲烷、雙(環己基磺醯基)重氮甲烷、雙(叔丁基磺醯基)重氮甲烷或苯基磺醯基(環己基磺醯基)重氮甲烷；或羰基(磺醯基)重氮甲烷化合物，例如苯基羰基(苯磺醯基)重氮甲烷、萘基羰基(苯磺醯基)重氮甲烷、苯基羰基(萘磺醯基)重氮甲烷、環己基羰基(苯磺醯基)重氮甲烷、叔丁基羰基(苯磺醯基)重氮甲烷、苯基羰基(環己基磺醯基)重氮甲烷或苯基羰基(叔丁基羰基)重氮甲烷。本發明青紫色雷射感光性組合物中，作為負型感光性組合物(N2)中的上述增感劑、鹼溶性樹脂、交聯劑和光酸產生劑的含量，基於ioo重量份上述鹼溶性樹脂，優選增感劑為0.1至30重量份，交聯劑為1至80重量份，光酸產生劑為0.001至30重量份，特別優選增感劑為0.5至20重量份，交聯劑為5至60重量份，光酸產生劑為0.005至10重量份。此外，本發明青紫色雷射感光性組合物中，作為負型感光性組合物，可以是例如包含上述增感劑並以含酸交聯性基團的樹脂和光酸產生劑作為基本組成的負型感光性組合物(N3)。(負型感光性組合物(N3))本發明中，負型感光性組合物(N3)中的含酸交聯性基團的樹脂是用活性光束照射感光性組合物時在下文所述光酸產生劑的作用下形成交聯結構的樹脂。作為酸交聯性基團，具體地說，可以是例如羥基甲基、烷氧基甲基、乙烯醚基或環氧基。包含該酸交聯性基團的含酸交聯性基團樹脂沒有特別限制，只要它是每分子具有至少兩個酸交聯性基團的樹脂即可，具體地說，可以是例如，由以下方法得到的樹脂含酚羥基樹脂中的至少部分酚羥基被醚化或酯化以引入上述酸交聯性基團而得到的樹脂，所述含酚羥基樹脂是例如酚樹脂，如酚醛樹脂或甲階酚醛樹脂，或聚乙烯基苯酚樹脂，所述含酚羥基樹脂作為鹼溶性樹脂用於上述負型感光性組合物(N2);由以下方法得到的樹脂含羧基的乙烯基型樹脂中的至少部分羧基被酯化以引入上述酸性交聯基團而得到的樹脂，所述的含羧基的乙烯基型樹脂作為鹼溶性樹脂用於上述負型感光性組合物(N,);或通過具有上述酸交聯性基團的乙烯基型單體的聚合或共聚合，引入上述酸交聯性基團而得到的樹脂。其中，優選是以線型酚醛樹脂或聚乙烯基苯酚樹脂作為基體的樹脂，特別優選是以線型酚醛樹脂作為基體的樹脂。含酸交聯性基團的樹脂包括引入酸交聯性基團的樹脂和沒有引入酸交聯性基團的樹脂形成的混合物。此外，本發明中，作為負型感光性組合物(N3)中的光酸產生劑，可以是與上述負型感光性組合物(N2)所述的光酸產生劑相同的化合物。作為本發明青紫色雷射感光性組合物，對於負型感光性組合物(N3)中的上述增感劑、含酸交聯基樹脂和光酸產生劑的含量，基於100重量份上述含酸交聯性基團的樹脂，優選增感劑為0.1至30重量份，光酸產生劑為0.001至30重量份，特別優選增感劑為0.5至20重量份，光酸產生劑為0.005至10重量份。根據情況需要，本發明上述負型感光性組合物(N^、上述負型感光性組合物(N2)和上述負型感光性組合物(N3)可以進一步包含各種常用於感光性組合物的添加劑，例如塗布性能改善劑、粘合性能改善劑、靈敏度改善劑、脂類增感劑(lipidsensitizer)、著色劑和顯影性能改善劑。{所述感光性組合物的除上述以外的物理性能}本發明青紫色雷射感光性組合物優選在390430nm的波長範圍中具有光譜靈敏度的最大峰值，更優選在400420nm的波長範圍中具有光譜靈敏度的最大峰值。當它的光譜靈敏度的最大峰值所在的波長範圍小於上述範圍時，作為感光性組合物，它對波長390430nm的雷射束的靈敏度往往較差，而如果它在超過上述範圍的波長範圍中具有最大峰值，則缺乏黃色燈下的安全光性能。本發明中，光譜靈敏度的最大峰值為光譜靈敏度曲線中的最大峰值，所述光譜靈敏度曲線通過以下方法得到通過使用光譜靈敏度測量儀器，將來自例如氙氣燈或鎢絲燈等光源的光線分光，使得曝光波長在水平軸方向上線性變化，並且曝光強度在垂直軸方向上對數性變化，用分光的光線照射包含基板和在該基板表面上形成的感光性組合物層的感光性圖像形成元件樣品以進行曝光，隨後進行顯影處理以得到對應各曝光波長的靈敏度的圖像，根據圖像高度計算能夠形成圖像的曝光能量，以波長為橫軸，並以曝光能量的倒數為縱軸得到圖表，該方法公開於例如"光聚合物技術(PhotopolymerTechnology)"(山岡亞夫，日刊工業新聞社出版，1988，第262頁)。此外，本發明青紫色雷射感光性組合物在波長410nm處能夠形成圖像的最小曝光量(S4K))與在波長450nm處能夠形成圖像的最小曝光量(S450(mJ/cm勺)的比率(S4K)/S45。)優選最多0.1，更優選最多0.05。如果比率(S4H)/S450)超過上述範圍，往往難以同時得到滿意的青紫色雷射的靈敏度和在黃色燈下的安全光性能。作為能夠形成圖像的曝光能量，在波長410nm處能夠形成圖像的最小曝光量(S4K))和在波長450nm處能夠形成圖像的最小曝光量(S45o)是根據在上述用光譜靈敏度測量儀器測量的光譜靈敏度最大峰值中得到的圖像高度計算得到的，它們是指在通過改變例如顯影劑類型、顯影溫度和顯影時間等顯影條件確定的最佳顯影條件下能夠形成圖像的最小曝光量。作為最佳顯影條件，通常採用在25'C、具有ll至14pH的鹼性顯影劑中浸漬該組合物0.53分鐘這一條件。{圖像形成材料(A)和圖像形成元件(B)〉本發明負型青紫色雷射感光性組合物可以用於形成本發明負型青紫色雷射感光圖像形成材料(A)(在下文有時簡稱為圖像形成材料(A))。圖像形成材料(A)通常通過以下方法形成用具有溶解或分散在合適溶劑的上述各種組分的塗布液塗布臨時支持膜，隨後乾燥，並根據情況需要，用覆蓋膜覆蓋所形成的感光性組合物層的表面。作為該圖像形成材料(A)，可以是例如幹膜抗蝕材料。此外，上述圖像形成材料(A)可以進一步用於形成本發明負型青紫色雷射感光圖像形成元件(B)(在下文有時簡稱為圖像形成元件(B))。通常有兩種方法製備圖像形成元件(B)。一種方法是，將圖像形成材料(A)層壓在被加工基板的感光性組合物層一側，如果該側覆蓋了覆蓋膜，則在剝離該覆蓋膜後，將圖像形成材料(A)層壓在被加工基板的感光性組合物層一側。另一種方法是根據下列工序(1)(3)來實施。(l)將用於上述負型青紫色雷射感光性組合物的各組分溶解或分散在合適溶劑中以製備塗布液；(2)直接在被加工基板上塗布所述塗布液，隨後乾燥；(3)在被加工基板上形成負型青紫色雷射感光性組合物層。圖像形成元件(B)適用於下列圖像形成方法。g卩，用波長390430nm的雷射束掃描曝光該圖像形成元件(B)的感光性組合物層，隨後通過顯影處理使圖像顯影。當圖像形成材料(A)用作例如幹膜抗蝕材料時，臨時支持膜採用以往己知的膜，例如聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚醯亞胺膜、聚醯胺醯亞胺膜、聚丙烯膜或聚苯乙烯膜。在這種情況下，當該膜具有製備圖像形成材料(A)時所需的耐溶劑性、耐熱性等時，可以在臨時支持膜上直接塗布感光性組合物塗布液，隨後乾燥以製備本發明的圖像形成材料(A)。此外，如果該膜具有低耐溶劑性、低耐熱性等，首先在具有脫模性的膜例如聚四氟乙烯膜上或脫模性膜上形成感光性組合物層，然後在上述層上層壓具有低耐溶劑性、低耐熱性等的臨時支持膜，然後剝離所述具有脫模性的膜，從而可以製得本發明圖像形成材料(A)。在要求解析度特別高的情況下，臨時支持膜的霧值優選為0.01%1.8%，臨時支持膜的厚度優選是1030ym。用於塗布液的溶劑沒有特別限制，只要它對所使用的組分具有足夠溶解度，並提供良好的塗膜性即可。例如，可以是溶纖劑類溶劑，例如甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、甲基溶纖劑乙酸酯或乙基溶纖劑乙酸酯；丙二醇類溶劑，例如丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單丁基醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丁基醚乙酸酯或二丙二醇二甲醚；酯類溶劑例如乙酸丁酯、乙酸戊酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、草酸二乙酯、丙酮酸乙酯、2-羥基丁酸乙基酯、乙醯乙酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯或3-甲氧基丙酸甲基酯；醇類溶劑，例如庚醇、己醇、雙丙酮醇或糠醇；酮類溶劑例如環己酮或2-庚酮；高極性溶劑，例如二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺或N-甲基吡咯烷酮；或它們的混合溶劑，或具有加入所述溶劑的芳香烴的溶劑。溶劑的比例按重量比率計算通常為感光性組合物總重量的約1倍約20倍。此外，作為塗布方法，可以是以往已知的方法，例如旋轉塗布、繞線棒塗布、噴塗、浸塗、氣刀塗布、輥式塗布、刮塗、絲網塗布或幕塗。作為塗布量，考慮到例如在下文所述的圖像形成和在隨後蝕刻或電鍍時的加工性能，該幹膜厚度至少為O.lym，更優選至少為10um，考慮到例如靈敏度，它優選最多200um，更優選最多100um。乾燥溫度例如是約3(TC至約15(TC，優選約4(TC至約11(TC，乾燥時間例如是約5秒至60分鐘，優選約10秒至約30分鐘。在要求解析度特別高的情況中，作為覆蓋膜上與感光性組合物的接觸的平面的表面粗糙度Ra優選最多0.15ixm，Rm^優選最多1.5ixm，覆蓋膜中包含的直徑至少80um的魚眼的數量優選最多5個/m2。此外，當圖像形成材料(A)用作例如幹膜抗蝕材料時，優選在將圖像形成材料(A)層壓在被加工基板上之前的這段時間，一直用覆蓋膜覆蓋所形成的感光性組合物層的表面，作為該覆蓋膜，可以採用以往已知的膜，例如聚乙烯膜、聚丙烯膜或聚四氟乙烯膜。通過加熱、加壓等，將上述圖像形成材料(A)的感光性組合物層一側層壓在被加工基板上，如果該感光性組合物層一側覆蓋有覆蓋膜，則剝離上述覆蓋膜，隨後通過加熱、加壓等，將圖像形成材料(A)的感光性組合物層一側層壓在被加工基板上；或者，在被加工基板上直接塗布上述感光性組合物塗布液，隨後進行乾燥，從而製得本發明圖像形成元件(B)。通過用例如雷射束曝光該基板上形成的感光性組合物層，隨後進行顯影處理，將所顯影的負型圖像作為抗蝕劑，通過例如蝕刻或電鍍在該基板表面上形成例如電路或電極圖案。所述被加工基板本身可以是金屬板，例如銅、鋁、金、銀、鉻、鋅、錫、鉛或鎳。通常，優選採用金屬包層層壓板，該金屬包層層壓板包含厚度約0.02mm約10mm的絕緣支持物和該支持物表面上所形成的厚度約lum至約100um的導電層，該絕緣支持物由以下物質製成樹脂，例如熱固性樹脂，如環氧樹脂、聚醯亞胺樹脂、雙馬來醯亞胺樹脂、不飽和聚酯樹脂、酚樹脂或三聚氰胺樹脂；或熱塑性樹脂，例如飽和聚酯樹脂、聚碳酸酯樹酯、聚碸樹脂、丙烯酸樹脂、聚醯胺樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚烯烴樹脂或氟樹脂；紙；玻璃；無機材料，例如氧化鋁、二氧化矽、硫酸鋇或碳酸鈣；或複合材料，例如玻璃織物基材環氧樹脂、玻璃無紡織物基材環氧樹脂、紙基材環氧樹脂或紙基材酚樹脂；所述導電層由以下方法形成將上述金屬或金屬氧化物(例如氧化銦、氧化錫、氧化銦摻雜的氧化錫等)的金屬箔加熱或通過接觸粘合來層壓，或將金屬濺射、汽相沉積或電鍍等。當通過直接塗布上述感光性組合物塗布液以及隨後乾燥來製備圖像形成元件(B)時，可以在上述被加工基板上所形成的感光性組合物層上形成保護層例如氧阻擋層，以防止氧氣對感光性組合物的阻聚作用；或透光性調整層，以調整靈敏度的波長範圍。構成氧阻擋層的物質是一種水溶性聚合物，該水溶性聚合物可溶於水，或可溶於水與可混溶水的有機溶劑例如醇或四氫呋喃形成的混合溶劑，具體可以是例如聚乙烯醇或其衍生物，例如聚乙烯醇部分縮醛化的產物、由例如季銨鹽與聚乙烯醇形成的陽離子改性產物或由聚乙烯醇與例如磺酸鈉形成的陰離子改性產物、聚乙烯基吡咯垸酮、聚氧乙烯、甲基纖維素、羧甲基纖維素、羥乙基纖維素或羥丙基纖維素。其中，考慮到例如氧阻擋性能，優選聚乙烯醇或其衍生物，考慮到例如與感光性組合物層的粘合性能，優選乙烯基吡咯垸酮型聚合物，例如聚乙烯基吡咯烷酮或乙烯基吡咯垸酮/醋酸乙烯酯共聚物。作為氧阻擋層，優選使用以下的混合物相對於100重量份的聚乙烯醇或其衍生物，該混合物優選包含1至20重量份、更優選3至15重量份的聚乙烯基吡咯烷酮型聚合物。考慮到賦予儲存穩定性，氧阻擋層優選包含有機酸，例如琥珀酸；或有機酸鹽，例如乙二胺四乙酸。它還可以包含非離子型表面活性劑，例如聚氧乙烯烷基苯基醚；陰離子表面活性劑，例如十二烷基苯磺酸鈉；陽離子表面活性劑，例如垸基三甲基氯化銨；消泡劑、染料、增塑劑、pH調節劑等。它們的總含量優選是至多10重量％，更優選至多5重量％。採用水溶液或水與可混溶水的有機溶劑形成的混合溶劑溶液，通過與上述感光性組合物層所用的塗布方法相同的方法形成氧阻擋層，塗布量按照乾燥厚度計算優選是110g/m2，更優選為1.57g/m2。此外，作為構成透光性調整層的物質，可以是通過將吸收可見光光線的吸光性染料例如香豆素型染料加入聚合物粘合材料中而得到的物質。通過採用聚乙烯醇或其衍生物或聚乙烯基吡咯烷酮型聚合物作為聚合物粘合材料用於上述氧阻擋層，可以得到具有氧阻擋性能和透光性調整性能的保護層。作為具有形成於被加工基板上的本發明青紫色雷射感光性組合物層的如上所述製備的本發明圖像形成元件(B)，優選是具有由上述負型感光性組合物(Ni)構成的感光性組合物層的圖像形成元件。在這種情況下，為了有效得到上述膜殘留率/曝光量特性或上述顯影速度/曝光量特性，構成感光性組合物層的負型感光性組合物(Ni)中阻聚劑含量優選是560ppm，特別優選阻聚劑含量的下限是10ppm，上限是50ppm。{圖像形成方法}對於具有形成於被加工基板上的本發明青紫色雷射感光性組合物層的上述本發明圖像形成元件(B)，當由上述圖像形成材料(A)形成感光性組合物層時，在剝離臨時支持膜後，或當通過直接塗布感光性組合物塗布液再隨後將其乾燥以形成感光性組合物層時，當具有上述保護層等時，在剝離保護層等後，採用雷射束作為曝光光源來掃描曝光該感光性組合物層，隨後進行顯影處理，從而在被加工基板上形成負型圖像。作為雷射源，可以是例如氦氖雷射器、氬離子雷射器、釔鋁石榴石雷射器、HeCd雷射器、半導體雷射器或紅寶石雷射器，特別優選是在390430nm波長範圍內的青紫區域中產生雷射束的光源。儘管它沒有特別限制，但具體地說，可以是例如振蕩410nm雷射束的氮化銦鎵半導體雷射器°此外，使用雷射源的掃描曝光方法沒有特別限制，可以是例如平面掃描曝光方法、外鼓掃描曝光方法或內鼓掃描曝光方法。進行掃描曝光時優選雷射輸出光強度為l100mW，更優選370mW，振蕩波長優選為390430nm，更優選400420nm，束斑直徑優選為0.530um，更優選l20um，掃描速度優選為50500m/秒，更優選100400m/秒，掃描密度優選至少2000dpi(點/英寸)，更優選至少4000dpi。雷射掃描曝光後的顯影處理優選通過使用包含鹼性成分和表面活性劑的水性顯影劑來進行。鹼性成分可以是例如無機鹼鹽，如矽酸鈉、矽酸鉀、矽酸鋰、矽酸銨、偏矽酸鈉、偏矽酸鉀、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰、碳酸鈉、碳酸氫鈉、碳酸鉀、磷酸氫二鈉、磷酸三鈉、磷酸氫二銨、磷酸銨、硼酸鈉、硼酸鉀或硼酸銨；或有機胺化合物，例如單甲胺、二甲胺、三甲胺、單乙胺、二乙胺、三乙胺、單異丙胺、二異丙胺、單丁胺、單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、單異丙醇胺或二異丙醇胺，所述鹼性成分以約0.1重量％約5重量％的濃度使用。此外，作為表面活性劑，可以是與用於上述感光性組合物的表面活性劑相同的表面活性劑，其中，優選是非離子、陰離子或兩性表面活性劑，特別優選是兩性表面活性劑，尤其優選是甜菜鹼型化合物。表面活性劑優選以0.0001重量％20重量％的濃度使用，更優選濃度為0.0005重量％10重量％，特別優選0.001重量％5重量％。此外，根據情況需要，可以在顯影劑中加入有機溶劑，如異丙醇、苯甲醇、乙基溶纖劑、丁基溶纖劑、苯基溶纖劑、丙二醇或雙丙酮醇。此外，顯影劑的pH優選為9至14，更優選11至14。所述顯影通常用以下的已知顯影方法來進行例如，在優選約10'C約5(TC、更優選約15'C約45T:的溫度下，用約5秒至約10分鐘的時間，在上述顯影劑中浸漬圖像形成元件或將上述顯影劑噴灑在圖像形成元件上。此外，顯影處理後，可以使用例如高壓水銀燈等光源照射處理所形成的負型圖像和/或在約14(TC至約16(TC的溫度下對該負型圖像進行熱處理，從而可以改善其作為抗蝕劑的耐化學性等。實施例現在，將參考實施例進一步詳細說明本發明。然而，在不超出要旨的範圍內，本發明決不局限於下列實施例。實施例1和2以及對比例1在100重量份的甲基乙基酮/異丙醇(重量比8/2)的混合溶劑中按表l所示的配方加入增感劑(1)至(6)、烯屬不飽和化合物(l)、光聚合引發劑(l)、鹼溶性樹脂(1)和(2)和其它組分(1)至(3)，隨後在室溫下攪拌以製備塗布液。在作為臨時支持膜的聚對苯二甲酸乙二酯膜(厚度19Pm)上使用塗布器以乾燥厚度為20um的量塗布每種塗布液，隨後在90。C的烘箱中乾燥。在形成的負型感光性組合物(N,)層上，層壓作為覆蓋膜的聚乙烯膜(厚度25ixm)以製備負型青紫色雷射感光圖像形成材料(A)。{增感劑}(1)下列化合物(最大吸收365nm，配方(I)中包含的化合物)(2)下列化合物(最大吸收386nm，配方(III)中包含的化合物)(3)下列化合物(最大吸收389nm，配方(XI)中包含的化合物)(4)下列化合物(最大吸收378nm，配方(XII)中包含的化合物)(5)下列化合物(最大吸收414nm，配方(XII)中包含的化合物)(6)下列化合物(最大吸收365nm，配方(XII)中包含的化合物)formulaseeoriginaldocumentpage59formulaseeoriginaldocumentpage603{烯屬不飽和化合物}(1)下列化合物(包含250ppm對甲氧苯酚作為阻聚劑，"BPE-500"，由新中村化學社生產。)formulaseeoriginaldocumentpage61{光聚合引發劑}(1)2,2，-雙(鄰氯苯基)-4,4，,5，5，-四苯基二咪唑(熔點17rC，在1.54埃波長的X射線衍射譜中在布拉格角(2e±0.2°)21.16°處具有最大衍射峰){鹼溶性樹脂}(1)苯乙烯/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸正丁酯/丙烯酸2-乙基己基酯/甲基丙烯酸2-羥乙酯/甲基丙烯酸共聚物(摩爾比率10/35/10/10/15/20，酸值144KOH'mg/g，重均分子量62300，沒有加入阻聚劑)(2)相同的共聚物(加入500ppm對甲氧苯酚作為阻聚劑){其它組分}(1)隱色結晶紫(2)結晶紫(3)對甲氧苯酚(另外加入)另外，通過使用"Scotch-BriteSF'(由SUMITOMO3MLimited生產)以拋光輥將包含聚醯亞胺樹脂和厚度為35pm且與該樹脂粘合的銅箔的包銅層壓基板(厚度1.5mm,尺寸250mmx200mm)的銅箔表面拋光，用水洗滌並以空氣流乾燥以平整其表面。在烘箱中將基板預加熱至6(TC，然後使用手動式輥層壓機以10(TC的輥溫、0.3MPa的輥壓、1.5m/分鐘的層壓速度，將上述得到的負型青紫色雷射感光圖像形成材料(A)被剝去聚乙烯膜後的剝離面層壓在所述包銅層壓板的銅箔上，以生產負型青紫色雷射感光圖像形成元件(B)，該元件包含包銅層壓基板和在該基板上形成的負型感光性組合物(ND層。對於得到的負型青紫色雷射感光圖像形成元件(B)的感光性組合物層，藉助氣相色譜根據下列方法測量阻聚劑的含量，結果列於表l。{測量阻聚劑含量}在下列條件下，藉助氣相色譜根據對甲氧苯酚的丙酮標準溶液(O、1、3、10、20、50ppm)的測量值製得分析曲線。另一方面，在丙酮中溶解抗蝕圖像形成元件(B)的光聚合性組合物層以製備10重量。/。溶液，在下列條件下，藉助氣相色譜根據所述溶液的測量值進行測定。{條件}柱HP-5(0.32mm內徑X30md.f.(載體的固定液有效厚度)0.25um)載體He2.0mL/分鐘分流比1/10進樣口溫度250°C檢測器FID(火焰離子化檢測器)320°C烘箱5(TC2(TC/分鐘-30(TC(10分鐘)注射量2.0uL的10重量G/。丙酮溶液此外，對於得到的負型青紫色雷射感光圖像形成元件(B)的感光性組合物層，用下列方法測量所述斷點和使膜殘留率變為至少90%的最小曝光量，結果列於表l。{斷點}用25'C的0.7重量。/。碳酸鈉水溶液作為顯影劑在0.15MPa下對未曝光的所得圖像形成元件的感光性組合物層進行噴霧，並測量直至完全溶解組合物層的時間。{最小曝光量}使用具有405nm中心波長和5mW雷射輸出功率的雷射源("NLHV500C"，由日亞化學工業社生產)以2mW的圖像照度、20um的束斑直徑對所得的圖像形成元件(B)的感光性組合物層進行掃描曝光，同時變換光束掃描間隔和掃描速度。然後，用25t:的0.7重量％碳酸鈉水溶液作為顯影劑在0.15MPa下對感光性組合物層進行噴霧，並用1.5倍的斷點時間進行噴霧顯影以使0.5mmXO.5mm的實地圖像顯影，根據由"Alpha-Step500"(由KLATencorCorporation生產)在各掃描條件下測得的厚度計算使膜殘留率變為90%的曝光量。此外，根據上述得到的曝光量和膜殘留率計算上述配方(1)中的Y值和上述配方(2)中的a值，結果列於表l。(rf直、a值〉根據上述得到的曝光量和膜殘留率，以膜殘留率(t(%))對曝光量的對數(logE(mJ/cm^作圖，從而製得膜殘留率/曝光量曲線，連接膜殘留率的15%點和80%點，根據公式t，logE+5(圖l)計算Y值。此外，通過從上述得到的膜殘留率計算溶解膜率(100-t(%))，以由該溶解膜率除以顯影時間(T(秒))得到的顯影速度(s^lOO-tVT(%/秒))作圖，製得顯影速度/曝光量曲線，連接最大顯影速度的80%點和20%點，根據公式s=-01108￡+^(圖2)計算a值，結果列於表l。此外，對於得到的圖像形成元件(B)的感光性組合物層，用下列方法分別評估光譜靈敏度的最大峰值、在波長410nm處能夠形成圖像的最小曝光量(S4K)(mJ/cm^)與在波長450nm處能夠形成圖像的最小曝光量(S45(mJ/cm^)的比率(S4K)/S45o)以及在黃色燈下的安全光性能，結果列於表l。{光譜靈敏度的最大峰值}用採用氙氣燈("UI-501C"，由USHIOINC.生產)作為光源的衍射光譜照射裝置("RM-23"，由NarumiK.K.生產)曝光由圖像形成元件(B)切成50mmX60mm尺寸得到的樣品，其曝光方式為，用被分光至350650nm波長範圍內的光譜的光照射樣品10秒，以使得曝光波長在橫軸方向上線性地變化並且使曝光強度在縱軸方向上對數性變化。然後，用25'C的0.7重量％碳酸鈉水溶液作為顯影劑在0.15MPa下對樣品噴霧，並在1.5倍斷點的時間內進行噴霧顯影以得到對應於各曝光波長靈敏度的圖像。根據圖像高度計算能夠形成圖像的曝光能量，並分別以波長為橫軸、以該波長的曝光能量倒數為縱軸作圖，以得到光譜靈敏度曲線，從其讀出最大峰值。{(SWS450)}當通過在350650nm波長範圍內改變波長以與上述相同的方法進行曝光隨後顯影時，得到在波長410nm處能夠形成圖像的最小曝光量(S4H)(mJ/cm,)和在波長450nm處能夠形成圖像的最小曝光量(S45o(mJ/cm2))，計算其比率(S4K)/S45)，並根據下列標準進行評估。A:S4H)/S45。最大為0.03。B:S41/S45大於0.03，最大為0.05。C:S4H)/S45o大於0.05，最大為O.l。D:S4/S45o超過0.1。{在黃色燈下的安全光性能}在黃色燈(在波長至多約470nm的光線被擋住的條件下)下將圖像形成元件(B)靜置1分鐘、2分鐘、5分鐘、IO分鐘、20分鐘或30分鐘，然後以與上述相同的方法進行掃描曝光和顯影處理，以得到直至與上述相比圖像發生變化之前的靜置時間，並基於下列標準進行評估。A:至少20分鐘。B:至少10分鐘且小於20分鐘。C:至少1分鐘且小於10分鐘。D:小於1分鐘。此外，對於得到的圖像形成元件(B)的感光性組合物層，用下列方法評估解析度性能和矩形性能，結果列於表l。{解析度性能}使用具有405nm中心波長和5mW雷射輸出功率的雷射源("NLHV500C"，由日亞化學工業社生產)以2mW的圖像照度和20Um的束斑直徑對得到的圖像形成元件(B)的感光性組合物層進行掃描曝光，同時改變光束掃描間隔和掃描速度。然後，用25'C的0.7重量n/。碳酸鈉水溶液作為顯影劑在0.15MPa下對感光性組合物層進行噴霧，並在1.5倍斷點的時間內進行噴霧顯影以使以20um間距平行排列20條寬度20um、長度0.2cm的線條的圖像顯影，並根據下列標準評估圖像線寬的重現性。O.-再現20lim的線寬。X:線寬比20um寬或窄。{矩形性能}以與解析度性能評估相同的方法使具有以間距20ym平行排列的、寬度20um、長度0.20111的20條線條的圖像顯影，並根據下列標準評估圖象線條的銳利度。0:邊緣呈銳利的矩形，而無褶邊。X:邊緣是豐滿的梯形或呈底腳形。對比例2和3通過採用可商購的由公司A生產的幹膜抗蝕材料(高靈敏度型)和由公司B生產的幹膜抗蝕材料(高解析度型)，以與上述相同的方法生產抗蝕圖像形成元件(B)，以同樣方式評估，結果列於表l。tableseeoriginaldocumentpage66工業實用性太紫昍的布刑青砦傷攀l鹹光'炸織^物、知菜田的圖像形成材糾(A)、圖像形成元件(B)和圖像形成方法用於如抗蝕刻塗層或抗電鍍層，以用來形成如印刷線路板、液晶顯示元件、等離子體顯示、大規模集成電路、薄膜電晶體、半導體封裝、濾色片或有機電致發光體中的例如導電電路或電極加工基板，並特別適於用波長範圍390430nm的青紫色雷射束進行直接記錄。本發明基於日本專利申請號2003-332626(2003年9月25日提交)和日本專利申請號2003-344636(2003年10月2日提交)，其全部內容以參照的形式引入本文。權利要求1.一種感光性組合物，所述組合物包含下列通式(XI)至(XIII)代表的增感劑中的至少一種類型上述通式(XI)～(XIII)中，環A～G各自彼此獨立地具有作為基本骨架的芳烴環或芳香雜環，環A和B、環D和E、或者環F和G選擇性地互相鍵連形成包含N的鍵合環；上述通式(XII)中，連接基團L代表包含芳烴環和/或芳香雜環的連接基團，連接基團L和N通過所述芳烴環或芳香雜環鍵連，n代表至少2的整數；通式(XIII)中，R代表選擇性具有取代基的烷基；環A～G和連接基團L選擇性具有取代基，該取代基選擇性地互相鍵連成環。2.如權利要求l所述的感光性組合物，其特徵在於，環A至G各自彼此獨立地具有作為基本骨架的以下芳烴環或以下芳香雜環，所述芳烴環選自苯環、萘環、蒽環、菲環、甘菊環、芴環、苊烯環和茚環；所述芳香雜環選自呋喃環、噻吩環、吡咯環、噁唑環、異噁唑環、噻唑環、異噻唑環、咪唑環、吡唑環、呋咱環、三唑環、卩比喃環、噻二唑環、噁二唑環、吡啶環、噠嗪環、嘧啶環和吡嗪環，連接基團L包含一個或多個選自上述芳烴環和芳香雜環的環，當它包含兩個或多於兩個的環時，所述環是直接連接的或經由二價或高於二價的連接基團連接。3.如權利要求1或2所述的感光性組合物，其特徵在於，環A至G和連接基團L選擇性具有的取代基選自卣素原子；羥基；硝基；氰基；羧基；和選擇性地具有取代基的以下基團垸基、環烷基、鏈烯基、環烯基、烷氧基、烷硫基、芳基、芳烷基、烯氧基、烯硫基、醯基、醯氧基、氨基、醯氨基、氨基甲酸酯基、氨甲醯基、羧酸酯基、氨磺醯基、磺酸酯基、由-C:N代表的基團、由-C:N-N代表的基團和飽和或不飽和雜環基。4.如權利要求13任一項所述的感光性組合物，其中，所述由通式(XI)至(XIIi:)代表的增感劑在330450nm波長範圍內具有最大吸收。5.如權利要求14任一項所述的感光性組合物，所述組合物包括光聚合性感光性組合物，所述光聚合性感光性組合物含有烯屬不飽和化合物和一種或一種以上的光聚合引發劑，所述光聚合引發劑選自由六芳基二咪唑型化合物、滷代烴衍生物、碘鎗鹽、有機硼酸鹽和二茂鈦型化合物組成的組。6.如權利要求5所述的感光性組合物，其中，所述光聚合引發劑是六芳基二咪唑型化合物。7.如權利要求14任一項所述的感光性組合物，所述組合物還包含光酸產生劑。8.如權利要求7所述的感光性組合物，所述組合物還包含以下組分(N-l)和(N-2):(N-l)鹼溶性樹脂；和(N-2)在酸性條件下作用於所述鹼溶性樹脂的交聯劑。9.如權利要求7所述的感光性組合物，所述組合物還包含以下組分(P-l):(P-l)含有酸分解性基團的聚合物。10.—種圖像形成方法，其特徵在於，利用諸如氦氖雷射器、氬離子雷射器、釔鋁石榴石雷射器、HeCd雷射器、半導體雷射器或紅寶石雷射器的曝光光源對權利要求19任一項所述的感光性組合物進行掃描曝光，然後將所述組合物顯影。全文摘要本發明提供了一種感光性組合物和圖像形成方法，所述組合物包含下列通式(XI)至(XIII)代表的增感劑中的至少一種類型，在所述通式(XI)～(XIII)中，環A～G各自彼此獨立地具有作為基本骨架的芳烴環或芳香雜環，環A和B、環D和E、或者環F和G選擇性地互相鍵連形成包含N的鍵合環；在通式(XII)中，連接基團L代表包含芳烴環和/或芳香雜環的連接基團，連接基團L和N通過所述芳烴環或芳香雜環鍵連，n代表至少2的整數；通式(XIII)中，R代表選擇性具有取代基的烷基；環A～G和連接基團L選擇性具有取代基，該取代基選擇性地互相鍵連成環。文檔編號G03F7/031GK101165593SQ200710169939公開日2008年4月23日申請日期2004年9月22日優先權日2003年9月25日發明者利光惠理子,水上潤二,瑞穗右二,龜山泰弘申請人:三菱化學株式會社;日本合成化學工業株式會社