缺陷檢查用拍攝裝置及系統、膜製造裝置及製造方法、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查方法與流程

2023-05-24 14:47:31 2

本發明涉及用於檢查膜的缺陷的缺陷檢查用拍攝裝置、缺陷檢查系統、膜製造裝置、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查方法以及膜的製造方法。

背景技術：

已知對偏振膜以及相位差膜等光學膜、電池的隔膜中使用的膜等的缺陷進行檢測的缺陷檢查系統。這種缺陷檢查系統利用搬運機構搬運膜，利用光照射機構向膜的拍攝區域照射光，利用拍攝機構拍攝膜的拍攝區域，並根據所拍攝的圖像進行缺陷檢查。作為基於這種缺陷檢查系統進行的缺陷檢查方法的種類，大體分為透射法和反射法。更詳細地說，作為透射法，有正透射法、正交偏振(crossednicol)透射法、透射散射法，作為反射法，有正反射法、正交偏振反射法、反射散射法。在專利文獻1中，公開了作為透射法而使用了正透射法、透射散射法的缺陷檢查系統，另外，公開了作為反射法而使用了正反射法、反射散射法的缺陷檢查系統，在專利文獻2中，公開了作為透射法而使用了正交偏振透射法的缺陷檢查系統。

例如，正透射法適於檢測膜貼合工序中的混入、附著所導致的黑異物，正交偏振透射法適於檢測粘合件塗敷工序中的混入、附著所導致的亮點，透射散射法適於檢測膜搬運工序中的附著異物導致的劃痕轉印所帶來的變形。另一方面，反射法(正反射法、正交偏振反射法、反射散射法)適於檢測貼合工序中的咬入所導致的氣泡。

在先技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2012-167975號公報

專利文獻2：日本特開2007-212442號公報

為了檢測黑異物、亮點、變形、氣泡之類的不同的多個缺陷，考慮使用不同的多種檢查方法(檢查系列)。然而，若檢查系列數變多，則投入成本、管理成本變高，因此希望削減檢查系列數。

技術實現要素：

發明要解決的課題

因此，本發明的目的在於提供能夠整合不同的檢查系列而削減檢查系列數的缺陷檢查用拍攝裝置、缺陷檢查系統、膜製造裝置、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查方法以及膜的製造方法。

用於解決課題的手段

本發明的缺陷檢查用拍攝裝置用於進行具有偏振特性的膜的缺陷檢查，其中，所述缺陷檢查用拍攝裝置具備：光照射機構，其向膜的拍攝區域照射光；拍攝機構，其將膜的拍攝區域拍攝為二維圖像；第一偏振濾波器，其以與膜形成正交偏振狀態或者第一非正交偏振狀態的方式，配置在光照射機構與膜的拍攝區域之間、或者膜的拍攝區域與拍攝機構之間；以及搬運機構，其相對於光照射機構、拍攝機構以及第一偏振濾波器沿搬運方向相對地搬運膜，拍攝區域包括在搬運方向上被分割出的第一拍攝區域以及第二拍攝區域，第一偏振濾波器配置在光照射機構與第一拍攝區域之間、或者第一拍攝區域與拍攝機構之間。

另外，本發明的缺陷檢查用拍攝方法使用具備光照射機構、拍攝機構、第一偏振濾波器、以及搬運機構的缺陷檢查用拍攝裝置進行用於檢查具有偏振特性的膜的缺陷的拍攝，其中，所述缺陷檢查用拍攝方法包括如下工序：第一偏振濾波器配置工序，將第一偏振濾波器以與膜形成正交偏振狀態或者第一非正交偏振狀態的方式，配置在光照射機構與膜的拍攝區域之間、或者膜的拍攝區域與拍攝機構之間；搬運工序，利用搬運機構相對於光照射機構、拍攝機構以及第一偏振濾波器沿搬運方向相對地搬運膜；光照射工序，利用光照射機構向膜的拍攝區域照射光；以及拍攝工序，利用拍攝機構將膜的拍攝區域拍攝為二維圖像，拍攝區域包括在搬運方向上被分割出的第一拍攝區域以及第二拍攝區域，在第一偏振濾波器配置工序中，將第一偏振濾波器配置在光照射機構與第一拍攝區域之間、或者第一拍攝區域與拍攝機構之間。

在此，正交偏振狀態指的是，偏振濾波器的偏振軸(偏振吸收軸)與膜的偏振軸(偏振吸收軸)實質上正交的狀態，即，偏振濾波器的偏振軸(偏振吸收軸)與膜的偏振軸(偏振吸收軸)以實質上90度的角度交叉的狀態。另一方面，非正交偏振(日文：ハーフクロスニコル)狀態指的是，偏振濾波器的偏振軸(偏振吸收軸)與膜的偏振軸(偏振吸收軸)實質不上正交而是交叉的狀態，即，偏振濾波器的偏振軸(偏振吸收軸)與膜的偏振軸(偏振吸收軸)以實質上90度以外的角度交叉的狀態。

根據該缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法，例如，由於第一偏振濾波器以與膜形成正交偏振狀態的方式，配置在光照射機構與第一拍攝區域之間、或者第一拍攝區域與拍攝機構之間，拍攝機構將包括第一拍攝區域以及第二拍攝區域的拍攝區域拍攝為二維圖像，因此能夠同時拍攝第一拍攝區域的正交偏振透射檢查用圖像(或者正交偏振反射檢查用圖像)、第二拍攝區域的例如正透射檢查用圖像(或者正反射檢查用圖像)。即，能夠整合正交偏振透射檢查用拍攝系列(或者正交偏振反射檢查用拍攝系列)和例如正透射檢查用拍攝系列(或者正反射檢查用拍攝系列)。其結果是，能夠整合正交偏振透射檢查系列(或者正交偏振反射檢查系列)和例如正透射檢查系列(或者正反射檢查系列)，從而能夠削減檢查系列數。

在上述的缺陷檢查用拍攝裝置的基礎上，也可以採用如下方式，第一偏振濾波器配置在光照射機構與第一拍攝區域之間。另外，在上述的缺陷檢查用拍攝方法的基礎上，也可以採用如下方式，在第一偏振濾波器配置工序中，將第一偏振濾波器配置在光照射機構與第一拍攝區域之間。

然而，在正交偏振透射檢查用拍攝系列(或者正交偏振反射檢查用拍攝系列)與例如正透射檢查用拍攝系列(或者正反射檢查用拍攝系列)中，適當的光的亮度值不同。

因此，也可以採用如下方式，上述的缺陷檢查用拍攝裝置還具備亮度調節機構，該亮度調節機構調節照射至第一拍攝區域以及第二拍攝區域中的至少一方的光、或者透過第一拍攝區域以及第二拍攝區域中的至少一方或被第一拍攝區域以及第二拍攝區域中的至少一方反射的光的亮度值。

由此，能夠利用亮度調節機構調節照射至第一拍攝區域以及第二拍攝區域中的至少一方的光、或者透過第一拍攝區域以及第二拍攝區域中的至少一方或被第一拍攝區域以及第二拍攝區域中的至少一方射光的亮度值，因此能夠在第一拍攝區域以及第二拍攝區域的拍攝中設定適當的光的亮度值，能夠以與正交偏振透射檢查用拍攝系列(或者正交偏振反射檢查用拍攝系列)以及例如正透射檢查用拍攝系列(或者正反射檢查用拍攝系列)相應的光的亮度值進行檢查。

也可以是，上述的亮度調節機構調節照射至第二拍攝區域的光、或者透過第二拍攝區域或被第二拍攝區域反射的光的亮度值。

有時正交偏振透射檢查用拍攝系列(或者正交偏振反射檢查用拍攝系列)的適當的光的亮度值較大，正透射檢查用拍攝系列(或者正反射檢查用拍攝系列)的適當的光的亮度值較小。在這種情況下，若如上述那樣，採用亮度調節機構調節照射至第二拍攝區域的光、或者透過第二拍攝區域或被第二拍攝區域反射的光的亮度值的方式，例如通過從光照射機構輸出較大的亮度值的光，能夠使朝向用於進行正交偏振透射檢查用拍攝系列(或者正交偏振反射檢查用拍攝系列)的第一拍攝區域照射的光的亮度值較大，另一方面，能夠利用亮度調節機構使照射至用於進行正透射檢查用拍攝系列(或者正反射檢查用拍攝系列)的第二拍攝區域的光、或者透過第二拍攝區域或被第二拍攝區域反射的光的亮度值較小。

另外，也可以是，上述的亮度調節機構是配置在光照射機構與第二拍攝區域之間、或者第二拍攝區域與拍攝機構之間的衰減濾波器。

另外，也可以是，上述的亮度調節機構配置於光照射機構，單獨調節向第一拍攝區域照射的光的亮度值和向第二拍攝區域照射的光的亮度值。

在上述的缺陷檢查用拍攝裝置的基礎上，也可以是，第一偏振濾波器與膜的第一拍攝區域形成正交偏振狀態，亮度調節機構包括第一亮度調節用偏振濾波器，該第一亮度調節用偏振濾波器以與膜的第二拍攝區域形成第一非正交偏振狀態的方式，配置在光照射機構與第二拍攝區域之間、或者第二拍攝區域與拍攝機構之間。

在此，本申請的發明人們發現，正透射法適於黑異物的檢測，正交偏振透射法適於亮點的檢測，但正交偏振透射法難以檢測與較強的亮點相比稍弱的亮點。關於這一點，本申請的發明人們發現了在正交偏振透射法難以檢測的黑異物、稍弱的亮點的檢測中利用非正交透射法。

關於這一點，根據該缺陷檢查用拍攝裝置，由於第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)與膜的第二拍攝區域形成第一非正交偏振狀態，因此能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點的檢測。

另外，在上述的缺陷檢查用拍攝裝置的基礎上，也可以是，第一偏振濾波器與膜的第一拍攝區域形成第一非正交偏振狀態，亮度調節機構是配置在光照射機構與第二拍攝區域之間、或者第二拍攝區域與拍攝機構之間的衰減濾波器。

根據該缺陷檢查用拍攝裝置，由於第一偏振濾波器與膜的第一拍攝區域形成第一非正交偏振狀態，因此能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點的檢測。

另外，在上述的缺陷檢查用拍攝裝置的基礎上，也可以是，第一偏振濾波器與膜的第一拍攝區域形成第一非正交偏振狀態，亮度調節機構配置於光照射機構，單獨調節向第一拍攝區域照射的光的亮度值和向第二拍攝區域照射的光的亮度值。

在該缺陷檢查用拍攝裝置中，由於第一偏振濾波器與膜的第一拍攝區域形成第一非正交偏振狀態，因此也能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點的檢測。

另外，在上述的缺陷檢查用拍攝裝置的基礎上，也可以是，拍攝區域包括在搬運方向上被分割出的第三拍攝區域，亮度調節機構包括第二亮度調節用偏振濾波器且調節照射至第三拍攝區域的光的亮度值，該第二亮度調節用偏振濾波器以與膜的第三拍攝區域形成第二非正交偏振狀態的方式，配置在光照射機構與第三拍攝區域之間、或者第三拍攝區域與拍攝機構之間。

根據該缺陷檢查用拍攝裝置，由於第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)與膜的第二拍攝區域形成第一非正交偏振狀態，第二亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)與膜的第三拍攝區域形成第二非正交偏振狀態，因此能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點的檢測。

另外，在上述的缺陷檢查用拍攝裝置的基礎上，也可以是，拍攝區域包括在搬運方向上被分割出的第三拍攝區域，缺陷檢查用拍攝裝置還具備第二偏振濾波器，該第二偏振濾波器配置在光照射機構與第三拍攝區域之間、或者第三拍攝區域與拍攝機構之間，與膜的第三拍攝區域形成第二非正交偏振狀態。

根據該缺陷檢查用拍攝裝置，由於第一偏振濾波器與膜的第一拍攝區域形成第一非正交偏振狀態，第二偏振濾波器與膜的第三拍攝區域形成第二非正交偏振狀態，因此能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點的檢測。

另外，在上述的缺陷檢查用拍攝裝置的基礎上，也可以是，第一偏振濾波器與膜的第一拍攝區域形成第一非正交偏振狀態，亮度調節機構包括第一亮度調節用偏振濾波器，該第一亮度調節用偏振濾波器以與膜的第二拍攝區域形成第二非正交偏振狀態的方式，配置在光照射機構與第二拍攝區域之間、或者第二拍攝區域與拍攝機構之間。

根據該缺陷檢查用拍攝裝置，由於第一偏振濾波器與膜的第一拍攝區域形成第一非正交偏振狀態，第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)與膜的第二拍攝區域形成第二非正交偏振狀態，因此能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點的檢測。

本發明的另一缺陷檢查用拍攝裝置用於進行不具有偏振特性的膜的缺陷檢查，其中，該缺陷檢查用拍攝裝置具備：光照射機構，其向膜的拍攝區域照射光；拍攝機構，其將膜的拍攝區域拍攝為二維圖像；一對第一偏振濾波器，其以形成正交偏振狀態或者第一非正交偏振狀態的方式，分別配置在光照射機構與膜的拍攝區域之間、以及膜的拍攝區域與拍攝機構之間；以及搬運機構，其相對於光照射機構、拍攝機構以及一對第一偏振濾波器沿搬運方向相對地搬運膜，拍攝區域包括在搬運方向上被分割出的第一拍攝區域以及第二拍攝區域，一對第一偏振濾波器配置在光照射機構與第一拍攝區域之間、以及第一拍攝區域與拍攝機構之間。

本發明的另一缺陷檢查用拍攝方法使用具備光照射機構、拍攝機構、一對第一偏振濾波器、以及搬運機構的缺陷檢查用拍攝裝置進行用於檢查不具有偏振特性的膜的缺陷的拍攝，其中，該缺陷檢查用拍攝方法包括如下工序：第一偏振濾波器配置工序，將一對第一偏振濾波器以形成正交偏振狀態或者第一非正交偏振狀態的方式，分別配置在光照射機構與膜的拍攝區域之間、以及膜的拍攝區域與拍攝機構之間；搬運工序，利用搬運機構相對於光照射機構、拍攝機構以及一對第一偏振濾波器沿搬運方向相對地搬運膜；光照射工序，利用光照射機構向膜的拍攝區域照射光；以及拍攝工序，利用拍攝機構將膜的拍攝區域拍攝為二維圖像，拍攝區域包括在搬運方向上被分割出的第一拍攝區域以及第二拍攝區域，在第一偏振濾波器配置工序中，將一對第一偏振濾波器分別配置在光照射機構與第一拍攝區域之間、以及第一拍攝區域與拍攝機構之間。

根據該另一缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法，例如，由於一對第一偏振濾波器以形成正交偏振狀態的方式，分別配置在光照射機構與第一拍攝區域之間、以及第一拍攝區域與拍攝機構之間，拍攝機構將包括第一拍攝區域以及第二拍攝區域的拍攝區域拍攝為二維圖像，因此能夠同時拍攝第一拍攝區域的正交偏振透射檢查用圖像(或者正交偏振反射檢查用圖像)、第二拍攝區域的例如正透射檢查用圖像(或者正反射檢查用圖像)。即，能夠整合正交偏振透射檢查用拍攝系列(或者正交偏振反射檢查用拍攝系列)和例如正透射檢查用拍攝系列(或者正反射檢查用拍攝系列)。其結果是，能夠整合正交偏振透射檢查系列(或者正交偏振反射檢查系列)和例如正透射檢查系列(或者正反射檢查系列)，從而能夠削減檢查系列數。

然而，如上述那樣，在正交偏振透射檢查用拍攝系列(或者正交偏振反射檢查用拍攝系列)與例如正透射檢查用拍攝系列(或者正反射檢查用拍攝系列)中，適當的光的亮度值不同。

因此，也可以採用如下方式，上述的另一缺陷檢查用拍攝裝置還具備亮度調節機構，該亮度調節機構調節照射至第一拍攝區域以及第二拍攝區域中的至少一方的光、或者透過第一拍攝區域以及第二拍攝區域中的至少一方或被第一拍攝區域以及第二拍攝區域中的至少一方反射的光的亮度值。

由此，能夠利用亮度調節機構調節照射至第一拍攝區域以及第二拍攝區域中的至少一方的光、或者透過第一拍攝區域以及第二拍攝區域中的至少一方或被第一拍攝區域以及第二拍攝區域中的至少一方射光的亮度值，因此能夠在第一拍攝區域以及第二拍攝區域的拍攝中設定適當的光的亮度值，能夠以與正交偏振透射檢查用拍攝系列(或者正交偏振反射檢查用拍攝系列)以及例如正透射檢查用拍攝系列(或者正反射檢查用拍攝系列)相應的光的亮度值進行檢查。

也可以是，上述的亮度調節機構調節照射至第二拍攝區域的光、或者透過第二拍攝區域或被第二拍攝區域反射的光的亮度值。

如上述那樣，有時正交偏振透射檢查用拍攝系列(或者正交偏振反射檢查用拍攝系列)的適當的光的亮度值較大，正透射檢查用拍攝系列(或者正反射檢查用拍攝系列)的適當的光的亮度值較小。在這種情況下，若如上述那樣，採用亮度調節機構調節照射至第二拍攝區域的光、或者透過第二拍攝區域或被第二拍攝區域反射的光的亮度值的方式，例如通過從光照射機構輸出較大的亮度值的光，能夠使朝向用於進行正交偏振透射檢查用拍攝系列(或者正交偏振反射檢查用拍攝系列)的第一拍攝區域照射的光的亮度值較大，另一方面，能夠利用亮度調節機構使照射至用於進行正透射檢查用拍攝系列(或者正反射檢查用拍攝系列)的第二拍攝區域的光、或者透過第二拍攝區域或被第二拍攝區域反射的光的亮度值較小。

另外，也可以是，上述的亮度調節機構是配置在光照射機構與第二拍攝區域之間、或者第二拍攝區域與拍攝機構之間的衰減濾波器。

另外，也可以是，上述的亮度調節機構配置於光照射機構，單獨調節向第一拍攝區域照射的光的亮度值和向第二拍攝區域照射的光的亮度值。

在上述的另一缺陷檢查用拍攝裝置的基礎上，也可以採用如下方式，一對第一偏振濾波器形成正交偏振狀態，亮度調節機構包括一對第一亮度調節用偏振濾波器，該一對第一亮度調節用偏振濾波器以形成第一非正交偏振狀態的方式，配置在光照射機構與第二拍攝區域之間、以及第二拍攝區域與拍攝機構之間。

根據該另一缺陷檢查用拍攝裝置，由於一對第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)形成第一非正交偏振狀態，因此能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點的檢測。

另外，在上述的另一缺陷檢查用拍攝裝置的基礎上，也可以採用如下方式，一對第一偏振濾波器形成第一非正交偏振狀態，亮度調節機構是配置在光照射機構與第二拍攝區域之間、或者第二拍攝區域與拍攝機構之間的衰減濾波器。

根據該另一缺陷檢查用拍攝裝置，由於一對第一偏振濾波器與膜的第一拍攝區域形成第一非正交偏振狀態，因此能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點的檢測。

另外，在上述的另一缺陷檢查用拍攝裝置的基礎上，也可以採用如下方式，一對第一偏振濾波器形成第一非正交偏振狀態，亮度調節機構配置於光照射機構，單獨調節向第一拍攝區域照射的光的亮度值和向第二拍攝區域照射的光的亮度值。

在該另一缺陷檢查用拍攝裝置中，由於一對第一偏振濾波器形成第一非正交偏振狀態，因此能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點的檢測。

另外，在上述的另一缺陷檢查用拍攝裝置的基礎上，也可以採用如下方式，拍攝區域包括在搬運方向上被分割出的第三拍攝區域，亮度調節機構包括一對第二亮度調節用偏振濾波器，調節照射至第三拍攝區域的光的亮度值，該一對第二亮度調節用偏振濾波器以形成第二非正交偏振狀態的方式，配置在光照射機構與第三拍攝區域之間、以及第三拍攝區域與拍攝機構之間。

根據該另一缺陷檢查用拍攝裝置，由於一對第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)與膜的第二拍攝區域形成第一非正交偏振狀態，一對第二亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)與膜的第三拍攝區域形成第二非正交偏振狀態，因此能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點的檢測。

另外，在上述的另一缺陷檢查用拍攝裝置的基礎上，也可以採用如下方式，拍攝區域包括在搬運方向上被分割出的第三拍攝區域，缺陷檢查用拍攝裝置還具備一對第二偏振濾波器，該一對第二偏振濾波器以形成第二非正交偏振狀態的方式，分別配置在光照射機構與第三拍攝區域之間、以及第三拍攝區域與拍攝機構之間。

根據該另一缺陷檢查用拍攝裝置，由於一對第一偏振濾波器形成第一非正交偏振狀態，一對第二偏振濾波器形成第二非正交偏振狀態，因此能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點的檢測。

另外，在上述的另一缺陷檢查用拍攝裝置的基礎上，也可以採用如下方式，一對第一偏振濾波器形成第一非正交偏振狀態，亮度調節機構包括一對第一亮度調節用偏振濾波器，該一對第一亮度調節用偏振濾波器以形成第二非正交偏振狀態的方式，配置在光照射機構與第二拍攝區域之間、以及第二拍攝區域與拍攝機構之間。

根據該另一缺陷檢查用拍攝裝置，由於一對第一偏振濾波器形成第一非正交偏振狀態，一對第一亮度調節用濾波器(亮度調節機構)形成第二非正交偏振狀態，因此能夠改善黑異物以及上述稍弱的亮點的檢測。

本發明的缺陷檢查系統具備：上述的缺陷檢查用拍攝裝置或者另一缺陷檢查用拍攝裝置；以及檢測部，其根據由缺陷檢查用拍攝裝置或者另一缺陷檢查用拍攝裝置拍攝到的二維圖像而檢測膜中存在的缺陷。另外，本發明的缺陷檢查方法包括上述的缺陷檢查用拍攝方法或者另一缺陷檢查用拍攝方法，該缺陷檢查方法包括缺陷檢測工序，在該缺陷檢測工序中，根據利用缺陷檢查用拍攝方法或者另一缺陷檢查用拍攝方法拍攝到的二維圖像而檢測膜中存在的缺陷。

本發明的膜製造裝置具備上述的缺陷檢查系統。另外，本發明的膜的製造方法包括上述的缺陷檢查方法。

發明效果

根據本發明，能夠在膜的缺陷檢查中整合不同的檢查系列，從而削減檢查系列數。

附圖說明

圖1是示出本發明的一實施方式所涉及的膜的製造裝置以及製造方法的圖。

圖2是示出本發明的實施方式所涉及的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法的圖。

圖3是示出本發明的第一實施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖4是示出本發明的第二實施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖5是示出本發明的第三實施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖6是示出本發明的第四實施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖7是示出本發明的第五實施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖8是示出本發明的第六實施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖9是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖10是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖11是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖12是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖13是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖14是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖15是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖16是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖17是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖18是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖19是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖20是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖21是示出第二實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的驗證結果的圖。

圖22是示出本發明的實施方式所涉及的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法的圖。

圖23是示出本發明的第七實施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖24是示出本發明的第八實施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖25是示出本發明的第九實施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖26是示出本發明的第十實施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖27是示出本發明的第十一實施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖28是示出本發明的第十二實施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖29是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖30是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖31是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖32是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖33是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖34是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖35是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖36是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖37是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖38是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖39是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖40是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖41是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖42是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖43是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖44是本發明的變形例所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖45是示出第七實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的驗證結果的圖。

附圖標記說明

10、10a、10b、10c、10d、10e...缺陷檢查系統；20、20a、20b、20c、20d、20e...缺陷檢查用拍攝裝置；21...光源(光照射機構)；21a...光源(亮度調節機構)；22...區域傳感器(拍攝機構)；22a...ccd或者cmos；22b...透鏡；231、241...第一偏振濾波器；232、242...第二偏振濾波器；251、253...第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)；252、254...第二亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)；26...衰減濾波器(亮度調節機構)；30...圖像分析部；40...標記裝置；100...製造裝置(膜製造裝置)；101、102、103...原料輥；104、105...貼合輥；106...搬運輥；110...膜；111...偏振膜主體部；112...帶有隔離膜的粘合件；113...表面保護膜；r...拍攝區域；r0...中間拍攝區域；r1...第一拍攝區域；r2...第二拍攝區域；r3...第三拍攝區域。

具體實施方式

以下，參考附圖，對本發明的優選實施方式進行詳細說明。需要說明的是，在各附圖中，對於相同或相當的部分標記相同的附圖標記。

本發明的實施方式所涉及的膜的製造裝置以及製造方法用於製造具有偏振特性的偏振膜(光學膜)、以及不具有偏振特性的相位差膜(光學膜)、電池用隔離膜等。在圖1中示出具有偏振特性的膜(偏振膜)的製造裝置以及製造方法的一例，省略不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的製造裝置以及製造方法的說明。

圖1所示的製造裝置(膜製造裝置)100首先在偏振片的主面兩側貼合保護膜，生成偏振膜主體部(光學膜主體部)111。接下來，製造裝置100從原料輥101取出粘合件上貼合有隔離膜(脫模膜)的帶有隔離膜的粘合件112，利用貼合輥104將帶有隔離膜的粘合件112貼合於偏振膜主體部111的一方的主面側。接下來，製造裝置100從原料輥102取出表面保護膜113，利用貼合輥105將表面保護膜113貼合於偏振膜主體部111的另一方的主面側，從而生成具有偏振特性的膜110。接下來，製造裝置100利用搬運輥106搬運所生成的膜110並利用原料輥103卷繞該膜110。

作為偏振膜主體部111中的偏振片的材料，可以列舉pva(polyvinylalcohol)等，作為偏振膜主體部111中的保護膜的材料，可以列舉tac(triacetylcellulose)等。另外，作為帶有隔離膜的粘合件112中的隔離膜以及表面保護膜113的材料，可以列舉pet(polyethyleneterephthalate)等。通過剝離隔離膜，膜110能夠利用粘合件貼合於液晶面板、其他光學膜等。

另外，製造裝置100具備進行膜110的缺陷檢查的缺陷檢查系統10、以及進行偏振膜主體部111的缺陷檢查的缺陷檢查系統10。需要說明的是，由於這些缺陷檢查系統10相同，因此以下對進行膜110的缺陷檢查的缺陷檢查系統10進行說明。

[第一實施方式]

本發明的第一實施方式所涉及的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法是進行上述的具有偏振特性的膜110的缺陷檢查的缺陷檢查系統10以及缺陷檢查方法。圖2是示出本發明的第一實施方式所涉及的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法的圖，圖3是示出本發明的第一實施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖2所示的缺陷檢查系統10具備缺陷檢查用拍攝裝置20、圖像分析部(檢測部)30以及標記裝置40，圖3所示的缺陷檢查用拍攝裝置20具備光源(光照射機構)21、多個區域傳感器(拍攝機構)22、以及第一偏振濾波器231。在圖2以及圖3中示出了xyz正交坐標，x方向表示偏振膜的寬度方向，y方向表示偏振膜的搬運方向。

在本實施方式中，主要是圖1所示的搬運輥106以及原料輥103作為搬運機構而發揮功能。利用這些搬運機構，沿搬運方向y相對於光源21、區域傳感器22以及第一偏振濾波器231相對地搬運膜110。

光源21設置在膜110的另一方的主面側，向膜110的拍攝區域r照射光。例如，光源21是沿寬度方向x延伸的線狀的光源。

區域傳感器22配置在膜110的一方的主面側，沿寬度方向x排列。區域傳感器22包括ccd(chargecoupleddevice)或者cmos(complementarymetal-oxidesemiconductor)22a與透鏡22b。區域傳感器22通過接受透過膜110後的光而在時間上連續地將膜110的拍攝區域r拍攝為二維圖像。

優選各區域傳感器22所拍攝的二維圖像的搬運方向y的長度為，在從各區域傳感器22獲取二維圖像到獲取下一個二維圖像的期間膜110被搬運的搬運距離的至少2倍以上。換句話說，優選對膜110的同一區域拍攝2次以上。這樣，通過使二維圖像的搬運方向y的長度比圖像獲取期間的搬運距離大，增加膜110的同一部分的拍攝次數，從而能夠高精度地檢查缺陷。

在此，拍攝區域r包括在搬運方向y上被分割出的第一拍攝區域r1以及第二拍攝區域r2。另外，拍攝區域r包括第一拍攝區域r1與第二拍攝區域r2之間的中間拍攝區域r0。

第一偏振濾波器231配置在光源21與膜110之間。具體地說，第一偏振濾波器231配置在光源21與拍攝區域r的第一拍攝區域r1之間。在本實施方式中，第一偏振濾波器231配置為，從區域傳感器22觀察時，搬運方向y上的拍攝區域r的一半被遮擋(日文：ナィフエッジ)。另外，第一偏振濾波器231與膜110形成正交偏振狀態。在此，正交偏振狀態指的是，偏振濾波器的偏振軸(偏振吸收軸)與膜的偏振軸(偏振吸收軸)實質上正交的狀態，即，偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸以實質上90度的角度交叉的狀態。上述「實質上90度」指的是，例如85度以上且小於95度，更優選為90度。

由此，能夠在第一拍攝區域r1拍攝正交偏振透射檢查用圖像，在第二拍攝區域r2拍攝正透射檢查用圖像，在中間拍攝區域r0拍攝透射散射檢查用圖像。

圖像分析部30根據來自區域傳感器22的二維圖像而檢測膜110中存在的缺陷。另外，圖像分析部30根據二維圖像的像素坐標、在圖像拍攝期間膜被搬運的距離，將二維圖像上的坐標位置轉換為膜110上的坐標位置，生成缺陷位置信息。圖像分析部30根據缺陷位置信息而合成與膜110的整個區域相對應的圖像，製作缺陷映射圖。

標記裝置40根據來自圖像分析部30的缺陷映射圖而在膜上進行標記。

接下來，對本發明的第一實施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，將第一偏振濾波器231以與膜110形成正交偏振狀態的方式配置在光源21與膜110的第一拍攝區域r1之間(第一偏振濾波器配置工序)。

接下來，利用搬運機構，相對於光源21、區域傳感器22以及第一偏振濾波器231相對地沿搬運方向y搬運膜110(搬運工序)，利用光源21向膜110的拍攝區域r照射光(光照射工序)，利用區域傳感器22將膜110的拍攝區域r拍攝為二維圖像(拍攝工序)。

接下來，利用圖像分析部30，根據來自區域傳感器22的二維圖像檢測膜110中存在的缺陷，並且根據缺陷位置信息製作缺陷映射圖(缺陷檢測工序)。接下來，利用標記裝置40，根據來自圖像分析部30的缺陷映射圖在膜110上進行標記(標記工序)。

根據該第一實施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置20以及缺陷檢查用拍攝方法，由於第一偏振濾波器231以與膜110形成正交偏振狀態的方式配置在光源(光照射機構)21與第一拍攝區域r1之間，區域傳感器(拍攝機構)22將包括第一拍攝區域r1、第二拍攝區域r2以及中間拍攝區域r0的拍攝區域r拍攝為二維圖像，因此能夠同時拍攝第一拍攝區域r1的正交偏振透射檢查用圖像、第二拍攝區域r2的正透射檢查用圖像、以及中間拍攝區域r0的透射散射檢查用圖像。即，能夠整合正交偏振透射檢查用拍攝系列、正透射檢查用拍攝系列、以及透射散射檢查用拍攝系列。

其結果是，根據第一實施方式的缺陷檢查系統10以及缺陷檢查方法，能夠整合正交偏振透射檢查系列、正透射檢查系列、以及透射散射檢查系列。

因此，根據第一實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10、以及缺陷檢查方法，能夠削減檢查系列數。

[第二實施方式]

本發明的第二實施方式所涉及的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法是進行上述的具有偏振特性的膜110的缺陷檢查的缺陷檢查系統10以及缺陷檢查方法。

本發明的第二實施方式所涉及的缺陷檢查系統10a與第一實施方式的不同之處在於，在圖2所示的缺陷檢查系統10中，代替缺陷檢查用拍攝裝置20而具備缺陷檢查用拍攝裝置20a。另外，圖4所示的缺陷檢查用拍攝裝置20a與第一實施方式的不同之處在於，在圖3所示的缺陷檢查用拍攝裝置20中還具備衰減濾波器(亮度調節機構)26。

衰減濾波器26配置在光源21與第二拍攝區域r2之間。由此，衰減濾波器26能夠降低照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值。衰減濾波器26也可以配置在第二拍攝區域r2與區域傳感器22之間，降低透過第二拍攝區域r2的光的亮度。

接下來，對本發明的第二實施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，進行上述的第一偏振濾波器配置工序。接下來，將衰減濾波器26配置在光源21與第二拍攝區域r2之間。由此，能夠降低照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值(亮度調節工序)。衰減濾波器26也可以配置在第二拍攝區域r2與區域傳感器22之間，降低透過第二拍攝區域r2的光的亮度。

接下來，進行上述的搬運工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標記工序。

根據該第二實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20a、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10a、以及缺陷檢查方法，也能夠獲得與第一實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10、以及缺陷檢查方法同樣的優點。

然而，在正交偏振透射檢查用拍攝系列與正透射檢查用拍攝系列中，適當的光的亮度值不同。更具體地說，正交偏振透射檢查用拍攝系列的適當的光的亮度值較大，正透射檢查用拍攝系列的適當的光的亮度值較小。

關於這一點，根據該第二實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20a以及缺陷檢查用拍攝方法，由於能夠利用衰減濾波器(亮度調節機構)26調節照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值，因此，例如通過從光源(光照射機構)21輸出較大的亮度值的光，能夠使朝向用於進行正交偏振透射檢查用拍攝系列的第一拍攝區域r1照射的光的亮度值較大，另一方面，能夠利用衰減濾波器(亮度調節機構)26使朝向用於進行正透射檢查用拍攝系列的第二拍攝區域r2照射的光的亮度值較小。如前述那樣，即便將衰減濾波器26配置在第二拍攝區域r2與區域傳感器22之間，調節透過第二拍攝區域r2後的光的亮度值，也能夠期待同樣的效果。

以下，進行上述效果的驗證。在圖21的(a)中示出在正交偏振透射法以及正透射法中改變光源光量時的各種缺陷(黑異物、較弱的亮點、較強的亮點)的檢測圖像。另外，在圖21的(b)中示出將基於圖21的(a)的正交偏振透射法得到的檢測圖像的缺陷信號圖表化的圖，在圖21的(c)中示出將基於圖21的(a)的正透射法得到的檢測圖像的缺陷信號圖表化的圖。需要說明的是，光源光量示出為以圖像上的亮度值為128時的光源光量(正透射中的最佳的光量)為基準的1倍～40倍。

根據圖21的(a)以及圖21的(c)，在正透射法中，光源光量優選為1倍左右，若將光源光量設為2倍以上，則圖像上的亮度過高，圖像整體變白。另一方面，根據圖21的(a)以及圖21的(b)可知，在正交偏振透射法中，在光源光量為1倍左右的情況下，畫面上的亮度過低，無法識別缺陷，光源光量優選為20倍以上，更優選為40倍以上。

在上述的驗證中，通過調節向拍攝區域照射的光源的光量來調節圖像上的亮度值，但作為亮度調節方法，如前述那樣通過使用衰減濾波器的方法也能夠實現同樣的效果。

[第三實施方式]

本發明的第三實施方式所涉及的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法是進行上述的具有偏振特性的膜110的缺陷檢查的缺陷檢查系統10以及缺陷檢查方法。

本發明的第三實施方式所涉及的缺陷檢查系統10b與第一實施方式的不同之處在於，在圖2所示的缺陷檢查系統10中，代替缺陷檢查用拍攝裝置20而具備缺陷檢查用拍攝裝置20b。另外，圖5所示的缺陷檢查用拍攝裝置20b與第一實施方式的不同之處在於，在圖3所示的缺陷檢查用拍攝裝置20中，代替光源21而具備光源21a。

光源21a具有單獨調節向第一拍攝區域r1照射的光的亮度值和向第二拍攝區域r2照射的光的亮度值的亮度調節功能。由此，能夠使照射至第一拍攝區域r1的光的亮度值較大，使照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值較小。

接下來，對本發明的第三實施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，進行上述的第一偏振濾波器配置工序。接下來，利用光源21a單獨調節向第一拍攝區域r1照射的光的亮度值和向第二拍攝區域r2照射的光的亮度值。由此，能夠使照射至第一拍攝區域r1的光的亮度值較大，使照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值較小(亮度調節工序)。

接下來，進行上述的搬運工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標記工序。

根據該第三實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20b、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10b、以及缺陷檢查方法，也能夠獲得與第一實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10、以及缺陷檢查方法同樣的優點。

另外，根據該第三實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20b以及缺陷檢查用拍攝方法，由於能夠利用光源21a單獨調節向第一拍攝區域r1照射的光的亮度值和向第二拍攝區域r2照射的光的亮度值，因此能夠使朝向用於進行正交偏振透射檢查用拍攝系列的第一拍攝區域r1照射的光的亮度值較大，另一方面，能夠使朝向用於進行正透射檢查用拍攝系列的第二拍攝區域r2照射的光的亮度值較小。

[第四實施方式]

本發明的第四實施方式所涉及的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法是進行上述的不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的缺陷檢查的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法。第四實施方式所涉及的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法能夠應用於不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的製造裝置以及製造方法。在不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的製造裝置以及製造方法中，除第四實施方式中進行說明的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法以外的內容是公知的，因此如前述那樣省略說明。對於與進行不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的缺陷檢查的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法相關的其他實施方式以及變形例，基於同樣的觀點，省略對不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的製造裝置以及製造方法的說明。在第四實施方式中，膜110是不具有偏振特性的膜。

本發明的第四實施方式所涉及的缺陷檢查系統10c與第一實施方式的不同之處在於，在圖2所示的缺陷檢查系統10中，代替缺陷檢查用拍攝裝置20而具備缺陷檢查用拍攝裝置20c。另外，圖6所示的缺陷檢查用拍攝裝置20c與第一實施方式的不同之處在於，在圖3所示的缺陷檢查用拍攝裝置20中，代替第一偏振濾波器231而具備一對第一偏振濾波器231、241。

第一偏振濾波器231與第一實施方式同樣地配置在光源21與膜110之間。具體地說，第一偏振濾波器231配置在光源21與拍攝區域r的第一拍攝區域r1之間。在本實施方式中，第一偏振濾波器231配置為，從區域傳感器22觀察時，搬運方向y上的拍攝區域r的一半被遮擋。

另一方面，第一偏振濾波器241配置在膜110與區域傳感器22之間。具體地說，第一偏振濾波器241配置在拍攝區域r的第一拍攝區域r1與區域傳感器22之間。在本實施方式中，第一偏振濾波器241配置為，從區域傳感器22觀察時，搬運方向y上的拍攝區域r的一半被遮擋。

另外，第一偏振濾波器231與第一偏振濾波器241形成正交偏振狀態。由此，能夠在第一拍攝區域r1拍攝正交偏振透射檢查用圖像，在第二拍攝區域r2拍攝正透射檢查用圖像，在中間拍攝區域r0拍攝透射散射檢查用圖像。

接下來，對本發明的第四實施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，將第一偏振濾波器231配置在光源21與膜110的第一拍攝區域r1之間，將第一偏振濾波器241配置在膜110的第一拍攝區域r1與區域傳感器22之間。此時，將第一偏振濾波器231以及第一偏振濾波器241配置為形成正交偏振狀態(第一偏振濾波器配置工序)。

接下來，進行上述的搬運工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標記工序。

根據該第四實施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置20c以及缺陷檢查用拍攝方法，由於一對第一偏振濾波器231、241以形成正交偏振狀態的方式分別配置在光源(光照射機構)21與第一拍攝區域r1之間、以及第一拍攝區域r1與區域傳感器(拍攝機構)22之間，區域傳感器(拍攝機構)22將包括第一拍攝區域r1、第二拍攝區域r2以及中間拍攝區域r0的拍攝區域r拍攝為二維圖像，因此能夠同時拍攝第一拍攝區域r1的正交偏振透射檢查用圖像、第二拍攝區域r2的正透射檢查用圖像、中間拍攝區域r0的透射散射檢查用圖像。即，能夠整合正交偏振透射檢查用拍攝系列、正透射檢查用拍攝系列、以及透射散射檢查用拍攝系列。

其結果是，根據第四實施方式的缺陷檢查系統10c以及缺陷檢查方法，能夠整合正交偏振透射檢查系列、正透射檢查系列、以及透射散射檢查系列。

因此，根據第四實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20c、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10c、以及缺陷檢查方法，能夠削減檢查系列數。

[第五實施方式]

本發明的第五實施方式所涉及的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法是進行上述的不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的缺陷檢查的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法。在第五實施方式中，膜110是不具有偏振特性的膜。

本發明的第五實施方式所涉及的缺陷檢查系統10d與第四實施方式的不同之處在於，在圖2所示的缺陷檢查系統10c中，代替缺陷檢查用拍攝裝置20c而具備缺陷檢查用拍攝裝置20d。另外，圖7所示的缺陷檢查用拍攝裝置20d與第四實施方式的不同之處在於，在圖6所示的缺陷檢查用拍攝裝置20c中還具備衰減濾波器(亮度調節機構)26。

衰減濾波器26配置在光源21與第二拍攝區域r2之間。由此，衰減濾波器26能夠降低照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值。衰減濾波器26也可以配置在第二拍攝區域r2與區域傳感器(拍攝機構)22之間，降低透過第二拍攝區域r2的光的亮度。

接下來，對本發明的第五實施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，進行上述的第一偏振濾波器配置工序。接下來，將衰減濾波器26配置在光源21與第二拍攝區域r2之間。由此，能夠降低照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值(亮度調節工序)。衰減濾波器26也可以配置在第二拍攝區域r2與區域傳感器(拍攝機構)22之間，降低透過第二拍攝區域r2的光的亮度。

接下來，進行上述的搬運工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標記工序。

根據該第五實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20d、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10d、以及缺陷檢查方法，也能夠獲得與第四實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20c、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10c、以及缺陷檢查方法同樣的優點。

另外，根據該第五實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20d以及缺陷檢查用拍攝方法，由於能夠利用衰減濾波器(亮度調節機構)26調節照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值，因此，例如通過從光源(光照射機構)21輸出較大的亮度值的光，能夠使朝向用於進行正交偏振透射檢查用拍攝系列的第一拍攝區域r1照射的光的亮度值較大，另一方面，能夠利用衰減濾波器(亮度調節機構)26使朝向用於進行正透射檢查用拍攝系列的第二拍攝區域r2照射的光的亮度值較小。另外，即便將衰減濾波器26配置在第二拍攝區域r2與區域傳感器(拍攝機構)22之間，調節透過第二拍攝區域r2後的光的亮度值，也能夠實現同樣的效果。

[第六實施方式]

本發明的第六實施方式所涉及的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法是進行上述的不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的缺陷檢查的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法。在第六實施方式中，膜110是不具有偏振特性的膜。

本發明的第六實施方式所涉及的缺陷檢查系統10e與第四實施方式的不同之處在於，在圖2所示的缺陷檢查系統10c中，代替缺陷檢查用拍攝裝置20c而具備缺陷檢查用拍攝裝置20e。另外，圖8所示的缺陷檢查用拍攝裝置20e與第四實施方式的不同之處在於，在圖6所示的缺陷檢查用拍攝裝置20c中，代替光源21而具備光源21a。

光源21a具有單獨調節向第一拍攝區域r1照射的光的亮度值和向第二拍攝區域r2照射的光的亮度值的亮度調節功能。由此，能夠使照射至第一拍攝區域r1的光的亮度值較大，使照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值較小。

接下來，對本發明的第六實施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，進行上述的第一偏振濾波器配置工序。接下來，利用光源21a單獨調節向第一拍攝區域r1照射的光的亮度值和向第二拍攝區域r2照射的光的亮度值。由此，能夠使照射至第一拍攝區域r1的光的亮度值較大，使照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值較小(亮度調節工序)。

接下來，進行上述的搬運工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標記工序。

根據該第六實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20e、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10e、以及缺陷檢查方法，也能夠獲得與第四實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20c、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10c、以及缺陷檢查方法同樣的優點。

另外，根據該第六實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20e以及缺陷檢查用拍攝方法，由於能夠利用光源21a單獨調節向第一拍攝區域r1照射的光的亮度值和向第二拍攝區域r2照射的光的亮度值，因此能夠使朝向用於進行正交偏振透射檢查用拍攝系列的第一拍攝區域r1照射的光的亮度值較大，另一方面，能夠使朝向用於進行正透射檢查用拍攝系列的第二拍攝區域r2照射的光的亮度值較小。

需要說明的是，本發明不限於上述的本實施方式，能夠進行各種變形。例如，在第一、第二以及第三實施方式中，例示了利用了透射法的缺陷檢查用拍攝裝置20、20a、20b以及缺陷檢查用拍攝方法，但本發明的特徵也能夠應用於如圖9、圖10以及圖11所示那樣利用了反射法的缺陷檢查用拍攝裝置20、20a、20b以及缺陷檢查用拍攝方法。

根據圖9、圖10以及圖11所示的缺陷檢查用拍攝裝置20、20a、20b以及缺陷檢查用拍攝方法，由於第一偏振濾波器231以與膜110形成正交偏振狀態的方式配置在光源(光照射機構)21與第一拍攝區域r1之間，區域傳感器(拍攝機構)22將包括第一拍攝區域r1、第二拍攝區域r2以及中間拍攝區域r0的拍攝區域r拍攝為二維圖像，因此能夠同時拍攝第一拍攝區域r1的正交偏振反射檢查用圖像、第二拍攝區域r2的正反射檢查用圖像、以及中間拍攝區域r0的反射散射檢查用圖像。即，能夠整合正交偏振反射檢查用拍攝系列、正反射檢查用拍攝系列、以及反射散射檢查用拍攝系列。其結果是，在缺陷檢查系統10、10a、10b以及缺陷檢查方法中，能夠整合正交偏振反射檢查系列、正反射檢查系列、以及反射散射檢查系列，從而能夠削減檢查系列數。

然而，在正交偏振反射檢查用拍攝系列與正反射檢查用拍攝系列中，適當的光的亮度值不同。更具體地說，正交偏振反射檢查用拍攝系列的適當的光的亮度值較大，正反射檢查用拍攝系列的適當的光的亮度值較小。

關於這一點，根據圖10以及圖11所示的缺陷檢查用拍攝裝置20a、20b以及缺陷檢查用拍攝方法，由於能夠利用衰減濾波器(亮度調節機構)26以及光源(亮度調節機構)21a調節照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值，因此，例如通過從光源(光照射機構)21以及光源(光照射機構)21a輸出較大的亮度值的光，能夠使朝向用於進行正交偏振反射檢查用拍攝系列的第一拍攝區域r1照射的光的亮度值較大，另一方面，能夠利用衰減濾波器(亮度調節機構)26以及光源(亮度調節機構)21a使朝向用於進行正反射檢查用拍攝系列的第二拍攝區域r2照射的光的亮度值較小。在利用衰減濾波器(亮度調節機構)26的情況下(例如圖10中例示的方式)，也可以將衰減濾波器26配置在第二拍攝區域r2與區域傳感器(拍攝機構)22之間，在第二拍攝區域r2中調節反射光的亮度值。

同樣地，在第四、第五以及第六實施方式中，例示了利用透射法的缺陷檢查用拍攝裝置20c、20d、20e以及缺陷檢查用拍攝方法，但本發明的特徵也能夠應用於如圖12、圖13以及圖14所示那樣利用反射法的缺陷檢查用拍攝裝置20c、20d、20e以及缺陷檢查用拍攝方法。

根據圖12、圖13以及圖14所示的缺陷檢查用拍攝裝置20c、20d、20e以及缺陷檢查用拍攝方法，由於一對第一偏振濾波器231、241以形成正交偏振狀態的方式分別配置在光源(光照射機構)21與第一拍攝區域r1之間、以及第一拍攝區域r1與區域傳感器(拍攝機構)22之間，區域傳感器(拍攝機構)22將包括第一拍攝區域r1、第二拍攝區域r2以及中間拍攝區域r0的拍攝區域r拍攝為二維圖像，因此能夠同時拍攝第一拍攝區域r1的正交偏振反射檢查用圖像、第二拍攝區域r2的正反射檢查用圖像、中間拍攝區域r0的反射散射檢查用圖像。即，能夠整合正交偏振反射檢查用拍攝系列、正反射檢查用拍攝系列、以及反射散射檢查用拍攝系列。其結果是，在缺陷檢查系統10c、10d、10e以及缺陷檢查方法中，能夠整合正交偏振反射檢查系列、正反射檢查系列、以及反射散射檢查系列，從而能夠削減檢查系列數。

另外，根據圖13以及圖14所示的缺陷檢查用拍攝裝置20d、20e以及缺陷檢查用拍攝方法，能夠利用衰減濾波器(亮度調節機構)26以及光源(亮度調節機構)21a調節照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值，因此，例如通過從光源(光照射機構)21以及光源(光照射機構)21a輸出較大的亮度值的光，能夠使朝向用於進行正交偏振反射檢查用拍攝系列的第一拍攝區域r1照射的光的亮度值較大，另一方面，能夠利用衰減濾波器(亮度調節機構)26以及光源(亮度調節機構)21a使朝向用於進行正反射檢查用拍攝系列的第二拍攝區域r2照射的光的亮度值較小。在利用衰減濾波器(亮度調節機構)26的情況下(例如圖13中例示的方式)，也可以將衰減濾波器26配置在第二拍攝區域r2與區域傳感器(拍攝機構)22之間，在第二拍攝區域r2中調節反射光的亮度值。

另外，在第一、第二以及第三實施方式、以及圖9、圖10以及圖11所示的方式中，例示了第一偏振濾波器231設置在光源(光照射機構)21與膜110的第一拍攝區域r1之間的方式，但也可以採用如圖15、圖16、圖17、圖18、圖19以及圖20所示那樣第一偏振濾波器231配置在膜110的第一拍攝區域r1與區域傳感器(拍攝機構)22之間的方式。

[第七實施方式]

本發明的第七實施方式所涉及的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法是進行上述的具有偏振特性的膜110的缺陷檢查的缺陷檢查系統10以及缺陷檢查方法。圖22是示出本發明的第七實施方式所涉及的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法的圖，圖23是示出本發明的第七實施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置以及缺陷檢查用拍攝方法的圖。

圖22所示的缺陷檢查系統10具備缺陷檢查用拍攝裝置20、圖像分析部(檢測部)30以及標記裝置40，圖23所示的缺陷檢查用拍攝裝置20具備光源(光照射機構)21、多個區域傳感器(拍攝機構)22、第一偏振濾波器231以及第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251。在圖22以及圖23中示出了xyz正交坐標，x方向表示偏振膜的寬度方向，y方向表示偏振膜的搬運方向。

在本實施方式中，主要是圖1所示的搬運輥106以及原料輥103作為搬運機構而發揮功能。利用這些搬運機構，沿搬運方向y相對於光源21、區域傳感器22以及第一偏振濾波器231相對地搬運膜110。

光源21設置在膜110的另一方的主面側，向膜110的拍攝區域r照射光。例如，光源21是沿寬度方向x延伸的線狀的光源。

區域傳感器22配置在膜110的一方的主面側，沿寬度方向x排列。區域傳感器22包括ccd(chargecoupleddevice)或者cmos(complementarymetal-oxidesemiconductor)22a與透鏡22b。區域傳感器22通過接受透過膜110的光而在時間上連續地將膜110的拍攝區域r拍攝為二維圖像。

優選各區域傳感器22所拍攝的二維圖像的搬運方向y的長度為，在從各區域傳感器22獲取二維圖像到獲取下一個二維圖像的期間膜110被搬運的搬運距離的至少2倍以上。換句話說，優選對膜110的同一區域拍攝2次以上。這樣，通過使二維圖像的搬運方向y的長度比圖像獲取期間的搬運距離大，增加膜110的同一部分的拍攝次數，從而能夠高精度地檢查缺陷。

在此，拍攝區域r包括在搬運方向y上被分割出的第一拍攝區域r1以及第二拍攝區域r2。另外，拍攝區域r包括第一拍攝區域r1與第二拍攝區域r2之間的中間拍攝區域r0。

第一偏振濾波器231配置在光源21與膜110之間。具體地說，第一偏振濾波器231配置在光源21與拍攝區域r的第一拍攝區域r1之間。在本實施方式中，第一偏振濾波器231配置為，從區域傳感器22觀察時，搬運方向y上的拍攝區域r的一半被遮擋。另外，第一偏振濾波器231與膜110形成正交偏振狀態。在此，正交偏振狀態指的是，偏振濾波器的偏振軸(偏振吸收軸)與膜的偏振軸(偏振吸收軸)實質上正交的狀態，即，偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸以實質上90度的角度交叉的狀態。上述「實質上90度」指的是，例如85度以上且小於95度，更優選為90度。

第一偏振濾波器231與膜110形成正交偏振狀態即可，第一偏振濾波器231也可以配置在第一拍攝區域r1與區域傳感器22之間。

第一亮度調節用偏振濾波器251以與膜110形成第一非正交偏振(halfcrossednicol)狀態的方式配置在光源21與第一偏振濾波器231之間、以及光源21與第二拍攝區域r2之間。在此，非正交偏振狀態指的是，偏振濾波器的偏振軸(偏振吸收軸)與膜的偏振軸(偏振吸收軸)不實質上正交而是交叉的狀態，即，偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸以實質上90度以外的角度交叉的狀態。非正交偏振狀態下的偏振濾波器的偏振軸(偏振吸收軸)與膜的偏振軸(偏振吸收軸)的角度根據拍攝機構的拍攝對象即膜的透射率以及從光源出射的光的亮度值等而有所不同，例如是利用區域傳感器22透過拍攝區域r的規定的區域(在圖23的例子中為第二拍攝區域r2)拍攝時的圖像上的亮度值為200以下的角度，優選為圖像上的亮度值為130以下的角度。例如後述那樣，第一亮度調節用偏振濾波器251的偏振軸與膜110的偏振軸的交叉角度為75度以上且小於85度、或者為95度以上且105度以下。由此，第一亮度調節用偏振濾波器251能夠降低照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值。在本說明書中，「亮度值」是8位灰度圖像上的各像素所具有的值。

另外，第一亮度調節用偏振濾波器251可以僅配置在光源21與第二拍攝區域r2之間，調節所照射的光的亮度，也可以配置在膜110與區域傳感器22之間，調節透過第二拍攝區域r2的光的亮度。

由此，能夠在第一拍攝區域r1拍攝正交偏振透射檢查用圖像，在第二拍攝區域r2拍攝非正交偏振(第一非正交偏振)透射檢查用圖像，在中間拍攝區域r0拍攝透射散射檢查用圖像。

圖像分析部30根據來自區域傳感器22的二維圖像而檢測膜110中存在的缺陷。另外，圖像分析部30根據二維圖像的像素坐標以及在圖像拍攝期間膜被搬運的距離，將二維圖像上的坐標位置轉換為膜110上的坐標位置，生成缺陷位置信息。圖像分析部30根據缺陷位置信息合成與膜110的整個區域相對應的圖像，製作缺陷映射圖。

標記裝置40根據來自圖像分析部30的缺陷映射圖，在膜上進行標記。

接下來，對本發明的第七實施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，將第一偏振濾波器231以與膜110形成正交偏振狀態的方式配置在光源21與膜110的第一拍攝區域r1之間(第一偏振濾波器配置工序)。也可以將第一偏振濾波器231配置在第一拍攝區域r1與區域傳感器22之間。接下來，將第一亮度調節用偏振濾波器251以與膜110形成第一非正交偏振狀態的方式配置在光源21與第一偏振濾波器231之間、以及光源21與第二拍攝區域r2之間。由此，能夠降低照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值(亮度調節工序)。可以將第一亮度調節用偏振濾波器251僅配置在光源21與第二拍攝區域r2之間，也可以配置在膜110與區域傳感器22之間。

接下來，利用搬運機構，相對於光源21、區域傳感器22以及第一偏振濾波器231相對地沿搬運方向y搬運膜110(搬運工序)，利用光源21向膜110的拍攝區域r照射光(光照射工序)，利用區域傳感器22將膜110的拍攝區域r拍攝為二維圖像(拍攝工序)。

接下來，利用圖像分析部30，根據來自區域傳感器22的二維圖像而檢測膜110中存在的缺陷，並且根據缺陷位置信息製作缺陷映射圖(缺陷檢測工序)。接下來，利用標記裝置40，根據來自圖像分析部30的缺陷映射圖在膜110上進行標記(標記工序)。

根據該第一實施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置20以及缺陷檢查用拍攝方法，由於第一偏振濾波器231以與膜110形成正交偏振狀態的方式配置在光源(光照射機構)21與第一拍攝區域r1之間，區域傳感器(拍攝機構)22將包括第一拍攝區域r1、第二拍攝區域r2以及中間拍攝區域r0的拍攝區域r拍攝為二維圖像，因此能夠同時拍攝第一拍攝區域r1的正交偏振透射檢查用圖像、第二拍攝區域r2的非正交偏振(第一非正交偏振)透射檢查用圖像、以及中間拍攝區域r0的透射散射檢查用圖像。即，能夠整合正交偏振透射檢查用拍攝系列、非正交偏振透射檢查用拍攝系列、以及透射散射檢查用拍攝系列。

其結果是，根據第七實施方式的缺陷檢查系統10以及缺陷檢查方法，能夠整合正交偏振透射檢查系列、非正交偏振透射檢查系列、以及透射散射檢查系列。

因此，根據第七實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10、以及缺陷檢查方法，能夠削減檢查系列數。

根據第七實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20以及缺陷檢查用拍攝方法，能夠利用第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251調節照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值。因此，例如通過從光源(光照射機構)21輸出較大的亮度值的光，能夠使朝向用於進行正交偏振透射檢查用拍攝系列的第一拍攝區域r1照射的光的亮度值較大，另一方面，能夠利用第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251使朝向用於進行非正交偏振(第一非正交偏振)透射檢查用拍攝系列的第二拍攝區域r2照射的光的亮度值較小。

然而，本申請的發明人們發現，正透射法適於黑異物的檢測，正交偏振透射法適於亮點的檢測，但正交偏振透射法難以檢測與較強的亮點相比稍弱的亮點。關於這一點，本申請的發明人們發現了在正交偏振透射法難以檢測的黑異物、稍弱的亮點的檢測中利用非正交透射法。

關於這一點，根據第七實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20以及缺陷檢查用拍攝方法，由於第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251與膜110的第二拍攝區域r2形成第一非正交偏振狀態，因此能夠改善黑異物以及較弱的亮點(包括上述稍弱的亮點)的檢測。在本說明書中，以下，較弱的亮點包括上述「稍弱的亮點」的概念。

以下，進行上述效果的驗證。在圖45的(a)中示出光源光量40倍時的、改變偏振濾波器相對於膜的交叉角度時的各種缺陷(黑異物、較弱的亮點、較強的亮點)的檢測圖像，在圖45的(b)中示出將圖45的(a)的檢測圖像的亮度值圖表化的圖。同樣地，在圖45的(c)中示出將光源光量20倍時的、改變偏振濾波器相對於膜的交叉角度時的各種缺陷(黑異物、較弱的亮點、較強的亮點)的檢測圖像的亮度值圖表化的圖，在圖45(d)中示出將光源光量10倍時的、改變偏振濾波器相對於膜的交叉角度時的各種缺陷(黑異物、較弱的亮點、較強的亮點)的檢測圖像的亮度值圖表化的圖。需要說明的是，對於光源光量40倍、20倍、10倍而言，將圖像上的亮度值為128時的光源光量(正透射中最佳的光量)作為1倍而示出。

根據圖45的(a)、(b)可知，在光源光量為40倍的情況下，對於較強的亮點的缺陷的檢測，交叉角度實質上為90度，即正交偏振透射法適宜，對於較弱的亮點的缺陷的檢測，交叉角度為105度，即非正交偏振透射法適宜。需要說明的是，在交叉角度為70度以下以及110度以上的情況下，圖像上的亮度過高，圖像整體變白。另外，對於黑異物的缺陷的檢測，可知正透射法適宜，但對於在正透射法中將偏振濾波器用作亮度調節的情況，可知交叉角度為75度以上且小於85度、或者95度以上且105度以下，即非正交偏振透射法適宜。

另外，根據圖45的(b)、(c)、(d)可知，根據光源光量的不同，對於較弱的亮點的缺陷的檢測以及黑異物的缺陷的檢測，非正交偏振透射法中的最佳的交叉角度不同。

由此，對於在正透射法中將偏振濾波器用作亮度調節的情況，即利用非正交偏振透射法的情況，有利於交叉角度實質上為90度以外時缺陷信號變高的缺陷，例如較弱的亮點、黑異物的檢測。

另外，能夠綜合考慮兩個交叉角度下的檢查，判斷缺陷等級的強弱。例如，也可以在利用交叉角度實質上為90度的正交偏振透射法以及交叉角度為75度以上且小於85度、或者95度以上且105度以下的非正交偏振透射法這兩方確認到缺陷信號的情況下，換言之在較大的角度範圍內確認到缺陷信號的情況下，判斷為缺陷等級強，在僅通過交叉角度實質上為90度的正交偏振透射法確認到缺陷信號的情況下，判斷為缺陷等級弱。

在上述的驗證中，將偏振濾波器配置在光源與拍攝區域之間，調節照射至拍攝區域的光的亮度，但通過利用偏振濾波器的非正交透射法對透過拍攝區域的光進行亮度調節，也能夠實現同樣的效果。

[第七實施方式的變形例]

在第七實施方式中，例示了將正交偏振透射法與非正交偏振透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20以及缺陷檢查用拍攝方法，但也可以將正交偏振透射法與兩個以上不同的非正交偏振透射法組合。以下，作為第七實施方式的變形例，例示將正交偏振透射法與兩個不同的非正交偏振透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20以及缺陷檢查用拍攝方法。

圖39所示的變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20與第七實施方式的不同之處在於，在圖23所示的缺陷檢查用拍攝裝置20中還具備第二亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)252。

在此，拍攝區域r還包括在搬運方向y上被分割出的第三拍攝區域r3，該第三拍攝區域r3與第二拍攝區域r2鄰接。

第二亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)252以與第一亮度調節用偏振濾波器251鄰接且與膜110形成第二非正交偏振狀態的方式，配置在光源21與第三拍攝區域r3之間。在此，第二非正交偏振狀態與第一非正交偏振狀態不同。即，第二非正交偏振狀態下的偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸的交叉角度和第一非正交偏振狀態下的偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸的交叉角度不同。由此，第二亮度調節用偏振濾波器252能夠降低照射至第三拍攝區域r3的光的亮度值。第二亮度調節用偏振濾波器252與膜110形成第二非正交偏振狀態即可，也可以在第三拍攝區域r3與區域傳感器22之間，調節透過第三拍攝區域r3的光的亮度值。

接下來，對第七實施方式的變形例的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，進行上述的第一偏振濾波器配置工序。接下來，如上述那樣，將第一亮度調節用偏振濾波器251以與膜110形成第一非正交偏振狀態的方式配置在光源21與第一偏振濾波器231之間、以及光源21與第二拍攝區域r2之間。接下來，將第二亮度調節用偏振濾波器252以與膜110形成第二非正交偏振狀態的方式配置在光源21與第三拍攝區域r3之間。由此，能夠降低照射至第二拍攝區域r2以及第三拍攝區域r3的光的亮度值(亮度調節工序)。也可以將第二亮度調節用偏振濾波器252配置在第三拍攝區域r3與區域傳感器22之間。接下來，進行上述的搬運工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標記工序。

根據該第七實施方式的變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10、以及缺陷檢查方法，也能夠獲得與第七實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10、以及缺陷檢查方法同樣的優點。

[第八實施方式]

本發明的第八實施方式所涉及的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法是進行上述的具有偏振特性的膜110的缺陷檢查的缺陷檢查系統10a以及缺陷檢查方法。

本發明的第八實施方式所涉及的缺陷檢查系統10a與第七實施方式的不同之處在於，在圖22所示的缺陷檢查系統10中，代替缺陷檢查用拍攝裝置20而具備缺陷檢查用拍攝裝置20a。另外，圖24所示的缺陷檢查用拍攝裝置20a與第七實施方式的不同之處在於，在圖23所示的缺陷檢查用拍攝裝置20中，代替第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251而具備衰減濾波器(亮度調節機構)26。另外，缺陷檢查用拍攝裝置20a與第七實施方式的不同之處在於，在缺陷檢查用拍攝裝置20中，第一偏振濾波器231的偏振軸相對於膜110的偏振軸(偏振吸收軸)的交叉角度不同。

第一偏振濾波器231與膜110的第一拍攝區域r1形成第一非正交偏振狀態。例如後述那樣，第一偏振濾波器231的偏振軸與膜110的偏振軸的交叉角度為75度以上且小於85度、或者95度以上且105度以下。另外，第一偏振濾波器231與膜110的第一拍攝區域r1形成第一非正交偏振狀態即可，第一偏振濾波器231也可以配置在第一拍攝區域r1與區域傳感器22之間(參照圖35)。

衰減濾波器26配置在光源21與第二拍攝區域r2之間。由此，衰減濾波器26能夠降低照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值。另外，衰減濾波器26也可以配置在第二拍攝區域r2與區域傳感器22之間，降低透過第二拍攝區域r2的光的亮度值。

接下來，對本發明的第八實施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，將第一偏振濾波器231以與膜110形成第一非正交偏振狀態的方式配置在光源21與膜110的第一拍攝區域r1之間(第一偏振濾波器配置工序)。也可以將第一偏振濾波器231配置在第一拍攝區域r1與區域傳感器22之間。接下來，將衰減濾波器26配置在光源21與第二拍攝區域r2之間。由此，能夠降低照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值(亮度調節工序)。也可以將衰減濾波器26配置在第二拍攝區域r2與區域傳感器22之間。

接下來，進行上述的搬運工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標記工序。

根據該第八實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20a、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10a、以及缺陷檢查方法，也能夠獲得與第七實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10、以及缺陷檢查方法同樣的優點。

[第八實施方式的第一變形例]

在第八實施方式中，例示了將非正交偏振透射法與正透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20a以及缺陷檢查用拍攝方法，但也可以將兩個以上不同的非正交偏振透射法與正透射法組合。以下，作為第八實施方式的第一變形例，例示將兩個不同的非正交偏振透射法與正透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20a以及缺陷檢查用拍攝方法。

圖40所示的第一變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20a與第七實施方式的不同之處在於，在圖24所示的缺陷檢查用拍攝裝置20a中還具備第二偏振濾波器232。

在此，拍攝區域r還包括在搬運方向y上被分割出的第三拍攝區域r3，該第三拍攝區域r3與第一拍攝區域r1鄰接。

第二偏振濾波器232以與第一偏振濾波器231鄰接且與膜110形成第二非正交偏振狀態的方式配置在光源21與第三拍攝區域r3之間。在此，第二非正交偏振狀態與第一非正交偏振狀態不同。即，第二非正交偏振狀態下的偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸的交叉角度和第一非正交偏振狀態下的偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸的交叉角度不同。第二偏振濾波器232配置為與第三拍攝區域r3形成第二非正交偏振狀態即可，也可以相對於第一偏振濾波器231獨立地配置在第三拍攝區域r3與區域傳感器22之間。

接下來，對第八實施方式的第一變形例的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，如上述那樣，將第一偏振濾波器231以與膜110形成第一非正交偏振狀態的方式配置在光源21與膜110的第一拍攝區域r1之間(第一偏振濾波器配置工序)。接下來，將第二偏振濾波器232以與膜110形成第二非正交偏振狀態的方式配置在光源21與膜110的第三拍攝區域r3之間(第二偏振濾波器配置工序)。也可以將第二偏振濾波器232相對於第一偏振濾波器231獨立地配置在第三拍攝區域r3與區域傳感器22之間。接下來，進行上述的亮度調節工序、搬運工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標記工序。

根據該第八實施方式的第一變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20a、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10a、以及缺陷檢查方法，也能夠獲得與第七實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10、以及缺陷檢查方法同樣的優點。

[第八實施方式的第二變形例]

在第八實施方式中，例示了將非正交偏振透射法與正透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20a以及缺陷檢查用拍攝方法，但也可以將兩個以上不同的非正交偏振透射法組合。以下，作為第八實施方式的第二變形例，例示將兩個不同的非正交偏振透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20a以及缺陷檢查用拍攝方法。

第二變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20a與第八實施方式的不同之處在於，在圖24所示的缺陷檢查用拍攝裝置20a中，代替衰減濾波器(亮度調節機構)26而具備第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251。

第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251以與膜110形成第二非正交偏振狀態的方式配置在光源21與第二拍攝區域r2之間。在此，第二非正交偏振狀態與第一非正交偏振狀態不同。即，第二非正交偏振狀態下的偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸的交叉角度和第一非正交偏振狀態下的偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸的交叉角度不同。由此，第一亮度調節用偏振濾波器251能夠降低照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值。

第一亮度調節用偏振濾波器251與膜110形成第二非正交偏振狀態即可，第一亮度調節用偏振濾波器251也可以配置在第二拍攝區域r2與區域傳感器22之間，調節透過第二拍攝區域r2的光的亮度值。

接下來，對第八實施方式的第二變形例的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，如上述那樣，將第一偏振濾波器231以與膜110形成第一非正交偏振狀態的方式配置在光源21與膜110的第一拍攝區域r1之間(第一偏振濾波器配置工序)。接下來，將第一亮度調節用偏振濾波器251以與膜110形成第二非正交偏振狀態的方式，配置在光源21與第一偏振濾波器231之間、以及光源21與第二拍攝區域r2之間。由此，能夠降低照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值(亮度調節工序)。也可以將第一亮度調節用偏振濾波器251配置在第二拍攝區域r2與區域傳感器22之間，調節透過第二拍攝區域r2的光的亮度值。接下來，進行上述的搬運工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標記工序。

根據該第八實施方式的第二變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20a、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10a、以及缺陷檢查方法，也能夠獲得與第七實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10、以及缺陷檢查方法同樣的優點。

[第九實施方式]

本發明的第九實施方式所涉及的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法是進行上述的具有偏振特性的膜110的缺陷檢查的缺陷檢查系統10以及缺陷檢查方法。

本發明的第九實施方式所涉及的缺陷檢查系統10b與第七實施方式的不同之處在於，在圖22所示的缺陷檢查系統10中，代替缺陷檢查用拍攝裝置20而具備缺陷檢查用拍攝裝置20b。另外，圖25所示的缺陷檢查用拍攝裝置20b與第七實施方式的不同之處在於，在圖23所示的缺陷檢查用拍攝裝置20中，代替光源21以及第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251而具備光源21a。另外，缺陷檢查用拍攝裝置20b與第七實施方式的不同之處在於，在缺陷檢查用拍攝裝置20中，第一偏振濾波器231的偏振軸相對於膜110的偏振軸(偏振吸收軸)的交叉角度不同。

第一偏振濾波器231與膜110的第一拍攝區域r1形成第一非正交偏振狀態。例如後述那樣，第一偏振濾波器231的偏振軸與膜110的偏振軸的交叉角度為75度以上且小於85度、或者95度以上且105度以下。第一偏振濾波器231與膜110的第一拍攝區域r1形成第一非正交偏振狀態即可，第一偏振濾波器231也可以配置在光源21a與第一拍攝區域r1之間(參照圖25)，或者配置在第一拍攝區域r1與區域傳感器22之間(參照圖36)。

光源21a具有單獨調節向第一拍攝區域r1照射的光的亮度值和向第二拍攝區域r2照射的光的亮度值的亮度調節功能。由此，能夠使照射至第一拍攝區域r1的光的亮度值較大，使照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值較小。

接下來，對本發明的第九實施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，將第一偏振濾波器231以與膜110形成第一非正交偏振狀態的方式配置在光源21與膜110的第一拍攝區域r1之間(第一偏振濾波器配置工序)。也可以將第一偏振濾波器231配置在第一拍攝區域r1與區域傳感器22之間。接下來，利用光源21a單獨調節向第一拍攝區域r1照射的光的亮度值和向第二拍攝區域r2照射的光的亮度值。由此，能夠使照射至第一拍攝區域r1的光的亮度值較大，使照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值較小(亮度調節工序)。

接下來，進行上述的搬運工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標記工序。

根據該第九實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20b、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10b、以及缺陷檢查方法，也能夠獲得與第七實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10、以及缺陷檢查方法同樣的優點。

[第九實施方式的變形例]

在第九實施方式中，例示了將非正交偏振透射法與正透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20b以及缺陷檢查用拍攝方法，但也可以將兩個以上不同的非正交偏振透射法與正透射法組合。以下，作為第九實施方式的變形例，例示將兩個不同的非正交偏振透射法與正透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20b以及缺陷檢查用拍攝方法。

圖41所示的缺陷檢查用拍攝裝置20b與第七實施方式的不同之處在於，在圖25所示的缺陷檢查用拍攝裝置20b中還具備第二偏振濾波器232。

在此，拍攝區域r還包括在搬運方向y上被分割出的第三拍攝區域r3，該第三拍攝區域r3與第一拍攝區域r1鄰接。

第二偏振濾波器232以與第一偏振濾波器231鄰接且與膜110形成第二非正交偏振狀態的方式配置在光源21與第三拍攝區域r3之間。在此，第二非正交偏振狀態與第一非正交偏振狀態不同。即，第二非正交偏振狀態下的偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸的交叉角度和第一非正交偏振狀態下的偏振濾波器的偏振軸與膜的偏振軸的交叉角度不同。第二偏振濾波器232與膜110形成第二非正交偏振狀態即可，第二偏振濾波器232也可以配置在第三拍攝區域r3與區域傳感器22之間。

接下來，對第九實施方式的變形例的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，如上述那樣，將第一偏振濾波器231以與膜110形成第一非正交偏振狀態的方式，配置在光源21與膜110的第一拍攝區域r1之間(第一偏振濾波器配置工序)。接下來，將第二偏振濾波器232以與膜110形成第二非正交偏振狀態的方式，配置在光源21與膜110的第三拍攝區域r3之間(第二偏振濾波器配置工序)。也可以將第二偏振濾波器232配置在第三拍攝區域r3與區域傳感器22之間。接下來，進行上述的亮度調節工序、搬運工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標記工序。

根據該第九實施方式的變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20b、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10b、以及缺陷檢查方法，也能夠獲得與第七實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10、以及缺陷檢查方法同樣的優點。

[第十實施方式]

本發明的第十實施方式所涉及的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法是進行上述的不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的缺陷檢查的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法。第十實施方式所涉及的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法能夠應用於不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的製造裝置以及製造方法。在不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的製造裝置以及製造方法中，除第十實施方式中進行說明的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法以外的內容是公知的，因此如前述那樣省略說明。對於與進行不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的缺陷檢查的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法相關的其他實施方式以及變形例，基於同樣的觀點，省略關於不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的製造裝置以及製造方法的說明。在第十實施方式及其變形例的說明中，膜110是不具有偏振特性的膜。

本發明的第十實施方式所涉及的缺陷檢查系統10c與第七實施方式的不同之處在於，在圖22所示的缺陷檢查系統10中，代替缺陷檢查用拍攝裝置20而具備缺陷檢查用拍攝裝置20c。另外，圖26所示的缺陷檢查用拍攝裝置20c與第七實施方式偶的不同之處在於，在圖23所示的缺陷檢查用拍攝裝置20中，代替第一偏振濾波器231而具備一對第一偏振濾波器231、241，在第一亮度調節用偏振濾波器251的基礎上還具備與第一亮度調節用偏振濾波器251成對的第一亮度調節用偏振濾波器253。

第一偏振濾波器231與第七實施方式同樣地配置在光源21與膜110之間。具體地說，第一偏振濾波器231配置在光源21與拍攝區域r的第一拍攝區域r1之間。在本實施方式中，第一偏振濾波器231配置為，從區域傳感器22觀察時，搬運方向y上的拍攝區域r的一半被遮擋。

另一方面，第一偏振濾波器241配置在膜110與區域傳感器22之間。具體地說，第一偏振濾波器241配置在拍攝區域r的第一拍攝區域r1與區域傳感器22之間。在本實施方式中，第一偏振濾波器241配置為，從區域傳感器22觀察時，搬運方向y上的拍攝區域r的一半被遮擋。

另外，一對第一亮度調節用偏振濾波器251、253中的第一亮度調節用偏振濾波器251與第七實施方式同樣地配置在光源21與膜110之間。另一方面，第一亮度調節用偏振濾波器253配置在膜110與區域傳感器22之間。具體地說，第一亮度調節用偏振濾波器253配置在拍攝區域r的第二拍攝區域r2與區域傳感器22之間。在第十實施方式中，第一亮度調節用偏振濾波器253配置為，從區域傳感器22觀察時，搬運方向y上的拍攝區域r的一半(在圖26的例子中是第二拍攝區域r2側的部分)被遮擋。

另外，第一偏振濾波器231與第一偏振濾波器241形成正交偏振狀態。另一方面，第一亮度調節用偏振濾波器251與第一亮度調節用偏振濾波器253形成第一非正交偏振狀態。例如，第一亮度調節用偏振濾波器251的偏振軸與第一亮度調節用偏振濾波器253的偏振軸的交叉角度為75度以上且小於85度、或者95度以上且105度以下。由此，能夠在第一拍攝區域r1拍攝正交偏振透射檢查用圖像，在第二拍攝區域r2拍攝非正交偏振透射檢查用圖像，在中間拍攝區域r0拍攝透射散射檢查用圖像。

接下來，對本發明的第十實施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，將第一偏振濾波器231配置在光源21與膜110的第一拍攝區域r1之間，將第一偏振濾波器241配置在膜110的第一拍攝區域r1與區域傳感器22之間。此時，將第一偏振濾波器231以及第一偏振濾波器241配置為形成正交偏振狀態(第一偏振濾波器配置工序)。

接下來，將第一亮度調節用偏振濾波器251配置在光源21與第一偏振濾波器231之間、以及光源21與第二拍攝區域r2之間，將第一亮度調節用偏振濾波器253配置在膜110的第二拍攝區域r2與區域傳感器22之間。此時，第一亮度調節用偏振濾波器251與第一亮度調節用偏振濾波器253配置為形成第一非正交偏振狀態。由此，能夠降低透過第二拍攝區域r2被區域傳感器22觀測到的光的亮度值(亮度調節工序)。也可以將第一亮度調節用偏振濾波器251僅配置在光源21與第二拍攝區域r2之間。

另外，也可以代替第一亮度調節用偏振濾波器253而使第一偏振濾波器241擴展至第二拍攝區域r2，在該情況下，將第一亮度調節用偏振濾波器251配置為與第一偏振濾波器241形成第一非正交偏振狀態即可。

接下來，進行上述的搬運工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標記工序。

根據該第十實施方式所涉及的缺陷檢查用拍攝裝置20c以及缺陷檢查用拍攝方法，由於一對第一偏振濾波器231、241以形成正交偏振狀態的方式分別配置在光源(光照射機構)21與第一拍攝區域r1之間、以及第一拍攝區域r1與區域傳感器(拍攝機構)22之間，區域傳感器(拍攝機構)22將包括第一拍攝區域r1、第二拍攝區域r2以及中間拍攝區域r0的拍攝區域r拍攝為二維圖像，因此能夠同時拍攝第一拍攝區域r1的正交偏振透射檢查用圖像、第二拍攝區域r2的非正交偏振(第一非正交偏振)透射檢查用圖像、中間拍攝區域r0的透射散射檢查用圖像。即，能夠整合正交偏振透射檢查用拍攝系列、非正交偏振(第一非正交偏振)透射檢查用拍攝系列、以及透射散射檢查用拍攝系列。

其結果是，根據第十實施方式的缺陷檢查系統10c以及缺陷檢查方法，能夠整合正交偏振透射檢查系列、非正交偏振透射檢查系列、以及透射散射檢查系列。

因此，根據第十實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20c、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10c、以及缺陷檢查方法，能夠削減檢查系列數。

另外，根據該第十實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20c以及缺陷檢查用拍攝方法，能夠利用一對第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251、253，調節透過第二拍攝區域r2被區域傳感器22觀測到的光的亮度值。因此，例如通過從光源(光照射機構)21輸出較大的亮度值的光，能夠使朝向用於進行正交偏振透射檢查用拍攝系列的第一拍攝區域r1照射的光的亮度值較大，另一方面，能夠利用一對第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251、253使透過用於進行非正交偏振透射檢查用拍攝系列的第二拍攝區域r2被區域傳感器觀測到的光的亮度值較小。

另外，根據第十實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20c以及缺陷檢查用拍攝方法，由於一對第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251、253形成第一非正交偏振狀態，因此能夠改善黑異物以及較弱的亮點的檢測。

[第十實施方式的變形例]

在第十實施方式中，例示了將正交偏振透射法與非正交偏振透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20以及缺陷檢查用拍攝方法，但也可以將正交偏振透射法與兩個以上不同的非正交偏振透射法組合。以下，作為第十實施方式的變形例，例示將正交偏振透射法與兩個不同的非正交偏振透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20c以及缺陷檢查用拍攝方法。

圖42所示的變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20c與第七實施方式的不同之處在於，在圖26所示的缺陷檢查用拍攝裝置20c中，還具備一對第二亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)252、254。

在此，拍攝區域r還包括在搬運方向y上被分割出的第三拍攝區域r3，該第三拍攝區域r3與第二拍攝區域r2鄰接。

第二亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)252以與第一亮度調節用偏振濾波器251鄰接的方式配置在光源21與第三拍攝區域r3之間，另一方面，第二亮度調節用偏振濾波器254以與第一亮度調節用偏振濾波器253鄰接的方式配置在第三拍攝區域r3與區域傳感器22之間。一對第二亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)252、254配置為形成第二非正交偏振狀態。在此，一對第二亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)252、254形成的第二非正交偏振狀態與第一非正交偏振狀態不同。即，第二非正交偏振狀態下的偏振濾波器的偏振軸的交叉角度與第一非正交偏振狀態下的偏振濾波器的偏振軸的交叉角度不同，由此，第二亮度調節用偏振濾波器252、254能夠降低透過第三拍攝區域r3被區域傳感器22觀測到的光的亮度值。

接下來，對第十實施方式的變形例的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，進行上述的第一偏振濾波器配置工序。接下來，如上述那樣將第一亮度調節用偏振濾波器251配置在光源21與第一偏振濾波器231之間、以及光源21與第二拍攝區域r2之間，並且將第一亮度調節用偏振濾波器253配置在膜110的第二拍攝區域r2與區域傳感器22之間。此時，第一亮度調節用偏振濾波器251、253配置為形成第一非正交偏振狀態。接下來，將第二亮度調節用偏振濾波器252配置在光源21與第三拍攝區域r3之間，並且將第二亮度調節用偏振濾波器254配置在膜110的第三拍攝區域r3與區域傳感器22之間。此時，第二亮度調節用偏振濾波器252、254配置為形成第二非正交偏振狀態。由此，能夠降低透過第二拍攝區域r2以及第三拍攝區域r3被區域傳感器22觀測到的光的亮度值(亮度調節工序)。也可以將第一亮度調節用偏振濾波器251僅配置在光源21與第二拍攝區域r2之間。

另外，也可以代替第一亮度調節用偏振濾波器253，使第一偏振濾波器241擴展至第二拍攝區域r2，在該情況下，將第一亮度調節用偏振濾波器251配置為與第一偏振濾波器241形成第一非正交偏振狀態即可。或者，也可以代替第二亮度調節用偏振濾波器254，使第一亮度調節用偏振濾波器253擴展至第三拍攝區域r3，在該情況下，將第二亮度調節用偏振濾波器252配置為相對於第一亮度調節用偏振濾波器253形成第二非正交偏振狀態即可。

接下來，進行上述的搬運工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標記工序。

根據該第十實施方式的變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20c、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10c、以及缺陷檢查方法，也能夠獲得與第十實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20c、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10c、以及缺陷檢查方法同樣的優點。

[第十一實施方式]

本發明的第十一實施方式所涉及的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法是進行上述的不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的缺陷檢查的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法。在第十一實施方式及其變形例的說明中，膜110是不具有偏振特性的膜。

本發明的第十一實施方式所涉及的缺陷檢查系統10d與第十實施方式的不同之處在於，在圖22所示的缺陷檢查系統10c中，代替缺陷檢查用拍攝裝置20c而具備缺陷檢查用拍攝裝置20d。另外，圖27所示的缺陷檢查用拍攝裝置20d與第十實施方式的不同之處在於，在圖26所示的缺陷檢查用拍攝裝置20c中，代替第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251而具備衰減濾波器(亮度調節機構)26。另外，缺陷檢查用拍攝裝置20d與第十實施方式的不同之處在於，在缺陷檢查用拍攝裝置20c中，一對第一偏振濾波器231、241的偏振軸(偏振吸收軸)的交叉角度不同。

第一偏振濾波器231與第一偏振濾波器241形成第一非正交偏振狀態。例如，第一偏振濾波器231的偏振軸與第一偏振濾波器241的偏振軸的交叉角度為75度以上且小於85度、或者95度以上且105度以下。

衰減濾波器26配置在光源21與第二拍攝區域r2之間。由此，衰減濾波器26能夠降低照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值。

接下來，對本發明的第十一實施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，將第一偏振濾波器231配置在光源21與膜110的第一拍攝區域r1之間，將第一偏振濾波器241配置在膜110的第一拍攝區域r1與區域傳感器22之間。此時，將第一偏振濾波器231以及第一偏振濾波器241配置為形成第一非正交偏振狀態(第一偏振濾波器配置工序)。接下來，將衰減濾波器26配置在光源21與第二拍攝區域r2之間。由此，能夠降低照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值(亮度調節工序)。也可以將衰減濾波器26配置在膜110的第二拍攝區域r2與區域傳感器22之間，降低透過第二拍攝區域r2的光的亮度值。

接下來，進行上述的搬運工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標記工序。

根據該第十一實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20d、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10d、以及缺陷檢查方法，也能夠獲得與第十實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20c、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10c、以及缺陷檢查方法同樣的優點。

[第十一實施方式的第一變形例]

在第十一實施方式中，例示了將非正交偏振透射法與正透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20d以及缺陷檢查用拍攝方法，但也可以將兩個以上的不同的非正交偏振透射法與正透射法組合。以下，作為第十一實施方式的第一變形例，例示將兩個不同的非正交偏振透射法與正透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20d以及缺陷檢查用拍攝方法。

圖43所示的第一變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20d與第十一實施方式的不同之處在於，在圖27所示的缺陷檢查用拍攝裝置20d中還具備一對第二偏振濾波器232、242。

在此，拍攝區域r還包括在搬運方向y上被分割出的第三拍攝區域r3，該第三拍攝區域r3與第一拍攝區域r1鄰接。

第二偏振濾波器232以與第一偏振濾波器231鄰接的方式配置在光源21與第三拍攝區域r3之間，第二偏振濾波器242以與第一偏振濾波器241鄰接的方式配置在第三拍攝區域r3與區域傳感器22之間。一對第二偏振濾波器232、242形成第二非正交偏振狀態。在此，第二非正交偏振狀態與第一非正交偏振狀態不同。即，第二非正交偏振狀態下的偏振濾波器的偏振軸的交叉角度與第一非正交偏振狀態下的偏振濾波器的偏振軸的交叉角度不同。

接下來，對第十一實施方式的第一變形例的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，如上述那樣，將第一偏振濾波器231配置在光源21與膜110的第一拍攝區域r1之間，將第一偏振濾波器241配置在膜110的第一拍攝區域r1與區域傳感器22之間。此時，將第一偏振濾波器231以及第一偏振濾波器241配置為形成第一非正交偏振狀態(第一偏振濾波器配置工序)。接下來，將第二偏振濾波器232配置在光源21與膜110的第三拍攝區域r3之間，將第二偏振濾波器242配置在膜110的第三拍攝區域r3與區域傳感器22之間。此時，將第二偏振濾波器232以及第二偏振濾波器242配置為形成第二非正交偏振狀態(第二偏振濾波器配置工序)。接下來，進行上述的亮度調節工序、搬運工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標記工序。

根據該第十一實施方式的第一變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20d、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10d、以及缺陷檢查方法，也能夠獲得與第十實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20c、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10c、以及缺陷檢查方法同樣的優點。

[第十一實施方式的第二變形例]

在第十一實施方式中，例示了將非正交偏振透射法與正透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20d以及缺陷檢查用拍攝方法，但也可以將兩個以上不同的非正交偏振透射法組合。以下，作為第十一實施方式的第二變形例，例示將兩個不同的非正交偏振透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20d以及缺陷檢查用拍攝方法。

第二變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20d與第十一實施方式的不同之處在於，在圖27所示的缺陷檢查用拍攝裝置20d中，代替衰減濾波器(亮度調節機構)26而具備一對第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251、253。

第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251配置在光源21與第二拍攝區域r2之間，第一亮度調節用偏振濾波器253配置在膜110的第二拍攝區域r2與區域傳感器22之間。此時，一對第一亮度調節用偏振濾波器251、253配置為形成第二非正交偏振狀態。在此，第二非正交偏振狀態與第一非正交偏振狀態不同。即，第二非正交偏振狀態下的偏振濾波器的偏振軸的交叉角度與第一非正交偏振狀態下的偏振濾波器的偏振軸的交叉角度。由此，一對第一亮度調節用偏振濾波器251、253能夠降低透過第二拍攝區域r2的光的亮度值。

接下來，對第十一實施方式的第二變形例的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，如上述那樣，將第一偏振濾波器231配置在光源21與膜110的第一拍攝區域r1之間，將第一偏振濾波器241配置在膜110的第一拍攝區域r1與區域傳感器22之間。此時，將第一偏振濾波器231以及第一偏振濾波器241配置為形成第一非正交偏振狀態(第一偏振濾波器配置工序)。接下來，將第一亮度調節用偏振濾波器251配置在光源21與第二拍攝區域r2之間，將第一亮度調節用偏振濾波器253配置在膜110的第二拍攝區域r2與區域傳感器22之間。此時，將一對第一亮度調節用偏振濾波器251、253配置為形成第二非正交偏振狀態。由此，能夠降低透過第二拍攝區域r2的光的亮度值(亮度調節工序)。接下來，進行上述的搬運工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標記工序。

根據該第十一實施方式的第二變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20d、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10d、以及缺陷檢查方法，也能夠獲得與第十實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20c、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10c、以及缺陷檢查方法同樣的優點。

[第十二實施方式]

本發明的第十二實施方式所涉及的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法是進行上述的不具有偏振特性的相位差膜、電池用隔離膜等的缺陷檢查的缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法。在第十二實施方式及其變形例的說明中，膜110是不具有偏振特性的膜。

本發明的第十二實施方式所涉及的缺陷檢查系統10e與第十實施方式的不同之處在於，在圖22所示的缺陷檢查系統10c中，代替缺陷檢查用拍攝裝置20c而具備缺陷檢查用拍攝裝置20e。另外，圖28所示的缺陷檢查用拍攝裝置20e與第十實施方式的不同之處在於，在圖26所示的缺陷檢查用拍攝裝置20c中，代替光源21以及第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251而具備光源21a。另外，缺陷檢查用拍攝裝置20e與第十實施方式的不同之處在於，在缺陷檢查用拍攝裝置20c中，一對第一偏振濾波器231、241的偏振軸(偏振吸收軸)的交叉角度不同。

第一偏振濾波器231與第一偏振濾波器241形成第一非正交偏振狀態。例如，第一偏振濾波器231的偏振軸與第一偏振濾波器241的偏振軸的交叉角度為75度以上且小於85度、或者95度以上且105度以下。

光源21a具有單獨調節向第一拍攝區域r1照射的光的亮度值和向第二拍攝區域r2照射的光的亮度值的亮度調節功能。由此，能夠使照射至第一拍攝區域r1的光的亮度值較大，使照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值較小。

接下來，對本發明的第十二實施方式所涉及的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，將第一偏振濾波器231配置在光源21與膜110的第一拍攝區域r1之間，將第一偏振濾波器241配置在膜110的第一拍攝區域r1與區域傳感器22之間。此時，將第一偏振濾波器231以及第一偏振濾波器241配置為形成第一非正交偏振狀態(第一偏振濾波器配置工序)。接下來，利用光源21a單獨調節向第一拍攝區域r1照射的光的亮度值和向第二拍攝區域r2照射的光的亮度值。由此，能夠使照射至第一拍攝區域r1的光的亮度值較大，使照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值較小(亮度調節工序)。

接下來，進行上述的搬運工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標記工序。

根據該第十二實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20e、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10e、以及缺陷檢查方法，也能夠獲得與第十實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20c、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10c、以及缺陷檢查方法同樣的優點。

[第十二實施方式的變形例]

在第十二實施方式中，例示了將非正交偏振透射法與正透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20e以及缺陷檢查用拍攝方法，但也可以將兩個以上不同的非正交偏振透射法與正透射法組合。以下，作為第十二實施方式的變形例，例示將兩個不同的非正交偏振透射法與正透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20e以及缺陷檢查用拍攝方法。

圖44所示的缺陷檢查用拍攝裝置20e與第十實施方式的不同之處在於，在圖28所示的缺陷檢查用拍攝裝置20e中還具備一對第二偏振濾波器232、242。

在此，拍攝區域r還包括在搬運方向y上被分割出的第三拍攝區域r3，該第三拍攝區域r3與第一拍攝區域r1鄰接。

第二偏振濾波器232以與第一偏振濾波器231鄰接的方式配置在光源21與第三拍攝區域r3之間，第二偏振濾波器242以與第一偏振濾波器241鄰接的方式配置在第三拍攝區域r3與區域傳感器22之間。一對第二偏振濾波器232、242形成第二非正交偏振狀態。在此，第二非正交偏振狀態與第一非正交偏振狀態不同。即，第二非正交偏振狀態下的偏振濾波器的偏振軸的交叉角度與第一非正交偏振狀態下的偏振濾波器的偏振軸的交叉角度。

接下來，對第十二實施方式的變形例的缺陷檢查方法以及缺陷檢查用拍攝方法進行說明。

首先，如上述那樣，將第一偏振濾波器231配置在光源21與膜110的第一拍攝區域r1之間，將第一偏振濾波器241配置在膜110的第一拍攝區域r1與區域傳感器22之間。此時，將第一偏振濾波器231以及第一偏振濾波器241配置為形成第一非正交偏振狀態(第一偏振濾波器配置工序)。接下來，將第二偏振濾波器232配置在光源21與膜110的第三拍攝區域r3之間，將第二偏振濾波器242配置在膜110的第三拍攝區域r3與區域傳感器22之間。此時，將第二偏振濾波器232以及第二偏振濾波器242配置為形成第二非正交偏振狀態(第二偏振濾波器配置工序)。接下來，進行上述的亮度調節工序、搬運工序、光照射工序、拍攝工序、缺陷檢測工序、標記工序。

根據該第十二實施方式的變形例的缺陷檢查用拍攝裝置20e、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10e、以及缺陷檢查方法，也能夠獲得與第十實施方式的缺陷檢查用拍攝裝置20c、缺陷檢查用拍攝方法、缺陷檢查系統10c、以及缺陷檢查方法同樣的優點。

需要說明的是，本發明不限於上述的本實施方式，可以進行各種變形。例如，在第七、第八以及第九實施方式中，例示了利用透射法的缺陷檢查用拍攝裝置20、20a、20b以及缺陷檢查用拍攝方法，但本發明的特徵也能夠應用於如圖29、圖30以及圖31所示那樣利用反射法的缺陷檢查用拍攝裝置20、20a、20b以及缺陷檢查用拍攝方法。

另外，在圖29中，例示了將正交偏振反射法與非正交偏振反射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20以及缺陷檢查用拍攝方法，但也可以與圖39同樣地將正交偏振反射法與兩個以上不同的非正交偏振反射法組合。另外，在圖30中，例示了將非正交偏振反射法與正反射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20a以及缺陷檢查用拍攝方法，但也可以與圖40同樣地，將兩個以上不同的非正交偏振反射法與正反射法組合，也可以將兩個以上不同的非正交偏振反射法組合。另外，在圖31中，例示了將非正交偏振反射法與正反射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20b以及缺陷檢查用拍攝方法，但也可以與圖41同樣地，將兩個以上不同的非正交偏振反射法與正反射法組合。

根據圖29、圖30以及圖31所示的缺陷檢查用拍攝裝置20、20a、20b以及缺陷檢查用拍攝方法，例如，由於第一偏振濾波器231以與膜110形成正交偏振狀態的方式配置在光源(光照射機構)21與第一拍攝區域r1之間，區域傳感器(拍攝機構)22將包括第一拍攝區域r1、第二拍攝區域r2以及中間拍攝區域r0的拍攝區域r拍攝為二維圖像，因此能夠同時拍攝第一拍攝區域r1的正交偏振反射檢查用圖像、第二拍攝區域r2的正反射(或者非正交偏振發射)檢查用圖像、以及中間拍攝區域r0的反射散射檢查用圖像。即，能夠整合正交偏振反射檢查用拍攝系列、非正交偏振反射檢查用拍攝系列(參照圖29)或者正反射檢查用拍攝系列(參照圖30、31)、以及反射散射檢查用拍攝系列。其結果是，在缺陷檢查系統10、10a、10b以及缺陷檢查方法中，能夠整合正交偏振反射檢查系列、非正交偏振反射檢查系列或者正反射檢查系列、以及反射散射檢查系列，從而能夠削減檢查系列數。

然而，在正交偏振反射檢查用拍攝系列與例如正反射檢查用拍攝系列中，適當的光的亮度值不同。更具體地說，正交偏振反射檢查用拍攝系列的適當的光的亮度值較大，例如正反射檢查用拍攝系列的適當的光的亮度值較小。

關於這一點，根據圖29、圖30以及圖31所示的缺陷檢查用拍攝裝置20、20a、20b以及缺陷檢查用拍攝方法，能夠利用偏振濾波器(亮度調節機構)251、衰減濾波器(亮度調節機構)26以及光源(亮度調節機構)21a，調節照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值。因此，例如通過從光源(光照射機構)21以及光源(亮度調節機構)21a輸出較大的亮度值的光，能夠使朝向用於進行正交偏振反射檢查用拍攝系列的第一拍攝區域r1照射的光的亮度值較大，另一方面，能夠利用偏振濾波器(亮度調節機構)251、衰減濾波器(亮度調節機構)26以及光源(亮度調節機構)21a，使朝向用於進行非正交偏振反射檢查用拍攝系列(參照圖29)或者正反射檢查用拍攝系列(參照圖30、31)的第二拍攝區域r2照射的光的亮度值較小。

同樣地，在第十、第十一以及第十二實施方式中，例示了利用透射法的缺陷檢查用拍攝裝置20c、20d、20e以及缺陷檢查用拍攝方法，但本發明的特徵也能夠應用於如圖32、圖33以及圖34所示那樣利用反射法的缺陷檢查用拍攝裝置20c、20d、20e以及缺陷檢查用拍攝方法。

另外，在圖32中，例示了將正交偏振反射法與非正交偏振反射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20c以及缺陷檢查用拍攝方法，但也可以與圖42同樣地將正交偏振反射法與兩個以上不同的非正交偏振反射法組合。在該情況下，相對於圖42例示的第三拍攝區域r3，將第二亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)252以與第一亮度調節用偏振濾波器251鄰接的方式配置配置在光源21與第三拍攝區域r3之間，另一方面，將與第二亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)252成對的第二亮度調節用偏振濾波器254以與第一亮度調節用偏振濾波器253鄰接的方式，配置在第三拍攝區域r3與區域傳感器22之間即可。

另外，在圖33中，例示了將非正交偏振反射法與正反射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20d以及缺陷檢查用拍攝方法，但也可以與圖43同樣地，將兩個以上不同的非正交偏振反射法與正反射法組合，也可以將兩個以上不同的非正交偏振反射法組合。在該情況下，相對於圖43例示的第三拍攝區域r3，可以如第十一實施方式的第一變形例中說明那樣，將第二偏振濾波器232以與第一偏振濾波器231鄰接的方式配置在光源21與第三拍攝區域r3之間，將與第二偏振濾波器232成對的第二偏振濾波器242以與第一偏振濾波器241鄰接的方式配置在第三拍攝區域r3與區域傳感器22之間，也可以如第十一實施方式的第二變形例中說明那樣，代替衰減濾波器(亮度調節機構)26而將一對第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251、253配置為形成第二非正交偏振狀態。在採用一對第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251、253的情況下，將第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251配置在光源21與第二拍攝區域r2之間，將第一亮度調節用偏振濾波器253配置在膜110的第二拍攝區域r2與區域傳感器22之間即可。

另外，在圖34中，例示了將非正交偏振反射法與正反射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20e以及缺陷檢查用拍攝方法，但也可以與圖44同樣地，將兩個以上不同的非正交偏振反射法與正反射法組合。在該情況下，相對於圖44例示的第三拍攝區域r3，將第二偏振濾波器232以與第一偏振濾波器231鄰接的方式配置在光源21與第三拍攝區域r3之間，將與第二偏振濾波器232成對的第二偏振濾波器242以與第一偏振濾波器241鄰接的方式配置在第三拍攝區域r3與區域傳感器22之間即可。

根據圖32、圖33以及圖34所示的缺陷檢查用拍攝裝置20c、20d、20e以及缺陷檢查用拍攝方法，例如，由於一對第一偏振濾波器231、241以形成正交偏振狀態的方式分別配置在光源(光照射機構)21與第一拍攝區域r1之間、以及第一拍攝區域r1與區域傳感器(拍攝機構)22之間，區域傳感器(拍攝機構)22將包括第一拍攝區域r1、第二拍攝區域r2以及中間拍攝區域r0的拍攝區域r拍攝為二維圖像，因此能夠同時拍攝第一拍攝區域r1的正交偏振反射檢查用圖像、第二拍攝區域r2的正反射(或者非正交偏振發射)檢查用圖像、中間拍攝區域r0的反射散射檢查用圖像。即，能夠整合正交偏振反射檢查用拍攝系列、非正交偏振反射用拍攝系列(參照圖32)或者正反射檢查用拍攝系列(參照圖33、34)、以及反射散射檢查用拍攝系列。其結果是，在缺陷檢查系統10c、10d、10e以及缺陷檢查方法中，能夠整合正交偏振反射檢查系列、非正交偏振反射檢查系列或者正反射檢查系列、以及反射散射檢查系列，從而能夠削減檢查系列數。

另外，根據圖32、圖33以及圖34所示的缺陷檢查用拍攝裝置20c、20d、20e以及缺陷檢查用拍攝方法，能夠利用一對第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251、253、衰減濾波器(亮度調節機構)26以及光源(亮度調節機構)21a，調節照射至第二拍攝區域r2的光的亮度值。因此，例如通過從光源(光照射機構)21以及光源(亮度調節機構)21a輸出較大的亮度值的光，能夠使朝向用於進行正交偏振反射檢查用拍攝系列的第一拍攝區域r1照射的光的亮度值較大，另一方面，能夠利用一對第一亮度調節用偏振濾波器(亮度調節機構)251、253、衰減濾波器(亮度調節機構)26以及光源(亮度調節機構)21a，使朝向用於進行非正交偏振反射用拍攝系列(參照圖32)或者正反射檢查用拍攝系列(參照圖33、34)的第二拍攝區域r2照射的光的亮度值較小。

另外，在第八以及第九實施方式、以及圖30以及圖31所示的方式中，例示了第一偏振濾波器231設置在光源(光照射機構)21與膜110的第一拍攝區域r1之間的方式，但也可以採用如圖35、圖36、圖37以及圖38所示那樣，第一偏振濾波器231配置在膜110的第一拍攝區域r1與區域傳感器(拍攝機構)22之間的方式。

在圖35中，例示了將非正交偏振透射法與正透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20a以及缺陷檢查用拍攝方法，但也可以與圖40同樣地，將兩個以上不同的非正交偏振透射法與正透射法組合，也可以將兩個以上不同的非正交偏振透射法組合。另外，在圖36中，例示了將非正交偏振透射法與正透射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20b以及缺陷檢查用拍攝方法，也可以與圖41同樣地，將兩個以上不同的非正交偏振透射法與正透射法組合。

另外，在圖37中，例示了將非正交偏振反射法與正反射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20a以及缺陷檢查用拍攝方法，但也可以與圖40同樣地，將兩個以上不同的非正交偏振反射法與正反射法組合，也可以將兩個以上的不同的非正交偏振反射法組合。另外，在圖38中，例示了將非正交偏振反射法與正反射法組合的缺陷檢查用拍攝裝置20b以及缺陷檢查用拍攝方法，但也可以與圖41同樣地，將兩個以上不同的非正交偏振反射法與正反射法組合。

在之前的說明中，在相對於光照射機構另外配置亮度調節機構的情況下，將該亮度調節機構配置為，調節照射至第二拍攝區域r2的光、或者透過第二拍攝區域或被第二拍攝區域r2反射的光的亮度。然而，在相對於光照射機構另外配置亮度調節機構的方式中，亮度調節機構配置為，調節照射至第一以及第二拍攝區域r1、r2中的至少一方的光、或者透過第一以及第二拍攝區域r1、r2中的至少一方或被第一以及第二拍攝區域r1、r2中的至少一方反射的光的亮度即可。此外，在將亮度調節機構設置於光照射機構的方式中，也可以相對於配置於光照射機構的亮度調節機構另外進一步設置亮度調節機構。