模塊化雙重矢量流體噴霧噴嘴的製造方法與工藝

2023-05-11 14:32:51

模塊化雙重矢量流體噴霧噴嘴相關申請的交叉引用此美國非臨時專利申請要求2012年8月29日提交、2013年8月29日過期的標題為「模塊化雙重矢量流體噴霧噴嘴」的美國臨時專利申請No.61/694,262、以及2012年8月29日提交、2013年8月29日過期的標題為「六級雪炮」的美國臨時專利申請No.61/694,255、以及2012年8月29日提交、2013年8月29日過期的標題為「四級雪炮」的美國臨時專利申請No.61/694,250、以及2012年8月29日、提交2013年8月29日過期的標題為「單級雪炮」的美國臨時專利申請No.61/694,256的權益。如這裡充分闡述的，為了全部目的，上述臨時專利申請的內容都通過引用被明確地併入。此美國非臨時專利申請還與2011年3月22日提交的標題為「包括固定或可變噴霧角度的具有可調節液滴尺寸的扁平噴射流體噴嘴」的未決的美國專利申請12/998,141相關，此美國專利申請12/998,141是2009年9月25日提交、現在過期的標題為「包括固定或可變噴霧角度的具有可調節液滴尺寸的扁平噴射流體噴嘴」的國際專利申請No.PCT/US2009/005345的國家階段，其繼而要求2008年9月25日提交、同樣過期的標題為「羽狀物」的澳大利亞臨時專利申請No.2008904999的權益與優先權。最後，此美國非臨時專利申請還與2013年8月29日提交的標題為「單級與多級雪炮」的未決的美國非臨時專利申請No.14/013,582相關。如這裡充分闡述的，為了全部目的，上述專利申請的全部內容都通過引用被明確地併入。技術領域本發明大體上涉及流體噴霧噴嘴。更具體地說，本發明涉及對於任何類型的流體噴霧應用有用的模塊雙重矢量流體噴霧噴嘴，例如，並非限定於造雪、滅火、消防、塗料和溶劑噴塗。

背景技術：
用於在壓力下將諸如水的流體轉換成霧化噴霧或蒸汽流的噴嘴在本領域中是眾所周知的。噴嘴可以被用於例如灌溉、景觀澆水、消防、甚至以及溶劑與塗料噴塗的多種應用中。噴嘴還被用於造雪裝置中以提供適於通過冷大氣噴射的尺寸的水滴的霧化蒸汽以便冷凍成用於滑雪場地的人工造雪的雪。已知傳統的噴嘴提供特定形狀的噴霧模式的流體噴霧噴射，例如錐形噴霧噴霧模式通常用於花園軟管噴嘴。提供扁平噴射(扇狀)的噴嘴已經證實在造雪、滅火與灌溉方面尤其有用。然而，通過扁平噴射噴嘴實現的噴霧密度大體上沿著由孔以及軌道的方向形成的平面，由此限制了流體密度沿著遠離此軌道的平面的方向。存在對於在交叉平面中具有流體軌道的改進的流體噴霧噴嘴的需要。還可能有用的是具有這種改進的噴嘴，即在不移動部件的情況下以便易於在流體噴霧系統內維修與替換的模塊。這種改進的噴嘴可以對下面的噴嘴噴霧變量提供較大的控制：流體流速、形成在排出孔處的液滴尺寸、噴霧模式與噴霧角度。

技術實現要素：
公開了雙重矢量流體噴嘴的多個實施方式。流體噴嘴的特定實施方式可以包括一體的圓柱形殼體，其包括具有從近端上的流體進入埠到遠端處的狹槽孔穿過圓柱形殼體共軸地布置的流體通道軸的流體通道。流體通道的實施方式還可以包括多個圓柱形子通道，多個子通道中的每個都具有平行於從進入埠開始並且穿過狹槽孔的流體通道軸的子通道軸。此流體通道的實施方式還可以包括圓柱形子通道中的每個都由從圓柱形殼體的近端開始並且在狹槽孔處的相對的半球形衝擊表面中結束的鑽孔形成。公開了流體噴嘴的另一個實施方式。流體噴嘴可以包括一體的圓柱形殼體，其包括布置在其中的具有從近端上的流體進入埠到遠端處的交叉狹槽孔經過過圓柱形殼體共軸地布置的流體通道軸的流體通道。流體通道的實施方式還可以包括多個圓柱形子通道，多個子通道中的每個都具有平行於從進入埠開始並且穿過交叉狹槽孔的流體通道軸的子通道軸。此流體通道的實施方式還可以包括圓柱形子通道中的每個都由從圓柱形殼體的近端開始並且在交叉狹槽孔處的相對的半球形衝擊表面中結束的鑽孔形成。公開了流體噴嘴的又一個實施方式。流體噴嘴可以包括一體的圓柱形殼體，其包括具有從近端上的流體進入埠到遠端處的主狹槽孔穿過圓柱形殼體共軸地布置的流體通道軸的流體通道。流體通道還可以包括多個圓柱形子通道，多個子通道中的每個都具有平行於從進入埠開始並且穿過主狹槽孔或者兩個第二狹槽孔中的一個的流體通道軸的子通道軸，兩個第二狹槽孔形成在殼體的遠端中並且布置為平行主狹槽孔且在主狹槽孔的相對側上。流體通道還可以包括通過鑽取從圓柱形殼體的近端開始並且在主狹槽孔或第二狹槽孔中的一個處的相對的半球形衝擊表面中結束的孔形成的圓柱形子通道的每個。附圖說明下面的附圖示出了用於實施本發明的示例性實施方式。在附圖中，相同的附圖標記表示在本發明的不同視圖或實施方式中的相同的部件。圖1是根據本發明的流體噴嘴的雙重子室實施方式的前視圖。圖2是根據本發明的圖1中示出的實施方式的右側視圖。圖3是根據本發明的圖1-圖2中示出的實施方式的後視圖。圖4是根據本發明的如圖1中指出的圖1-圖3中示出的實施方式的豎直截面視圖。圖5是根據本發明的如圖2中指出的圖1-圖4中示出的實施方式的水平截面視圖。圖6是根據本發明的圖1-圖5中示出的實施方式的前視立體圖。圖7是根據本發明的圖1-圖6中示出的實施方式的後視立體圖。圖8A-圖8E分別是根據本發明的通過圖1-圖7中示出的流體噴嘴的實施方式實現的示例性峰值噴霧密度模式的後視立體圖、前視立體圖、後視圖、側視圖與前視圖。圖9是根據本發明的流體噴嘴的三重子室實施方式的前視圖。圖10是根據本發明的圖9中示出的實施方式的右側視圖。圖11是根據本發明的圖9-圖10中示出的實施方式的後視圖。圖12是根據本發明的如圖9中指出的圖9-圖11中示出的實施方式的豎直截面視圖。圖13是根據本發明的如圖10中指出的圖9-圖12中示出的實施方式的水平截面視圖。圖14是根據本發明的圖9-圖13中示出的實施方式的前視立體圖。圖15是根據本發明的圖9-圖14中示出的實施方式的後視立體圖。圖16A-圖16F分別是根據本發明的通過圖9-圖15中示出的流體噴嘴的實施方式實現的示例性峰值噴霧密度模式的旋轉的前視圖、俯視圖、前視立體圖、前視圖、側視圖與後視圖。圖17是根據本發明的流體噴嘴的三重室實施方式的前視圖。圖18是根據本發明的圖17中示出的實施方式的右側視圖。圖19是根據本發明的圖17-圖18中示出的實施方式的後視圖。圖20是根據本發明的如圖17中指出的圖17-圖19中示出的實施方式的豎直橫截面視圖。圖21是根據本發明的如圖18中指出的圖17-圖20中示出的實施方式的水平橫截面視圖。圖22是根據本發明的圖17-圖21中示出的實施方式的前視立體圖。圖23是根據本發明的圖17-圖22中示出的實施方式的後視立體圖。圖24A-圖24E分別是根據本發明的通過圖17-圖23中示出的流體噴嘴的實施方式實現的示例性峰值噴霧密度模式的前視立體圖、後視立體圖、前視圖、側視圖與後視圖。圖25是根據本發明的流體噴嘴的交叉狹槽、五重子室實施方式的前視圖。圖26是根據本發明的圖25中示出的實施方式的右側視圖。圖27是根據本發明的圖25-圖26中示出的實施方式的後視圖。圖28是根據本發明的如圖25中指出的圖25-圖27中示出的實施方式的豎直截面視圖。圖29是根據本發明的如圖26中指出的圖25-圖28中示出的實施方式的水平截面視圖。圖30是根據本發明的圖25-圖29中示出的實施方式的前視立體圖。圖31是根據本發明的圖25-圖30中示出的實施方式的後視立體圖。圖32A-圖24F分別是根據本發明的通過圖25-圖31中示出的流體噴嘴的實施方式實現的示例性峰值噴霧密度模式的前視立體圖、俯視圖、後視立體圖、前視圖、側視圖與後視圖。圖33是根據本發明的流體噴嘴的三重狹槽、五重子室實施方式的前視圖。圖34是根據本發明的圖33中示出的實施方式的右側視圖。圖35是根據本發明的圖33-圖34中示出的實施方式的後視圖。圖36是根據本發明的如圖33中指出的圖33-圖35中示出的實施方式的豎直截面視圖。圖37是根據本發明的如圖34中指出的圖33-圖36中示出的實施方式的水平截面視圖。圖38是根據本發明的圖33-圖37中示出的實施方式的前視立體圖。圖39是根據本發明的圖33-圖38中示出的實施方式的後視立體圖。圖40A-圖40F分別是根據本發明的通過圖33-圖39中示出的流體噴嘴的實施方式實現的示例性峰值噴霧密度模式的前視立體圖、俯視圖、後視立體圖、前視圖、側視圖與後視圖。圖41是根據本發明的流體噴嘴的單狹槽、五重子室、雙重扁平噴射實施方式的前視圖。圖42是根據本發明的圖41中示出的實施方式的右側視圖。圖43是根據本發明的圖41-圖42中示出的實施方式的後視圖。圖44是根據本發明的如圖41中指出的圖41-圖43中示出的實施方式的豎直截面視圖。圖45是根據本發明的如圖42中指出的圖41-圖44中示出的實施方式的水平截面視圖。圖46是根據本發明的圖41-圖45中示出的實施方式的前視立體圖。圖47是根據本發明的圖41-圖46中示出的實施方式的後視立體圖。圖48A-圖48F分別是根據本發明的通過圖41-圖47中示出的流體噴嘴的實施方式實現的示例性峰值噴霧密度模式的前視立體圖、俯視圖、後視立體圖、前視圖、側視圖與後視圖。圖49是根據本發明的流體噴嘴的單狹槽、五重子室、雙重扁平噴射實施方式的前視圖。圖50是根據本發明的圖49中示出的實施方式的右側視圖。圖51是根據本發明的圖49-圖50中示出的實施方式的後視圖。圖52是根據本發明的如圖49中指出的圖49-圖51中示出的實施方式的豎直截面視圖。圖53是根據本發明的如圖50中指出的圖49-圖52中示出的實施方式的水平截面視圖。圖54是根據本發明的圖49-圖53中示出的實施方式的前視立體圖。圖55是根據本發明的圖49-圖54中示出的實施方式的後視立體圖。圖56A-圖56F分別是根據本發明的通過圖49-圖55中示出的流體噴嘴的實施方式實現的示例性峰值噴霧密度模式的前視立體圖、俯視圖、後視立體圖、前視圖、側視圖與後視圖。圖57A-圖57E是根據本發明的模塊化噴嘴頭部的前視圖、仰視圖、左視圖、橫截面圖與立體圖。具體實施方式這裡公開了雙重矢量流體噴霧噴嘴的多個實施方式。新型噴嘴在其中期望將大量流體轉化為被霧化與噴射的任何應用中是有用的。此應用的非排它性列表可以包括：(1)將大量水轉換成微細霧化的水顆粒以便在具有或者沒有用於形成人造雪的成核顆粒的情況下投射到冷的大氣中，(2)將大量水轉換成細微霧化的水顆粒以便投射在燃燒物體上以便消防、控火控以及滅火，(3)將大體積水轉換成細微霧化的水顆粒以便投射在餐館露臺上的大氣中以用於蒸發冷卻，(4)將大量油轉化成細微霧化油霧以便噴灑在機械部件上以用於潤滑與腐蝕控制，以及(5)將大量溶劑轉化成細微霧化溶劑顆粒噴霧以便用於清洗任何類型的物體，(6)將大量塗料轉化成微細霧化塗料噴霧以便塗覆任何類型的物體。本領域普通技術人員並且鑑於此公開將會容易地理解用於這裡公開的噴嘴技術的大量可能的應用。此噴嘴技術到其它可能的、但未明確公開的應用的申請落入本發明及其權利要求的範圍與精神內。這裡公開的雙重矢量流體噴霧噴嘴的多個實施方式可以用於任何適當的噴嘴頭部、流體傳送裝置或固件。重要地，這裡公開的技術不限於此噴嘴頭部、流體傳送裝置、固件的類型或者甚至用於流體噴霧噴嘴的流體的類型。然而，一般來說，具有低粘度並且可以容易地形成微細霧化顆粒的流體大體上優選的是用於這裡公開的新型雙重矢量流體噴霧噴嘴的流體。這裡公開的雙重矢量流體噴霧噴嘴的示例性實施方式可以由任何適當材料形成，例如，但不限於鋁、不鏽鋼、鈦、黃銅或者可以如這裡公開地成形並且在不斷裂、彎曲或屈曲的情況下經受經過它們的進入埠、流體室與出口孔的高壓流體的任何其它硬質材料。首先將描述附圖中示出的雙重矢量流體噴霧噴嘴的示例性實施方式，跟隨以隨後描述的更一般的實施方式與變型。現在參照附圖的圖1-圖7，其示出了雙重子室流體噴嘴100的實施方式的多個視圖。從圖1-圖7可以看出，本質上，噴嘴100大體上是圓柱形。更具體地說，圖1是根據本發明的雙重子室流體噴嘴100的實施方式的前視圖。如圖1中所示，噴嘴100的面102的橫截面可以大體上是圓形的。然而，面102的其它橫截面變型是可預期的，例如並且不限於正方形、五邊形、六邊形、八邊形等。在從其固件或噴嘴頭部(例如，參見圖57A-圖57E的800)安裝以及移除噴嘴100的過程中，這些其它橫截面可以是特別有利的。例如，並且不限於正方形、六邊形與八邊形形狀的橫截面可以容易地與扳手或者用於從固件(未示出)安裝以及移除噴嘴100的其它工具匹配。圖1還示出了噴嘴100的面102中的狹槽孔104。圖2是根據本發明的圖1中示出的噴嘴100的實施方式的右側視圖。圖2示出了沿著噴嘴100的構造為與例如水噴嘴頭部(未示出)的適當固件中的開口或者插口(同樣未示出)配合的進入埠端部110定位的螺紋106。圖2還示出了圍繞噴嘴100周向地定位並且在面102與進入埠端部110之間定位的圓形密封凹槽108。圓形密封凹槽108構造為接收用於在噴嘴100和與噴嘴100配合的固件(未示出)之間形成不透水密封的O形環(未示出)。螺紋106定位在圓形密封凹槽108與進入埠端部110之間。圖3是根據本發明的圖1-圖2中示出的噴嘴100的實施方式的後視圖。從如圖3中所示的噴嘴100的後視圖，進入埠112的輪廓示出了被鑽孔到噴嘴100中兩個雙重子室114A和114B。可以通過從進入埠端部110沿著平行於圖2中以虛線示出的縱軸116的方向在噴嘴100中鑽孔並且在到達面102(圖1和圖2)以前結束來彼此平行地形成雙重子室114A和114B。雙重子室114A與114B中的每個都可以利用鄰近狹槽孔104形成半球形衝擊表面(如下所述在圖5中的附圖標記118處最佳示出)的半球形鑽孔工具形成。雙重子室114A和114B的交叉部是定位在雙重子室114A和114B之間的相對脊部120。圖4是根據本發明的圖1-圖3中示出的噴嘴100的實施方式的如圖1中指示的豎直截面圖。圖4示出了圖2中示出的螺紋106與圓形密封凹槽108。圖4還示出了圖3中示出的相對脊部120之間的間隙122，該間隙122例如通過利用而非用於形成雙重子室114A和114B的小徑鑽孔工具(鑽頭)沿著縱軸116移除或鑽孔形成。間隙122在入口埠端部110處開始並且在到達面102以前在狹槽孔104處結束。流體室114包括雙重子室114A和114B的組合。圖5是根據本發明的圖1-圖4中示出的噴嘴100的實施方式的如圖2中指示的水平截面視圖。圖5示出了大體上圓柱形形狀的雙重子室114A和114B以及鄰近狹槽孔104的雙重子室114A和114B的半球形衝擊表面118。圖5還示出了噴嘴100的螺紋106與圓形密封凹槽108。圖6是根據本發明的圖1-圖5中示出的噴嘴100的實施方式的前視立體圖。在圖6中示出了噴嘴100的面102、狹槽孔104、圓形密封凹槽108、螺紋106與進入埠端部110。圖7是根據本發明的圖1-圖6中示出的噴嘴100的實施方式的後視立體圖。在圖7中還示出了噴嘴100的在進入埠端部110中形成的入口埠112、在雙重子室114A和114B之間的相對脊部120、螺紋106、圓形密封凹槽108與面102。噴嘴100的操作與流體流動如下所述：加壓流體從已經經由螺紋106與噴嘴100匹配的固件或噴嘴頭部(未示出)進入進入埠112中。進入進入埠112的流體然後朝向半球形衝擊表面118穿過雙重子室114A和114B，其中流體的層流在隨著作為霧或雲的霧化流體顆粒以高速離開以前被迫使從狹槽孔104的上面與下面衝擊。雙重子室114A與114B中的每個都獨立地並且沿著狹槽孔104的平面產生扁平噴射噴霧模式。然而，此雙重子室噴嘴100構造的特別新穎與獨特特徵是兩個獨立的扁平噴射流體噴霧的相互作用，該兩個流體噴霧在狹槽孔104的外部相對彼此衝擊並且產生除了水平分量以外的噴霧模式的豎直分量，兩分量的組合在這裡稱作為「雙重矢量」噴霧模式。在圖8A-圖8E中示出了此雙重矢量噴霧模式。更具體地說，圖8A-圖8E分別是根據本發明的通過圖1-圖7中示出的雙重子室流體噴嘴100的實施方式實現的示例性合成峰值噴霧密度模式150的後視立體圖、前視立體圖、後視圖、側視圖與前視圖。如上面指出的，雙重子室114A和114B的每個都在含有狹槽孔104的平面中產生水平流體噴霧模式152。然而，彼此鄰近的兩個獨立扁平噴射流體噴霧在狹槽孔104的外部相對彼此衝擊，該兩個流體噴霧的相互作用形成豎直分量或豎直流體噴射模式204。水平152與豎直154噴霧模式的組合在這裡稱為「雙重矢量」噴霧模式，在本領域中它被認為是獨特且非顯而易見的。一般來說，這裡公開的雙重矢量流體噴嘴，例如噴嘴100，具有示例性合成峰值噴霧密度模式150，其包括沿著遠離出口孔的方向徑向地偏離的水平152與豎直154噴霧模式。這裡的峰值噴霧密度模式全部在離開狹槽孔後示出為被截斷以便示出水平與豎直(垂直)的雙重矢量峰值密度噴霧模式。應該理解的是，噴霧模式將最終地分布到大氣中並且越遠離出口孔形成越多的任意的雲或霧模式。這是因為雙重矢量峰值密度噴霧模式將最終地通過周圍環境的空氣湍流、相對周圍環境空氣微粒或其它物體的摩擦起作用，或者通過可以在離開噴嘴以後作用在流體噴射上的其它力幹擾。儘管這裡使用術語水平與豎直，但是對於本技術領域技術人員來說，水平噴霧模式152可以說，豎直噴霧模式154不必要與重力豎直相一致。水平152與豎直154噴霧模式之間的關鍵關係是它們的峰值噴霧密度如圖8A-圖8E中示出的彼此垂直定向。現在將參照圖9-圖15，描述三重子室流體噴嘴200的實施方式。從圖9-圖15可以看出，本質上，噴嘴200大體上是圓柱形。更具體地說，圖9是根據本發明的流體噴嘴300的三重子室實施方式的前視圖。如圖9中所示，噴嘴200的面202的橫截面可以大體上是圓形的。然而，面202(與上述面102類似)的其它橫截面變型是可預期的，例如並且不限於正方形、五邊形、六邊形、八邊形等，並且被認為在本發明的範圍內。在從其固件安裝與移除噴嘴100過程中，這些其它橫截面可以是尤其有用的。例如，在面202處或者周向地定位在面202與圓形密封凹槽208之間任何地方的正方形、六邊形與八邊形形狀的橫截面可以容易地與扳手或者用於從固件(未示出)安裝以及移除噴嘴100的其它工具匹配。這裡有意地未示出這些其它橫截面以簡化多個附圖。圖9進一步示出了在噴嘴200的面202中的狹槽孔204與銷釘轉動孔224。根據一個實施方式，圖9、圖12和圖14中示出的銷釘轉動孔224可以用於銷釘轉動扳手或者其它類似工具以從利用螺紋206與噴嘴匹配的噴嘴頭部或者其它固件安裝或移除噴嘴200。圖10是根據本發明的圖9中示出的流體噴嘴200的實施方式的右側視圖。圖10示出了沿著噴嘴200的構造為與例如水噴嘴頭部(未示出)的適當固件中的開口或者插口(同樣未示出)配合的進入埠端部210定位的螺紋206。圖10還示出了圍繞噴嘴200周向地定位並且在面202與進入埠端部210之間定位的圓形密封凹槽208。圓形密封凹槽208構造為接收用於在噴嘴200和利用螺紋206與噴嘴200配合的固件(未示出)之間形成不透水密封的O形環(未示出)。根據示出的實施方式，螺紋206可以定位在圓形密封凹槽108與進入埠端部110之間。圖11是根據本發明的圖9-圖10中示出的噴嘴200的實施方式的後視圖。通過如圖11中所示的噴嘴200的後視圖，進入埠212的輪廓示出了可以從進入埠端部210被鑽孔到噴嘴200中的三個子室214A-C。可以通過從進入埠端部210沿著平行於圖10中以虛線示出的縱軸216的方向在噴嘴100中鑽孔並且在到達面202(例如參見圖9-圖10以及圖12-圖13)以前結束來彼此平行地形成三重子室214A-C。三重子室214A-C中的每個都可以利用鄰近狹槽孔204形成半球形衝擊表面(如下所述在圖12-圖13中的附圖標記218處最佳示出)的半球形鑽孔工具(鑽頭)形成。三重子室214A-C的相鄰交叉部是定位在三重子室214A-C之間的相對脊部220(兩對)。圖12是根據本發明的圖9-圖11中示出的噴嘴200的實施方式的如圖9中指示的豎直截面圖。圖12示出了螺紋206並且在圖10和圖13-圖15中還示出了圓形密封凹槽208。圖12還示出了圖11和圖15中示出的相對脊部220之間的間隙222。間隙222在進入埠端部210處開始並且在到達面202以前在狹槽孔204處結束。大體上在箭頭214處示出的流體室，包括全部三個三重子室214A-C的組合。圖13是根據本發明的圖9-圖-12中示出的噴嘴200的實施方式的如圖10指示的水平截面圖。圖13示出了大體上細長的圓柱形形狀的三重子室214A-C以及鄰近狹槽孔204的三重子室214A-C的半球形衝擊表面218。相對脊部220在圖13中呈現為縱向地延伸的線。圖13還示出了噴嘴200的螺紋206與圓形密封凹槽208。圖14是根據本發明的圖9-圖13中示出的噴嘴200的實施方式的前視立體圖。在圖14中示出了噴嘴200的面202、狹槽孔204、銷釘轉動孔224(示出兩個)、圓形密封凹槽208、螺紋206與進入埠端部210。圖15是根據本發明的圖9-圖14中示出的噴嘴200的實施方式的後視立體圖。在圖15中還示出了噴嘴200的形成在進入埠端部210中的進入埠212、在三重子室214A-C之間的相對脊部220、螺紋206、圓形密封凹槽208與面202。圖16A-圖16F分別是根據本發明的通過圖9-圖15中示出的流體噴嘴200的實施方式實現的示例性合成峰值噴霧密度模式250的旋轉前視圖、俯視圖、前視立體圖、前視圖、側視圖與後視圖。三重子室214A-C中的每個都將大體上在包括狹槽孔204的平面中以水平噴霧模式252產生從狹槽孔204離開的獨立的扁平噴射噴霧模式。這裡公開的雙重矢量噴嘴的實施方式的進一步地與獨特地，由這些水平定向的噴霧模式152的相互交叉造成的幹涉將產生豎直定向的噴霧模式254。再次，術語水平與豎直不是必要地表示重力水平與豎直，而僅僅是相對於彼此垂直。這裡使用的命名慣例是使術語「水平」與包括狹槽孔204的平面相關並且使「豎直」與垂直通常垂直於包括狹槽孔203的平面的噴霧密度相關。應該理解的是，出於任何適當的目的，這裡公開的噴嘴可以沿著任何適當的方向定向。相應地，圖16A-F示出了大體上以箭頭250示出並且通過包括水平噴霧模式252與兩個豎直噴霧模式254的噴嘴200產生的示例性合成雙重矢量噴霧模式。應該指出的是，豎直噴霧模式254大體上垂直於水平噴霧模式252定向。兩個豎直噴霧模式254的每個的原點都與來自相鄰子室214A-C的扁平噴射噴霧模式的交叉點相應。兩個豎直噴霧模式254還可以大致與形成在大體上以在圖12與圖16F中的箭頭214示出的包括全部三個子室214A-C的流體室內的兩對相對的脊部220相應。現在參照圖17-圖23，在不同的附圖中示出了三重室流體噴嘴300的實施方式。噴嘴300共用參照上面噴嘴200示出與描述的三重子室流體室214結構。然而，噴嘴300還包括兩個另外的三重子室流體室314，一個在流體室上方豎直地移動並且一個在流體室214下方豎直地移動，並且每個流體室314都具有比流體室214更小的尺寸。由於流體室214與314大體上具有與噴嘴200的流體室214相同的結構與操作，因此下面關於噴嘴300的談論的重點將在相對於上面公開的噴嘴100和200的結構與形成的流體噴霧模式的區別性新特徵或區別上。圖17是根據本發明的三重室流體噴嘴300的實施方式的前視圖。如在圖17中所示，面302包括主狹槽孔204和沿著指示用於圖20中的橫截面視圖的虛線在主狹槽孔204上方與下方豎直地移動的兩個較小狹槽孔304。應該指出的是，與噴嘴200不同，沒有銷釘轉動孔224形成在噴嘴300的面302中，因為那是較小狹槽孔304存在的地方。圖18是根據本發明的圖17中示出的噴嘴300的實施方式的右側視圖。與其它噴嘴實施方式類似，噴嘴300可以包括螺紋306與定位在面302與噴嘴300的進入埠端部310之間的圓形密封凹槽308。圖18中噴嘴300的視圖與圖10中噴嘴200的視圖基本上相同。圖19是根據本發明的圖17-圖18中示出的噴嘴300的實施方式的後視圖。圖19清晰地示出了三個獨立的流體室，即中間流體室214與豎直地布置的較小的流體室314，每個都具有其相應的狹槽孔204和304。因此，噴嘴300可能能夠利用固件中的適當的閥(未示出)獨立地驅動三個流體室214和314中的每個，噴嘴300通過螺紋306固定到固件。圖20是根據本發明的圖17-圖19中示出的噴嘴300的實施方式的如圖17中指示的豎直截面圖。圖20示出了在橫截面中的三個流體室214(一個主流體室)與314(兩個較小的流體室)的每一個。三個流體室214(一個主流體室)與314(兩個較小流體室)中的每個都構造為接收在各相應的進入埠212和312處的進入埠端部310處的加壓流體。在操作中，可以將加壓流體驅動通過三個流體室214(一個主流體室)與314(兩個較小流體室)中的每個直到流體的層流在離開相應狹槽孔204和304(兩個較小的狹槽孔)以前被迫使在半球形衝擊表面218和318(與較小的流體室314相關的兩個較小的衝擊表面)處衝擊。圖21是根據本發明的圖17-圖20中示出的噴嘴300的實施方式的如圖18中指示的水平截面視圖。應該指出的是，圖21中示出的噴嘴300的視圖與圖13中示出的噴嘴200的視圖基本上相同，因為它們兩者都是相同的三重子室流體室214的截面圖。圖22是根據本發明的圖17-圖21中示出的噴嘴300的實施方式的前視立體圖。在圖22中示出了噴嘴300的面302、主狹槽孔204、兩個較小的狹槽孔304、圓形密封凹槽308、螺紋306與進入埠端部310。圖23是根據本發明的圖17-圖22中示出的噴嘴300的實施方式的後視立體圖。形成在進入埠端部310中的進入埠212和主流體室214與圖15中示出的進入埠和流體室基本上相同。在圖23中還示出了具有形成在進入埠端部310中的較小的進入埠312中的兩個較小的流體室314，以及螺紋306與圓形密封(O形環)凹槽308。圖24A-圖24E分別是根據本發明的通過圖17-圖23中示出的流體噴嘴300的實施方式實現的示例性合成峰值噴霧密度模式350的前視立體圖、後視立體圖、前視圖、側視圖與後視圖。圖24A-圖24E中示出的此合成峰值噴霧密度模式350包括源於兩個較小狹槽孔304的每個的噴霧模式的假設，其具有顯示為在圖16A-圖16F中示出的主孔204的噴霧模式。流體室214(主室)與314(兩個較小室)中的每個都將產生具有兩個豎直噴霧模式的單個水平噴霧。更具體地說，由於與較小狹槽孔相關的較小几何形狀，兩個較小狹槽孔304的豎直分量將沿著在由主狹槽孔204產生的兩個豎直平面254的內側的相同的兩個豎直平面354。應該指出，水平分量252(與主狹槽孔204相關的一個)與352(兩個，每一個都與各較小狹槽孔相關)全都沿著含有它們相應狹槽孔204和304的平面。通過比較由噴嘴200產生的噴霧模式(圖16A-圖16F)與由噴嘴300產生的噴霧模式(圖24A-圖24E)，增強的流體噴射密度通過多個流體室與狹槽孔視覺上變得顯而易見。因此，關於由不同噴嘴構造形成的噴霧模式的知識可以構造為產生實際上不受限的流體峰值密度噴霧模式。下面示出並且描述了其它的此種組合與構造。例如，假設一個以噴嘴200的三重子室流體室214開始並且疊加關於縱軸216旋轉90°的相同的三重子室流體室214。形成的流體室414可以包括如圖25-圖31中所示並且如下面進一步描述的根據本發明的具有交叉狹槽出口孔的流體噴嘴的五重子室實施方式。圖25是根據本發明的流體噴嘴400的此交叉狹槽、五重子室實施方式的前視圖。更具體地說，圖25示出了噴嘴400的面402中的交叉狹槽孔404的實施方式。圖26是根據本發明的圖25中示出的噴嘴400的實施方式的右側視圖。更具體地說，圖26示出了定位在圓形密封凹槽408與進入埠端部410(相對面402)之間的螺紋406。凹槽408構造為接收O形環(未示出)以用於利用螺紋406將噴嘴400密封到固件(未示出)。在圖26中以虛線示出的縱軸416也是下面描述的用於圖29的截面視圖線。圖27是根據本發明的圖25-圖26中示出的噴嘴400的實施方式的後視圖。更具體地說，圖27示出了四葉式交叉進入埠412的實施方式，其引導到包括五個子室414A-E的四葉式交叉橫截面流體室414中，然後引導到半球形衝擊表面418(五個較小的圓形物體)，半球形衝擊表面迫使來自流體室414的內表面的層流流體流動以在交叉狹槽孔404處作為霧化流體顆粒離開以前相對彼此衝擊。應該指出的是，在將四個外部子室414A-D分開的四葉式交叉構造的每個「葉」之間都具有四個脊部420。圖28是根據本發明的圖25-圖27中示出的噴嘴400的實施方式的如圖25中指示的豎直截面圖。更具體地說，圖28從進入埠端部410朝向面402示出了下面的特徵：進入埠412、通過脊部420分開、引導到鄰近交叉狹槽出口孔404的半球形衝擊表面418的兩個子室414A和414C。圖28還在橫截面中示出了螺紋406與凹槽408。圖29是根據本發明的圖25-圖28中示出的噴嘴400的實施方式的如圖26中指示的水平截面視圖。圖29中示出的橫截面視圖與圖28的橫截面視圖看起來基本上相同。這是因為關於縱軸416(圖26)的對稱。更具體地說，圖29示出了兩個不同的子室，即通過脊部420分離的子室414B和414D。圖30是根據本發明的圖25-圖29中示出的噴嘴400的實施方式的前視立體圖。更具體地說，圖30示出了在面402上的交叉狹槽孔404、定位在凹槽408與進入埠端部410之間的螺紋406。圖31是根據本發明的圖25-圖30中示出的噴嘴400的實施方式的後視立體圖。更具體地說，圖31示出了定位在圓形密封凹槽408與進入埠端部410之間的螺紋406、進入埠412、具有五個子室414A-E與四個脊部420的四葉式交叉橫截面的流體室414。圖32A-圖24F分別是根據本發明的通過圖25-圖31中示出的流體噴嘴400的實施方式實現的示例性合成峰值噴霧密度模式450的前視立體圖、俯視圖、後視立體圖、前視圖、側視圖與後視圖。合成峰值噴霧密度模式450的特徵在於三個水平噴霧模式452與三個豎直噴霧模式454，其沿著水平方向與豎直方向大體上是均勻的。圖33-圖39示出了根據本發明的三重狹槽、五重子室流體噴嘴500的又一個實施方式。噴嘴500利用上述的噴嘴400的四葉式交叉橫截面的流體室(參見414)構造，但是具有與噴嘴300類似的三重狹槽出口孔構造。更具體地說，圖33是根據本發明的流體噴嘴500的三重狹槽、五重子室實施方式的前視圖。圖33示出了形成在面502中的主狹槽孔504A與主狹槽孔504A與兩個豎直偏移的較小的狹槽孔504B。圖34是根據本發明的圖33中示出的噴嘴500的實施方式的右側視圖。更具體地說，圖34示出了定位在圓形密封凹槽508與進入埠端部510(相對面502)之間的螺紋506。凹槽508構造為接收O形環(未示出)以用於利用螺紋506將噴嘴500密封到固件(未示出)。在圖34中以虛線示出的縱軸516也是下面進一步詳細描述的用於圖37的截面視圖線。圖35是根據本發明的圖33-圖34中示出的噴嘴500的實施方式的後視圖。更具體地說，圖35以引導到半球形衝擊表面518的四葉式橫截面構造示出了引導到包括中間子室514E與四個子室514A-D的四葉式橫截面流體室514的四葉式進入埠512。四個子室514A-D通過脊部520分割。從固件(未示出)流動到進入埠512中並且進入室514中的加壓流體在作為霧化流體顆粒離開主狹槽孔504A與兩個較小狹槽孔504B以前，沿著半球形衝擊表面518衝擊。圖36是根據本發明的圖33-圖35中示出的噴嘴500的實施方式的如圖33中指示的豎直截面圖。更具體地說，圖36示出了在橫截面中通過噴嘴500中的脊部520分割的兩個子室514A和514B。圖36還示出了鄰近主狹槽孔504A與兩個較小狹槽孔504B的半球形衝擊表面518。圖37是根據本發明的如圖34中指出的圖33-圖36中示出的噴嘴500的實施方式的水平截面視圖。更具體地說，圖37示出了在橫截面中通過脊部520分割的兩個子室514A和514C。圖37示出了鄰近主狹槽孔504A的半球形衝擊表面518。圖38是根據本發明的圖33-圖37中示出的噴嘴500的實施方式的前視立體圖。更具體地說，圖38示出了布置在面502中的主狹槽孔504A與兩個較小的狹槽孔504B，在噴嘴實施方式500的O形環凹槽508與進入埠端部510之間具有螺紋506。圖39是根據本發明的圖33-圖38中示出的噴嘴500的實施方式的後視立體圖。更具體地說，圖39示出了引導到噴嘴實施方式500的四葉式交叉橫截面流體室514中的四葉式交叉橫截面進入埠512。圖39還示出了子室514A-D之間的脊部。最後地，圖39示出了鄰近噴嘴實施方式500的O形環凹槽508的螺紋506。圖40A-圖40F分別是根據本發明的通過圖33-圖39中示出的流體噴嘴500的實施方式實現的示例性雙重矢量合成峰值噴霧密度模式500(下文"合成噴霧模式550")的前視立體圖、俯視圖、後視立體圖、前視圖、側視圖與後視圖。通過噴嘴實施方式500生產的合成雙重矢量流體噴霧模式550包括三個緊密隔開的水平峰值噴霧模式552，每個都與三個狹槽孔504A和504B中的一個對應。合成噴霧模式550還包括兩個豎直定向的峰值噴霧模式554。合成噴霧模式550的特徵在於雙重矢量噴霧模式，其沿著包括水平峰值噴霧模式552的緊密布置的平面具有特別高的密度。應該理解的是，這裡公開的新型噴嘴的結構中的其它變型可以用於成形合成複合流體噴霧模式。例如，通過對相對孔邊緣倒角，或者使用扁平橢圓形橫截面孔，或者可以利用二者來實現霧化流體的扁平噴射。圖41-圖47示出了根據本發明的具有這些類型的結構增強，即流體噴嘴600的單狹槽、五重子室、雙重扁平噴射實施方式的特定實施方式。圖41是根據本發明的流體噴嘴600的單狹槽、五重子室、雙重扁平噴射實施方式的前視圖。圖41示出了布置在噴嘴600的面602中的狹槽孔604A與兩個扁平橢圓形橫截面孔604B。應該指出的是，兩個橢圓形孔604B的相對邊緣沿著噴嘴實施方式600的面602倒角626。圖42是根據本發明的圖41中示出的實施方式的右側視圖。更具體地說，圖42示出了形成在面602中的倒角626、圓形密封(O形環)凹槽608、螺紋606與進入埠端部610。如虛線616所示的縱軸穿過噴嘴600的圓柱體軸並且還是用於圖45中示出的截面的切割線。圖43是根據本發明的圖41-圖42中示出的實施方式的後視圖。更具體地說，圖43示出了四葉式交叉橫截面進入埠612與流體室614。四葉式交叉橫截面流體室614具有五重子室614A-E構造。子室614A-D被脊部620分割。朝向面602端部，具有鄰近狹槽孔604A與兩個扁平橢圓形橫截面孔604B的半球形衝擊表面618。圖44是根據本發明的如圖41中指出的圖41-圖43中示出的實施方式的豎直截面視圖。更具體地說，圖44示出了通過噴嘴實施方式600的脊部620分開的流體室614與子室614A和614C的橫截面。在噴嘴實施方式600的面602處，倒角626示出為切入到與子室614A和614C相關的半球形衝擊表面618中。圖44還示出了噴嘴實施方式600的狹槽孔604A、螺紋606與圓形密封(O形環)凹槽608的橫截面。圖45是根據本發明的圖41-圖44中示出的實施方式的如圖42中指示的水平截面視圖。更具體地說，圖45示出了通過噴嘴實施方式600的脊部620分開的兩個子室614B和614D。半球形衝擊表面618鄰近噴嘴實施方式600的面602上的狹槽孔604A。圖45還示出了噴嘴實施方式600的螺紋606與圓形密封(O形環)凹槽608。圖46是根據本發明的圖41-圖45中示出的實施方式的前視立體圖。更具體地說，圖46示出了切入面602中的倒角626以及扁平橢圓形橫截面孔604B以及狹槽孔604A。圖46還示出了噴嘴實施方式600的螺紋606與圓形密封(O形環)凹槽608。圖47是根據本發明的圖41-圖46中示出的實施方式的後視立體圖。更具體地說，圖47示出了布置在噴嘴實施方式600的進入埠端部610中的四葉式交叉橫截面進入埠612與流體室614。圖47還示出了面602中的倒角626以及噴嘴實施方式600的圓形密封(O形環)凹槽608。圖48A-圖48F分別是根據本發明的通過圖41-圖47中示出的流體噴嘴600的實施方式實現的示例性合成峰值噴霧密度模式650的前視立體圖、俯視圖、後視立體圖、前視圖、側視圖與後視圖。由噴嘴實施方式600產生的合成噴霧峰值密度噴霧模式650的特徵在於三個水平峰值噴霧模式652，其具有與水平模式652垂直地橫切的兩個豎直峰值噴霧模式654。因此，並且如在圖48A-圖48F中所示，合成峰值噴霧密度噴霧模式650大體上與源於孔604A和604B的三個扁平噴射的平面水平。可以通過採用噴嘴200的基本結構並且在面702中形成切入到半球形衝擊表面718中的倒角726由此形成三個扁平橢圓形橫截面孔704，而非形成狹槽孔204，來形成噴嘴700的又一個實施方式。如圖49-圖55中所示的噴嘴700的此實施方式可以或可以不包括根據本發明的兩個實施方式的銷釘轉動孔224(圖9、圖12和圖14)。然而，為了簡單說明起見，下面描述以及在圖49-圖55中示出的噴嘴700的實施方式不包括此銷釘轉動孔224(圖9、圖12和圖14)。更具體地說，圖49是根據本發明的流體噴嘴700的三重子室、三重扁平噴射實施方式的前視圖。圖49示出了布置在面702中的切入半球形衝擊表面718(參見圖52-圖53)的倒角726，由此形成三個扁平橢圓形橫截面孔704。圖50是根據本發明的圖49中示出的流體噴嘴700的實施方式的右側視圖。圖50示出了在噴嘴實施方式700的面702中的倒角726。圖50還示出了縱軸716(還代表圖53中的剖面線的虛線)、定位在噴嘴實施方式700的圓形密封(O形環)凹槽708與進入埠端部710之間的螺紋706。圖51是根據本發明的圖49-圖50中示出的流體噴嘴700的實施方式的後視圖。圖51示出了如從進入埠端部710觀察的流體室714的進入埠712。流體室714包括通過脊部720分開的引導到鄰近噴嘴實施方式700的三個扁平橢圓形橫截面穿孔704的半球形衝擊表面718的三個子室714A-C。圖52是根據本發明的圖49-圖51中示出的流體噴嘴700的實施方式的如圖49中指示的豎直截面視圖。更具體地說，圖52示出了在進入埠端部710處的進入埠712的橫截面，進入埠712引導到流體室714的子室714B，子室714B繼而引導到鄰近在噴嘴實施方式700的倒角726處的扁平橢圓形橫截面孔704的半球形衝擊表面718。在圖52中還示出了螺紋706與圓形密封(O形環)凹槽708的橫截面。圖53是根據本發明的圖49-圖52中示出的流體噴嘴700的實施方式的如圖50中指示的水平截面視圖。更具體地說，圖53示出了在進入埠端部710處的進入埠712的橫截面，進入埠712引導到流體室714的全部三個子室714A-C，子室714A-C繼而引導到鄰近噴嘴實施方式700的倒角726處的半球形衝擊表面718。在圖53中還示出了螺紋706與圓形密封(O形環)凹槽708的橫截面。圖54是根據本發明的圖49-圖53中示出的流體噴嘴700的實施方式的前視立體圖。更具體地說，圖54示出了布置在噴嘴實施方式700的面702中的倒角726的底部處的三個扁平橢圓形橫截面孔704。圖54還示出了定位在噴嘴實施方式700的圓形密封(O形環)凹槽708與進入埠端部710之間的螺紋706。圖55是根據本發明的圖49-圖54中示出的流體噴嘴700的實施方式的後視立體圖。更具體地說，圖55示出了由全部三個子室714A-C組成的流體室714的進入埠712，進入埠712形成在噴嘴實施方式700的進入埠端部710中。圖55還示出了定位在面702中的倒角726以及定位在噴嘴實施方式700的圓形密封(O形環)凹槽708與進入埠端部710之間的螺紋706。圖56A-圖56F分別是根據本發明的通過圖49-圖55中示出的流體噴嘴700的實施方式實現的示例性合成峰值噴霧密度模式750的前視立體圖、俯視圖、後視立體圖、前視圖、側視圖與後視圖。合成模式750是雙重矢量的、但是沒有清晰可辨識的水平與豎直峰值密度。圖57A-圖57E是根據本發明的模塊化噴嘴頭部800的前視圖、仰視圖、左視圖、橫截面圖與立體圖。模塊化噴嘴頭部800的實施方式可以構造為接收這裡公開的任何數量的模塊化雙重矢量流體噴嘴100、200、300、400、500、600和700。在圖57A-圖57E中示出的特定實施方式中，噴嘴實施方式600中的五個示出為安裝在頭部800的面802中。應該指出的是，噴嘴600的旋轉定向可以以任何適當的定向。參見圖57D，還應該指出的是，面802在橫截面中可以是直線的、弓形的、彎曲的或者分段曲線的。應該理解的是，這裡描述的每個縱軸116、216、316、416、516、616和716還可以是流體通道軸或子通道軸以及由其形成特定噴嘴的圓柱形殼體的軸。儘管術語「縱軸」已經在這裡被廣泛地使用，但是應該理解的是，因為子通道大體是圓柱形開口，這裡描述的子通道中的每個都可以具有其自身子通道軸。還應該理解的是，術語「進入埠端部」可以與術語「近端」同義。類似地，術語「面」可以與術語「遠端」同義。應該進一步理解的是，在這裡附圖中示出的噴嘴100、200、300、400、500、600和700中的每個都包括圓柱形殼體，新型及非顯而易見特徵圍繞圓柱形殼體形成在上面或內部，可以使用與本公開的教導一致的其它適當殼體形狀。已經描述了附圖中示出的噴嘴的實施方式以及它們特定的結構、變型與利用特定術語形成的噴霧模式，現在將要公開雙重矢量流體噴霧噴嘴的其它實施方式。下面的實施方式可以或者可以不精確地與示出的實施方式相應，但是將具有基於如這裡提供的附圖的描述非常顯而易見的結構與特徵。公開了流體噴嘴的實施方式。流體噴嘴可以包括一體的圓柱形殼體，圓柱形殼體進一步包括具有從近端上的流體進入埠到遠端處的孔穿過圓柱形殼體共軸地布置的流體通道軸或縱軸的流體通道。根據流體噴嘴的一個實施方式，孔可以是狹槽孔。根據流體噴嘴的實施方式，流體通道還可以包括多個圓柱形子通道，多個子通道中的每個都具有平行於從進入埠開始並且穿過狹槽孔的流體通道軸的子通道軸。根據流體噴嘴的另一個實施方式，圓柱形子通道中的每個都可以由從圓柱形殼體的近端或者進入埠端部開始並且在狹槽孔處的相對的半球形衝擊表面中結束的鑽孔來形成。根據另一個流體噴嘴實施方式，一體的圓柱形殼體還可以包括沿著鄰近近端的外表面的外螺紋，螺紋構造為將所述流體噴嘴安裝到流體噴霧系統、固件或者噴嘴頭部(參見，例如圖57A-圖57E中800)。螺紋可以構造為與流體噴霧系統或固件頭部中的螺紋配合，由此允許噴嘴是可移除的以便維修與替換。這裡公開的流體噴嘴的一個特別有用的特徵是它們是模塊化的並且例如可以通過噴嘴100、200、300、400、500、600和700的相同或不同構造替換。根據又一個流體噴嘴實施方式，一體的圓柱形殼體還可以包括在近端與遠端或面之間的位置處形成在圓柱形殼體內的圓周或圓形密封凹槽，凹槽適於接收O形環以用於密封螺紋。根據又一個流體噴嘴實施方式，一體的圓柱形殼體還可以包括用於將旋轉轉矩施加到流體噴嘴以從流體噴霧系統頭部安裝或者移除流體噴嘴的裝置。根據一個此裝置實施方式，銷釘轉動孔(圖9、圖12和圖14中224)可以形成在噴嘴殼體的面或遠端中以用於與銷釘轉動扳手配合。因此，根據用於施加旋轉轉矩的此特定裝置，可以在圓柱形殼體的遠端中形成兩個孔，銷釘孔構造為接收來自轉動扳手的銷釘。根據其它裝置實施方式，圓柱形殼體的遠端或本體可以成形為接收正方形插口、六邊形插口、八邊形插口或轉動扳手。根據一個流體噴嘴實施方式，多個子通道可以是兩個子通道。根據另一個流體噴嘴實施方式，多個子通道包括三個子通道。根據又一個流體噴嘴實施方式，三個子通道的子通道軸可以全部落入單個平面中。根據再一個流體噴嘴實施方式，在近端處的進入埠的橫截面可以包括多個圓形開口，多個圓形開口中的每個都與相鄰圓形開口接觸並且每個圓形開口都圍繞通過沿著流體通道軸從遠端到近端穿過狹槽孔形成的體積的一部分。換句話說，此實施方式暗示進入埠的橫截面與流體通道的橫截面相同。根據一個流體噴嘴實施方式，形成在近端或進入埠端部中的多個圓形開口的每個都與噴嘴流體室的多個子通道中的一個相應。根據一個流體噴嘴實施方式，通過進入進入埠與離開流體噴嘴的孔的加壓流體產生的噴霧模式形成流體蒸汽羽狀物，流體蒸汽羽狀物具有沿著由狹槽孔與流體通道軸形成的平面徑向地離開的水平定向的主羽狀物，並且具有離開相對於主羽狀物垂直地定向的平面中的狹槽孔的多個豎直定向的羽狀物。根據特定的流體噴嘴實施方式，通過相鄰子通道的交叉形成多個豎直定向羽狀物中的每個。根據又一個流體噴嘴實施方式，豎直羽狀物或水平羽狀物中的每個都是沿著出口軌道平面的峰值流體蒸汽密度。根據還一個實施方式，流體噴嘴還可以包括至少一個第二流體通道，第二流體通道可以形成在圓柱形殼體中並且與流體通道隔開並且平行於流體通道。根據流體噴嘴的一個實施方式，第二流體通道還包括多個第二圓柱形子通道，多個第二圓柱形子通道中的每個都具有從形成在近端的第二進入埠開始並且穿過形成在遠端中的第二狹槽孔平行於流體通道軸布置的第二子通道軸。根據流體噴嘴的另一個實施方式，第二圓柱形子通道中的每個都可以由從圓柱形殼體的近端開始並且在第二狹槽孔處的相對的半球形衝擊表面中結束的第二鑽孔形成。根據流體噴嘴的另一個實施方式，第二鑽孔直徑小於形成流體通道的圓柱形子通道的鑽孔直徑。應該理解的是，可以根據這裡公開的噴嘴的不同實施方式改變流體通道的大小。根據流體噴嘴的一個實施方式，至少一個第二流體通道可以包括兩個第二流體通道，每個第二流體通道都可以平行於流體通道布置，但是在流體通道的相對側上。例如並且不限於參見圖17-圖23中的噴嘴300。根據流體噴嘴的另一個實施方式，其中通過進入進入埠並離開流體噴嘴的孔的加壓流體產生的合成流體噴霧模式形成流體蒸汽羽狀物，流體蒸汽羽狀物具有沿著由狹槽孔與流體通道軸形成的平面徑向地離開的水平定向的主羽狀物，兩個水平定向的第二羽狀物，每個都沿著由相應的第二狹槽孔與相關的第二流體子通道的通道軸形成的平面徑向地離開；並且具有離開狹槽孔與第二狹槽孔的多個豎直定向的羽狀物，每個豎直定向的羽狀物都布置在相對於主羽狀物豎直地定向的平面中。公開了流體噴嘴的另一個實施方式。流體噴嘴的實施方式可以包括一體的圓柱形殼體，圓柱形殼體包括布置在其中的具有從近端上的流體進入埠到遠端處的交叉狹槽孔穿過圓柱形殼體共軸地布置的流體通道軸的流體通道。根據流體噴嘴的又一個實施方式，流體通道還可以包括多個圓柱形子通道，多個子通道中的每個都具有平行於從進入埠開始並且穿過交叉狹槽孔的流體通道軸的子通道軸。根據流體噴嘴的又一個實施方式，圓柱形子通道中的每個都可以由從圓柱形殼體的近端開始並且在交叉狹槽孔處的相對的半球形衝擊表面中結束的鑽孔來形成。根據流體噴嘴的一個實施方式，多個圓柱形子通道可以包括中心圓柱形子通道與四個正交子通道，中心圓柱形子通道共用居中在交叉狹槽孔上的流體通道軸，四個正交子通道中的每個都具有落在交叉狹槽孔的臂上的軸。一個此實施方式是在圖25-圖31中示出的噴嘴400。根據流體噴嘴的另一個實施方式，一體的圓柱形殼體還可以包括沿著鄰近近端的外表面的外螺紋，此螺紋構造為將流體噴嘴安裝到流體噴霧系統頭部或固件。根據流體噴嘴的又一個實施方式，一體的圓柱形殼體還包括形成在殼體內的圓周凹槽，此凹槽適於接收O形環以便密封螺紋。根據流體噴嘴的又一個實施方式，在近端處的進入埠的橫截面包括中心圓形開口與四個正交的圓形開口，每個正交圓形開口都以90°間距圍繞中心圓形開口，正交圓形開口的每個都接觸中心圓形開口。根據流體噴嘴的一個實施方式，由進入進入埠並離開流體噴嘴的交叉狹槽孔的加壓流體產生的流體蒸汽羽狀物形成合成噴霧模式。根據一個實施方式，合成噴霧模式可以包括交叉的水平與豎直定向的主羽狀物，該主羽狀物沿著由交叉狹槽孔與流體通道軸形成的平面徑向地離開。此合成噴霧模式還可以包括兩個橫向定向的第二羽狀物，每個都在水平主羽狀物的相對側並且以相對於水平主羽狀物的銳角沿著不交叉的平面軌道徑向地離開，每個水平定向的第二羽狀物都位於相對於豎直定向的主羽狀物垂直定向的相應平面中。此合成噴霧模式還可以包括兩個豎直定向的第二羽狀物，每個都在豎直主羽狀物的相對側並且以相對於豎直主羽狀物的銳角沿著不交叉的其它平面軌道徑向地離開，每個豎直定向的第二羽狀物都位於相對於水平主羽狀物垂直定向的相應平面中。公開了流體噴嘴的又一個實施方式。流體噴嘴的實施方式可以包括一體的圓柱形殼體，圓柱形殼體包括具有從近端上的流體進入埠到遠端處的主狹槽孔穿過圓柱形殼體共軸地布置的流體通道軸的流體通道。根據一個實施方式，流體通道還可以包括多個圓柱形子通道，多個子通道中的每個都具有平行於從進入埠開始並且穿過主狹槽孔或者兩個第二狹槽孔中的一個的流體通道軸的子通道軸，兩個第二狹槽孔形成在殼體的遠端中並且布置為平行於主狹槽孔且在主狹槽孔的相對側上。流體噴嘴的實施方式還可以包括通過鑽取從圓柱形殼體的近端開始並且在主狹槽孔或第二狹槽孔中的一個處的相對的半球形衝擊表面中結束的孔來形成的圓柱形子通道的每個。根據流體噴嘴的另一個實施方式，多個圓柱形子通道可以包括中心圓柱形子通道、兩個水平子通道與兩個豎直子通道，中心圓柱形子通道共用居中在主狹槽孔上的流體通道軸，兩個水平子通道中的每個都具有穿過主狹槽孔的軸並且兩個豎直子通道中的每個都具有穿過第二狹槽孔中的一個的軸。根據流體噴嘴的另一個實施方式，一體的圓柱形殼體還可以包括沿著鄰近近端的外表面的外螺紋，此螺紋構造為將流體噴嘴安裝到流體噴霧系統頭部或固件。根據流體噴嘴的又一個實施方式，一體的圓柱形殼體還可以包括形成在殼體內的圓周凹槽，此凹槽適於接收O形環以便密封螺紋。根據流體噴嘴的又一個實施方式，在近端處的進入埠的橫截面可以包括中心圓形開口與兩個水平地定向的圓形開口與兩個豎直定向的圓形開口，水平圓形開口與豎直圓形開口中的每個都以90°間距圍繞中心圓形開口，圓形開口的每個都接觸中心圓形開口。根據流體噴嘴的特定實施方式，由進入進入埠並離開流體噴嘴的主狹槽孔與第二狹槽孔的加壓流體產生的流體蒸汽羽狀物形成合成噴霧模式。此實施方式的合成噴霧模式可以包括沿著由主狹槽孔與流體通道軸形成的平面徑向地離開的水平定向的主羽狀物。此實施方式的合成噴霧模式還可以包括兩個水平定向的第二羽狀物，每個都在水平主羽狀物的相對側並且相對於水平主羽狀物平行地沿著不交叉的平面軌道徑向地離開。此實施方式的合成噴霧模式還可以包括兩個豎直定向的第二羽狀物，每個都沿著其它的不交叉的平面軌道並且以相對於彼此的銳角徑向地離開，每個豎直定向的第二羽狀物都位於相對於水平定向的主羽狀物垂直定向的相應平面中。這裡公開的雙重矢量流體噴嘴的實施方式以及它們的部件可以由諸如鋁、銅、不鏽鋼、鈦、碳纖維合成材料等的任何適當材料形成。可以根據包括通過僅實例的機加工與熔模鑄造的本領域普通技術人員已知的方法製造部件部分。根據這裡的描述的噴嘴的裝配與完成也在本領域中的普通技術人員的知識內，並且由此在這裡將不再進一步詳細說明。在理解本發明的範圍時，術語「流體通道」用於描述布置在於流體進入埠處開始並且在孔處結束的圓柱形殼體內的三維空間。在理解本發明的範圍的時，這裡使用的術語「流體室」與術語「流體通道」同義。在理解本發明的範圍時，如這裡使用以用於描述設備的組件、節段或者部件的術語「構造」可以包括構造為或是使得能夠執行期望功能的任何適當的機械硬體。在理解本發明的範圍時，如這裡使用的術語「包括」及其衍生詞旨在是規定所述特徵、元件、部件、組、整體、和/或級的存在的開放式術語，但是不排除其它未陳述的特徵、元件、部件、組、整體和/或級的存在。前述還適用於諸如術語「包括」、「具有」以及它們衍生詞的具有類似含義的術語。此外，術語「部件」、「節段」、「部分」、「構件」、或「元件」當以單數形式使用時可以具有單個部件或者多個部件的雙重含義。如在這裡用於描述本發明的，下面的方向性術語「向前、向後、上面、向下、豎直、水平、下面以及橫向」以及任何其它類似的方向性術語表示相對於具有如這裡所述的孔的噴嘴的實施方式的前面的這些方向。最後，如這裡使用的諸如「基本上」、「大約」、「近似」的程度的術語表示修正項的合理偏差量以使得最終結果未顯著地改變。儘管在本發明的詳細描述與示出的實施方式中顯示了本發明的上述特徵，但是可以對本發明的此構造、設計與結構進行多種改變以實現這些優點。因此，這裡對本發明的結構與功能的特定細節的參考僅僅當作實例並且不是當作限制。