強化玻璃及其製造方法

2023-05-10 02:36:51

強化玻璃及其製造方法
【專利摘要】本發明的強化玻璃，其是在表面具有壓縮應力層的強化玻璃，其特徵在於，作為玻璃組成，以摩爾％計含有SiO245～75％、Al2O33～15％、Li2O0～12％、Na2O0.3～20％、K2O0～10％、MgO+CaO1～15％，摩爾比(Al2O3+Na2O+P2O5)／SiO2為0.1～1、摩爾比(B2O3+Na2O)／S?iO2為0.1～1、摩爾比P2O5／SiO2為0～1、摩爾比Al2O3／SiO2為0.01～1、摩爾比Na2O／Al2O3為0.1～5，並且在強化處理後其表面或端面被蝕刻而成。
【專利說明】強化玻璃及其製造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及強化玻璃及其製造方法，尤其涉及適合作為行動電話、數位相機、PDA(便攜末端)、太陽能電池的外罩玻璃、或者顯示器尤其觸摸面板顯示器的基板的強化玻璃及其製造方法。
【背景技術】
[0002]行動電話、數位相機、PDA、觸摸面板顯示器、大型電視、無線充電器等設備存在日益普及的傾向。
[0003]在這些設備中使用利用離子交換處理等進行強化處理後的強化玻璃(參照專利文獻1、非專利文獻I)。
[0004]在以往的設備中採用在顯示器模塊上形成觸摸面板傳感器、並在該觸摸面板傳感器上載置強化玻璃(保擴部件)的構成。
[0005]此外，行動電話等小型設備的尺寸為3~4英寸，平板電腦(Tablet PC)等的尺寸為9~10英寸。因此，在平板電腦等中存在設備的質量、設備整體的厚度的問題。
[0006]為了應對該問題，一直採用在強化玻璃(保護部件)上形成觸摸面板傳感器的方法。此時，對於強化玻璃(保護部件)要求具有以下特性:(I)具有高機械強度；(2)為了大量成形大型玻璃板而具有適 於溢流下引法、狹槽下引法(slit down draw method)等下引法、浮法等的液相粘度；(3)具有適於成形的高溫粘度；(4)低密度；(5)為了在觸摸面板的成膜時不引起圖案錯位而具有足夠高的應變點等。
[0007]現有技術文獻
[0008]專利文獻
[0009]專利文獻1:日本特開2006-83045號公報
[0010]非專利文獻
[0011]非特許文獻1:非專利文獻1:泉谷徹朗等、《新型玻璃及其物性》、第一版、株式會社經營系統研究所、1984年8月20日、p.451-498

【發明內容】

[0012]發明所要解決的課題
[0013]但是，若對尺寸為3~10英寸的強化玻璃逐個進行圖案化，則設備的製造成本變高。作為應對該問題的方法，存在對大型的強化玻璃進行規定的圖案化後將其雷射切斷為多個強化玻璃小片的方法。
[0014]但是，該方法存在以下問題:若在雷射切斷後對強化玻璃的四角進行R加工、且對長邊或短邊進行深切加工，則設備的製造成本變高。在移動末端等的用途的情況下，該問題變得尤其嚴重。
[0015]另一方面，若對大型的玻璃板進行強化處理，並進行規定的圖案化、遮蔽後，利用蝕刻液進行蝕刻，並將其截斷為多個強化玻璃小片，則可以解決上述問題。但是，對於以往的強化玻璃而言，蝕刻需要耗費時間，可能會招致成本上升。
[0016]為此，本發明的技術課題在於發明出滿足以往的要求特性並且利用蝕刻容易截斷為多個強化玻璃小片的強化玻璃。
[0017]用於解決課題的手段
[0018]本發明人等進行了各種研究，結果發現，通過嚴格限制玻璃組成中的各成分的含有範圍，並且在強化處理後進行蝕刻，從而能夠解決上述技術課題，以至完成本發明。即，本發明的強化玻璃，其是在表面具有壓縮應力層的強化玻璃，其特徵在於，作為玻璃組成，以摩爾％計含有 Si0245 ~75%、A12033 ~15%'B2O3O ~12%,Li2OO ~ 12%'Na2O0.3 ~20%、K2OO ~10%、Mg0+Ca01 ~15%、P2O5O ~10%，摩爾比(Al203+Na20+P205) / SiO2 為 0.1 ~
1、摩爾比(B203+Na20) / SiO2 為 0.1 ~1、摩爾比 P2O5 / SiO2 為 O ~1、摩爾比 Al2O3 / SiO2為0.01~1、摩爾比Na2O / Al2O3為0.1~5，並且在強化處理後其表面或端面被蝕刻而成。在此，「Mg 0+Ca0」 是指 MgO 和 CaO 的總量。「Al203+Na20+P205」 是指 Al203、Na20、及 P2O5 的總量。「B203+Na20」是指B2O3和Na2O的總量。需要說明的是，本發明的強化玻璃(小片)並不完全排除表面的全部被蝕刻的形態，從本發明的宗旨來看，優選表面的一部分被蝕刻的形態或者表面不被蝕刻的形態。此外，在利用蝕刻截斷為製品形狀的強化玻璃(小片)的情況下，通常端面的全部被蝕刻。
[0019]第二，本發明的強化玻璃中，優選:作為玻璃組成，以摩爾％計含有Si0245~75%,A12034 ~13%'B2O3O ~3%'Li2OO ~8%、Na205 ~20%、Κ200.I ~10%、Mg0+Ca03 ~13%, P2O5O ~10%，摩爾比(Al203+Na20+P205) / SiO2 為 0.1 ~0.7、摩爾比(B203+Na20) /SiO2 為 0.1 ~0.7、摩爾比 P2O5 / SiO2 為 O ~0.5、摩爾比 Al2O3 / SiO2 為 0.01 ~0.7、摩爾比 Na2O / Al2O3 為 0.5 ~4。
[0020]第三，本發明的強化 玻璃中，優選:作為玻璃組成，以摩爾％計含有Si0245~75%、A12035 ~12%'B2O3O ~I %'Li2OO ~4%、Na208 ~20%、Κ200.5 ~10%、Mg0+Ca05 ~13%, P2O5O ~10%，摩爾比(Al203+Na20+P205) / SiO2 為 0.1 ~0.5、摩爾比(B203+Na20) /SiO2 為 0.1 ~0.5、摩爾比 P2O5 / SiO2 為 O ~0.3、摩爾比 Al2O3 / SiO2 為 0.05 ~0.5、摩爾比 Na2O / Al2O3 為 I ~3。
[0021]第四，本發明的強化玻璃中，優選:作為玻璃組成，以摩爾％計含有Si0245~75%、A12035 ~11%、B2030 ~l%、Li200 ~4%、Na209 ~20%、Κ200.5 ~8%、MgOO ~12%、CaOO ~3%、Mg0+Ca05 ~ 12%, P2O5O ~10%，摩爾比(Al203+Na20+P205) / SiO2 為 0.1 ~0.5、摩爾比(B203+Na20) / SiO2S0.1 ~0.3、摩爾比 P2O5 / SiO2S O ~0.2、摩爾比 Al2O3 /SiO2 為 0.05 ~0.3、摩爾比 Na2O / Al2O3 為 I ~3。
[0022]第五，本發明的強化玻璃中，優選:作為玻璃組成，以摩爾％計含有Si0250~70%,A12035 ~11%、B2030 ~l%、Li200 ~2%、Na2010 ~18%、K201 ~6%、MgOO ~12%、CaOO ~2.5%,Mg0+Ca05 ~12%,P2O5O ~10%，摩爾比(Al203+Na20+P205) / SiO2 為 0.2 ~0.5、摩爾比(B203+Na20) / SiO2 為 0.15 ~0.27、摩爾比 P2O5 / SiO2 為 O ~0.1、摩爾比Al2O3 / SiO2 為 0.07 ~0.2、摩爾比 Na2O / Al2O3 為 I ~2.3。
[0023]第六，本發明的強化玻璃的被蝕刻後的面的表面粗糙度Ra優選為Inm以下。在此，「表面粗糙度Ra」是指利用基於SEMI D7-94 「FPD玻璃基板的表面粗糙度的測定方法」的方法測得的值。[0024]第七，優選使本發明的強化玻璃的壓縮應力層的壓縮應力值為200MPa以上、且壓縮應力層的厚度為10 μ m以上。在此，「壓縮應力層的壓縮應力值」、「壓縮應力層的厚度」是指:在使用表面應力計(例如東芝株式會社製造的FSM-6000)觀察試樣時，由觀察到的幹涉條紋的條數和其間隔所計算出的值。
[0025]第八，本發明的強化玻璃的內部拉伸應力優選為I~200MPa。在此，「內部拉伸應力」是利用下式計算得到的值。
[0026]內部拉伸應力=(壓縮應力值X應力厚度)/ (板厚-應力厚度X 2)
[0027]第九，本發明的強化玻璃的液相溫度優選為1250°C以下。在此，「液相溫度」是指:將通過標準篩30目(篩孔500 μ m)且殘留在50目(篩孔300 μ m)的玻璃粉末裝入鉬舟，在溫度梯度爐中保持24小時後，析出結晶的溫度。
[0028]第十，本發明的強化玻璃的液相粘度優選為104_°dPa.s以上。在此，「液相粘度」是指利用鉬球提拉法對液相溫度下的玻璃的粘度測得的值。
[0029]第H^一，本發明的強化玻璃在104_°dPa.s時的溫度優選為1280°C以下。在此，「104_°dPa.s時的溫度」是指利用鉬球提拉法測得的值。
[0030]第十二，本發明的強化玻璃在102 5dPa.s時的溫度優選為1620°C以下。在此，「 102 5dPa.s時的溫度」是指利用鉬球提拉法測得的值。
[0031]第十三，本發明的強化玻璃的密度優選為2.6g / cm3以下。在此，「密度」可以利用公知的阿基米德法來測定。
[0032]第十四，本發明的強化玻璃優選利用浮法成形而成。
[0033]第十五，本發明的強 化玻璃優選用於觸摸面板顯示器。
[0034]第十六，本發明的強化玻璃優選用於行動電話的外罩玻璃。
[0035]第十七，本發明的強化玻璃優選用於太陽能電池的外罩玻璃。
[0036]第十八，本發明的強化玻璃優選用於顯示器的保護部件。
[0037]第十九，本發明的強化玻璃的製造方法，其特徵在於，其具有:(1)成形工序，使按照以摩爾％計含有 Si0245 ~75%,A12033 ~15%, Li2OO ~12%, Na2O0.3 ~20%, K2OO ~10%、MgO+CaOl~15%的玻璃組成方式調配成的玻璃原料熔融，成形為板狀；(2)強化工序，利用離子交換處理形成壓縮應力層，從而得到強化玻璃；(3)遮蔽工序，對強化玻璃的表面進行遮蔽；以及(4)蝕刻工序，用蝕刻液對強化玻璃進行蝕刻。
[0038]第二十，本發明的強化玻璃的製造方法中，優選:在上述遮蔽工序之前具有在強化玻璃的表面形成圖案的圖案化工序。由此，設備的製造成本大幅降低。此時，為了防止在強化玻璃的表面所形成的規定的圖案因事後的蝕刻而發生劣化，優選還對圖案的表面進行遮蔽。
[0039]第二十一，本發明的強化玻璃的製造方法中，優選:上述蝕刻工序為將強化玻璃截斷為多個強化玻璃小片的工序。由此，能夠從大型的強化玻璃採集多種製品形狀的強化玻璃，因此設備的製造成本大幅降低。
[0040]第二十二，本發明的強化玻璃的製造方法中，優選:上述蝕刻液含有選自由HF、HCl、H2SO4,HNO3>NH4F,NaOH,NH4HF2所組成的組中的一種或兩種以上的物質。這些蝕刻液的蝕刻性能良好。
[0041]發明效果[0042]本發明的強化玻璃具有適宜的蝕刻性能，因此能夠以短時間的蝕刻將被遮蔽的部分以外除去。結果能夠有效地獲得行動電話、平板電腦等所要求的形狀、並且能夠確保較高的表面品質、端面品質。進而，本發明的強化玻璃的離子交換性能高，因此機械強度高、並且機械強度的偏差小。而且由於其密度低，因此能夠實現平板電腦的輕質化，並且由於其應變點聞，因此還能夠進行聞品質的圖案化。 【專利附圖】

【附圖說明】
[0043]圖1A是用於說明本發明的實施例2的實驗步驟的示意圖。
[0044]圖1B是用於說明本發明的實施例2的實驗步驟的示意圖。
[0045]圖1C是用於說明本發明的實施例2的實驗步驟的示意圖。
【具體實施方式】
[0046](I)強化玻璃
[0047]本發明的實施方式的強化玻璃在其表面具有壓縮應力層。作為在表面形成壓縮應力層的方法，可以使用物理鋼化法，更優選使用化學鋼化法。化學鋼化法是在玻璃的應變點以下的溫度下利用離子交換處理將離子半徑大的鹼離子導入到玻璃的表層的方法。若利用化學鋼化法形成壓縮應力層，則即使在板厚較小的情況下，也能夠適當地形成壓縮應力層，並且即使在形成壓縮應力層後切斷強化玻璃基板，也會如風冷強化法等物理鋼化法那樣不容易破壞強化玻璃基板。
[0048]本實施方式的強化玻璃中，作為玻璃組成，以摩爾％計含有Si0245~75%、Al2033 ~15%、B2O3O ~12%、Li2OO ~12%、Na2O0.3 ~20%、K2OO ~10%、Mg0+Ca01 ~15%、P2O5O~10%。以下示出如上述那樣限定各成分的含有範圍的理由。需要說明的是，在各成分的含有範圍的說明中，除了有特別聲明的情況以外，「 」標記表示質量％。
[0049]SiO2是形成玻璃網(metwork)的成分，其含量為45~75%、優選為50~70%、55~68%、55~67%、優選為58~66%。若SiO2的含量過少，則變得難以玻璃化，並且熱膨脹係數變得過高，使耐熱衝擊性容易降低，進而基於HCl等酸的蝕刻速率過高，難以得到所需的表面品質、端面品質。另一方面，若SiO2的含量過多，則熔融性、成形性容易降低，並且因熱膨脹係數過低而難以與周邊材料的熱膨脹係數匹配，進而由於蝕刻速率過低，使設備的生產率容易降低。
[0050]Al2O3是提高離子交換性能的成分，並且還是提高應變點、楊氏模量的成分，其含量為3~15%。若Al2O3的含量過少，則可能無法充分發揮離子交換性能。因此，Al2O3的優選的下限範圍為4%以上、5%以上、5.5%以上、7%以上、8%以上、尤其為9%以上。另一方面，若Al2O3的含量過多，則在玻璃上容易析出失透結晶而難以利用浮法、溢流下拉法等成形玻璃板。此外，因熱膨脹係數過低而難以與周邊材料的熱膨脹係數匹配，進而高溫粘性變高、熔融性容易降低。此外，利用HCl等酸的蝕刻速率過高，難以得到所需的表面品質、端面品質。因此，Al2O3的優選的上限範圍為13%以下、12%以下、11%以下、尤其為9%以下。
[0051]B2O3是降低高溫粘度、密度並且使玻璃穩定而難以析出結晶、且降低液相溫度的成分。但是，若B2O3的含量過多，則因離子交換而產生被稱為「發霧」的玻璃表面的著色、耐水性降低、壓縮應力層的壓縮應力值降低、壓縮應力層的厚度變小、或者因利用HCl等酸的蝕亥Ij速率過高而難以得到所需的表面品質、端面品質。因此,B2O3的含量優選為O~12%、0~5%、0 ~3%、0 ~1.5%、0 ~1%、0 ~0.9%、0 ~0.5%、尤其為 O ~0.1%。
[0052]Li2O是離子交換成分，並且也是使高溫粘度降低來提高熔融性、成形性的成分，同時還是提高楊氏模量的成分。進而，鹼金屬氧化物中，Li2O所具有的提高壓縮應力值的效果較大，但是，在含有5%以上Na2O的玻璃體系中，若Li2O的含量極多，則存在壓縮應力值反而降低的傾向。此外，若Li2O的含量過多，則液相粘度降低而使玻璃容易失透，並且因熱膨脹係數過高而使耐熱衝擊性降低、或者難以與周邊材料的熱膨脹係數匹配。進而，低溫粘性過低而難以產生應力鬆弛，有時壓縮應力值反而降低。因此，Li2O的含量為O~12%、優選為 O ~8%、0 ~4%、0 ~2%、0 ~1%、0 ~0.5%、0 ~0.3%、尤其為 O ~0.1%。
[0053]Na2O是離子交換成分，並且也是使高溫粘度降低來提供熔融性、成形性的成分。此外，Na2O還是改善耐失透性的成分。Na2O的含量為0.3~20%。若Na2O的含量過少，則熔融性降低、熱膨脹係數降低、或者離子交換性能容易降低。此外，由於蝕刻速率變低而使設備的生產率容易降低。因此，Na2O的優選的下限範圍為5%以上、8%以上、9%以上、10%以上、11%以上、尤其為12%以上。另一方面，若Na2O的含量過多，則熱膨脹係數過高而使耐熱衝擊性降低、或者難以與周邊材料的熱膨脹係數匹配。此外，應變點過度降低或者欠缺玻璃組成的成分平衡，有時使耐失透性反而降低。進而，利用HCl等酸的蝕刻速率過高而難以得到所需的表面品質、端面品質。因此,Na2O的優選的上限範圍為19%以下、18%以下、17%以下、尤其為16%以下。
[0054]K2O是促進離子交換的成分，在鹼金屬氧化物中，K2O是容易增大壓縮應力層的厚度的成分。此外，還是使高溫粘度降低來提高熔融性、成形性的成分。進而，也是改善耐失透性的成分。因此，K2O的含量為O~10%。若K2O的含量過多，則熱膨脹係數變得過高而使耐熱衝擊性降低、或者難以與周邊材料的熱膨脹係數匹配。此外，應變點過度降低或者欠缺玻璃組成的成分平衡，存在耐失透性反而降低的傾向。因此，K2O的優選的上限範圍為8%以下、7%以下、6%以下、尤其為5%以下。需要說明的是，在玻璃組成中添加K2O的情況下，K2O的優選的下限範圍為0.1%以上、0.5%以上、1%以上、1.5%以上、2%以上、尤其為2.5%以上。
[0055]Li20+Na20+K20的含量優選為5~25 %、8~22 %、12~20 %、尤其為16.5~20%。若Li20+Na20+K20的含量過少，則離子交換性能、熔融性容易降低。另一方面，若Li20+Na20+K20的含量過多，則玻璃容易失透，並且因熱膨脹係數過高而使耐熱衝擊性降低、或者難以與周邊材料的熱膨脹係數匹配。此外，有時因應變點過度降低而難以得到較高的壓縮應力值。進而，有時因液相溫度附近的粘性降低而難以確保較高的液相粘度。需要說明的是，「Li20+Na20+K20，，為 Li20、Na2O 及 K2O 的總量。
[0056]MgO是使高溫粘度降低而提高熔融性、成形性或者提高應變點、楊氏模量的成分，在鹼土金屬氧化物中，MgO是提高離子交換性能的效果較大的成分。但是，若MgO的含量過多，則密度、熱膨脹係數變高，並且玻璃容易失透。因此，MgO的優選的上限範圍為12%以下、10%以下、8%以下、尤其為7%以下。需要說明的是，在玻璃組成中添加MgO的情況下，MgO的優選的下限範圍為0.1%以上、0.5%以上、1%以上、2%以上、尤其為3%以上。
[0057]與其他成分相比，CaO是在不伴有耐失透性降低的情況下使高溫粘度降低來提高熔融性、成形性、或者提高應變點、楊氏模量的效果較大的成分。CaO的含量優選為O~10%。但是，若CaO的含量過多，則密度、熱膨脹係數變高、或者因欠缺玻璃組成的成分平衡而玻璃反而容易失透、或者、離子交換性能容易降低、或者容易產生分相。因此，CaO的含量優選為O~5%、0~3%、尤其為O~2.5%。
[0058]MgO+CaO的含量為I~15%。若MgO+CaO的含量過少，則難以得到所需的離子交換性能，並且高溫粘性變高而使溶解性容易降低。另一方面，若MgO+CaO的含量過多，則密度、熱膨脹係數變高或者耐失透性容易降低。因此，MgO+CaO的含量優選為3~13%、5~13%、5~12%、尤其為5~11%。
[0059]P2O5是提高離子交換性能的成分、尤其是增大壓縮應力層的厚度的成分。但是，若P2O5的含量過多，則玻璃發生分相、或者因利用HCl等酸的蝕刻速率過高而難以得到所需的表面品質、端面品質。因此，P2O5的優選的上限範圍為10%以下、5%以下、尤其為3%以下。需要說明的是，在玻璃組成中添加P2O5的情況下，P2O5的優選的下限範圍為0%以上、0.01%以上、0.1%以上、0.5%以上、尤其為1%以上。
[0060]本實施方式的強化玻璃優選具有以下的成分比率。
[0061]摩爾比(Al203+Na20+P205)/ SiO2 為 0.1 ~I。若摩爾比(Al203+Na20+P205) / SiO2過小，則由於蝕刻速率變低，因此設備的生產率容易降低，並且離子交換性能容易降低。另一方面，若摩爾比(Al203+Na20+P205) / SiO2過大，則因利用HCl等酸的蝕刻速率過高而難以得到所需的表面品質、端面品質、或者因耐失透性降低而難以確保較高的液相粘度。因此，摩爾比(Al203+Na20+P205) / SiO2的優選的下限範圍為0.15以上、0.2以上、尤其為0.25以上；優選的上限範圍為0.7以下、0.5以下、尤其為0.4以下。
[0062]摩爾比(B203+Na20)/ SiO2S 0.1 ~I。若摩爾比(B203+Na20) / SiO2 過小，則由於蝕刻速率變低，因此設備的生產率容易降低。此外，由於高溫粘性變高,因此熔融性降低而使泡品質容易降低。另一方面，若摩爾比(B203+Na20) / SiO2過大，則因利用HCl等酸的蝕刻速率過高而難以得到所需的 表面品質、端面品質、或者因耐失透性降低而難以確保較高的液相粘度。因此，摩爾比(B203+Na20) / SiO2的優選的下限範圍為0.15以上、0.2以上、尤其為0.23以上；優選的上限範圍為0.7以下、0.5以下、0.4以下、0.3以下、尤其為0.27以下。
[0063]摩爾比P2O5 / SiO2S O~I。若摩爾比P2O5 / SiO2變大，則存在壓縮應力層的厚度變大的傾向，若該值過大，則因利用HCl等酸的蝕刻速率過高而難以得到所需的表面品質、端面品質。因此，摩爾比P2O5 / SiO2的優選的範圍為O~0.5、0~0.3、0~0.2、尤其為O~0.1。
[0064]摩爾比Al2O3 / Si02S0.01~I。若摩爾比Al2O3 / SiO2變大，則能夠提高應變點、楊氏模量或者能夠提高離子交換性能，若該值過大，則因在玻璃上容易析出失透結晶而難以確保較高的液相粘度、或者因高溫粘性變高而使熔融性容易降低、或者因利用HCl等酸的蝕刻速率過高而難以得到所需的表面品質、端面品質。因此，摩爾比Al2O3 / SiO2的優選的範圍為0.01~0.7,0.01~0.5,0.05~0.3、尤其為0.07~0.2。
[0065]摩爾比Na2O / Al2O3為0.1~5。若摩爾比Na2O / Al2O3過小，則耐失透性容易降低、並且溶解性容易降低。另一方面，若摩爾比Na2O / Al2O3過大，則因熱膨脹係數過高或者高溫粘性過度降低而難以確保較高的液相粘度。因此，摩爾比Na2O / Al2O3的優選的範圍為0.5~4、1~3、尤其為1.2~2.3。[0066]除上述成分以外，也可以添加例如以下的成分。
[0067]SrO是在不伴有耐失透性降低的情況下使高溫粘度降低來提高熔融性、成形性或者提高應變點、楊氏模量的成分。若SrO的含量過多，則密度、熱膨脹係數變高、或者離子交換性能降低、或者因欠缺玻璃組成的成分平衡而使玻璃反而容易失透。SrO的含量優選為O~5%、0~3%、0~I %、尤其為O~0.1%。
[0068]BaO是在不伴有耐失透性降低的情況下使高溫粘度降低來提高熔融性、成形性或者提高應變點、楊氏模量的成分。若BaO的含量過多，則密度、熱膨脹係數變高、或者離子交換性能降低、或者因欠缺玻璃組成的成分平衡而使玻璃反而容易失透。BaO的含量優選為O~5%、0~3%、0~I %、尤其為O~0.1%。
[0069]TiO2是提高離子交換性能的成分、並且也是使高溫粘度降低的成分。但是，若TiO2的含量過多，則玻璃著色或者容易失透。因此，TiO2的含量優選為O~3%、0~1%、0~0.8%、0 ~0.5%、尤其為 O ~0.1%。
[0070]ZrO2是顯著提高離子交換性能的成分、並且是提高液相粘度附近的粘性、應變點的成分。若其含量過多，則可能是耐失透性顯著降低，並且可能使密度過高。因此，ZrO2的優選的上限範圍為10%以下、8%以下、6%以下、4%以下、尤其為3%以下。需要說明的是，在想要提高離子交換性能的情況下，優選在玻璃組成中添加ZrO2，此時，ZrO2的優選的下限範圍為0.01%以上、0.1 %以上、0.5%以上、I %以上、尤其為2%以上。
[0071]ZnO是提高離子交換性能的成分、尤其是提高壓縮應力值的效果較大的成分。此外，還是在不降低低溫粘性的情況下使高溫粘性降低的成分。但是，若ZnO的含量過多，則玻璃發生分相或、者耐失透性降低、或者密度變高、或者存在壓縮應力層的厚度變小的傾向。因此，ZnO的含量優選為O~6%、0~5%、0~3%、0~1%、尤其為O~0.5%。
[0072]此外，可以添加 O ~3% 的選自 As2O3、Sb2O3> CeO2、SnO2、F、Cl、SO3(優選 SnO2、Cl、SO3)中的一種或兩種以上物質作為澄清劑。Sn02+S03+Cl的含量優選為O~1%、100~3000ppm、300~2500ppm、尤其為500~2500ppm。需要說明的是，若Sn02+S03+Cl的含量少於lOOppm，則難以享有澄清效果。在此，「Sn02+S03+Cl」是指Sn02、SO3及Cl的總量。
[0073]從環境的觀點出發，優選極力控制As203、Sb203、F的使用，優選實質上不含有這些物質。在此，「實質上不含有As2O/是指:其宗旨為雖然不主動地添加As2O3作為玻璃成分，但是允許其以雜質的形式混入的情況，具體而言，是指As2O3的含量低於500ppm(質量)。「實質上不含有Sb203」是指:雖然不主動地添加Sb2O3作為玻璃成分，但是允許其以雜質的形式混入的情況，具體而言，是指Sb2O3的含量低於500ppm(質量)。「實質上不含有F」是指:雖然不主動地添加F作為玻璃成分，但是允許其以雜質的形式混入的情況，具體而言，是指F的含量低於500ppm(質量)。
[0074]Fe2O3的含量優選低於500ppm、低於400ppm、低於300ppm、低於200ppm、尤其低於150ppm。由此,使板厚Imm下的透射率(400nm~770nm)容易提高(例如90%以上)。
[0075]Nb205、La2O3等稀土類氧化物是提高楊氏模量的成分。但是，原料本身的成本高，並且若大量添加該稀土類氧化物，則耐失透性容易降低。因此，稀土類氧化物的含量優選為3%以下、2%以下、I %以下、0.5%以下、尤其為0.1%以下。
[0076]由於對玻璃牢固地著色過渡金屬元素(Co、Ni等)，因而可能會使透射率降低。尤其在用於觸摸面板顯示器的情況下，若過渡金屬元素的含量過多，則觸摸面板顯示器的可視性容易降低。因此，優選對玻璃原料(包括碎玻璃)進行選擇以使過渡金屬氧化物的含量達到0.5%以下、0.1%以下、尤其0.05%以下。
[0077]從對環境方面的顧慮出發，優選實質上不含有PbO、Bi2O30在此，「實質上不含有PbO」是指:其宗旨為雖然不主動地添加PbO作為玻璃成分，但是允許其以雜質的形式混入的情況，具體而言，是指Pbo的含量低於500ppm (質量)。「實質上不含有Bi2O/是指:雖然不主動含有Bi2O3作為玻璃成分，但是允許其以雜質的形式混入的情況，具體而言，是指Bi2O3的含量低於500ppm(質量)。
[0078]通過實地選擇各成分的優選的含有範圍，從而能夠構建優選的玻璃組成範圍。其中，特別優選的玻璃組成範圍中，以摩爾％計含有Si0250~70%、Α12035.5~9%、B2O3O~
0.l%、Li200 ~0.5%、Na2012 ~17%、K202 ~5%、MgOO ~12%、CaOO ~2.5%、Mg0+Ca05 ~11%，摩爾比(Al203+Na20+P205) / SiO2 為 0.25 ~0.5、摩爾比(B203+Na20) / SiO2S0.15 ~
0.27、摩爾比 P2O5 / SiO2 為 O ~0.1、摩爾比 Al2O3 / SiO2 為 0.07 ~0.2、摩爾比 Na2O /Al2O3 為 1.2 ~2.3。
[0079]本實施方式的強化玻璃在80°C、10質量％的HCl水溶液中浸潰24小時時的質量減量優選為0.05~50g / cm2。若該值低於0.05g / cm2，則由於蝕刻速率變低，因此對大型的強化玻璃進行觸摸面板傳感器等的圖案化、規定的遮蔽後，難以通過利用蝕刻液進行蝕刻而單片化為所需的形狀。另一方面，若該值超過50g / cm2，則利用HCl等酸的蝕刻速率過高而難以得到所需的表面品質、端面品質。需要說明的是，質量減量的優選的下限範圍為
0.1g / Cm2以上、尤其為0.2g / cm2以上；並且優選的上限範圍為45g / cm2以下、20g /cm2以下、IOg / cm2以下、5g / cm2以下、2g / cm2以下、尤其為Ig / cm2以下。
[0080]本實施方式的強化玻璃 的壓縮應力層的壓縮應力值優選為300MPa以上、400MPa以上、500MPa以上、600MPa以上、700MPa以上、尤其為800MPa以上。壓縮應力值越大，則強化玻璃的機械強度越高。另一方面，若在表面形成極大的壓縮應力，則可能會因在表面產生微裂紋而使強化玻璃的機械強度反而降低。此外，可能會使強化玻璃所固有的拉伸應力變得極高。因此，壓縮應力層的壓縮應力值優選為1500MPa以下。需要說明的是，若使玻璃組成中的A1203、TiO2, ZrO2, MgO、ZnO的含量增加或者使SrO、BaO的含量減少，則存在壓縮應力值變大的傾向。此外，若縮短離子交換時間或者降低離子交換溶液的溫度，則存在壓縮應力值變大的傾向。
[0081]壓縮應力層的厚度優選為10 μ m以上、15 μ m以上、20 μ m以上、尤其為25 μ m以上。壓縮應力層的厚度越大，則即使強化玻璃基板被深深地劃傷，強化玻璃基板也越難以破裂，並且機械強度的不均變小。另一方面，壓縮應力層的厚度越大，越難切斷強化玻璃基板、或者在蝕刻時可能會使遮蔽內的強化玻璃破損。因此，壓縮應力層的厚度優選為500 μ m以下、200 μπι以下、150ym以下、90ym以下、60ym以下、50ym以下、40ym以下、35ym以下、尤其為30 μ m以下。需要說明的是，若使玻璃組成中的Κ20、Ρ205的含量增加或者使Sr0、Ba0的含量減少，則存在壓縮應力層的厚度變大的傾向。此外，若延長離子交換時間或者升高離子交換溶液的溫度，則存在壓縮應力層的厚度變大的傾向。
[0082]內部拉伸應力優選為200MPa以下、150MPa以下、120MPa以下、IOOMPa以下、70MPa、50MPa以下、30MPa以下、25MPa以下、尤其為22MPa以下。若內部拉伸應力變大，則在蝕刻時可能會使遮蔽內的強化玻璃破損。但是，若內部拉伸應力極小，則壓縮應力層的壓縮應力值、厚度降低。因此，內部拉伸應力優選為IMPa以上、5MPa以上、IOMPa以上、15MPa以上。
[0083]本實施方式的強化玻璃的密度優選為2.6g / cm3以下、特別優選為2.55g / cm3以下。密度越小，則越能使強化玻璃輕質化。需要說明的是，若使玻璃組成中的Si02、B203、P2O5的含量增加或者使鹼金屬氧化物、鹼土金屬氧化物、Zn0、Zr02、Ti02的含量減少，則密度容易降低。
[0084]本實施方式的強化玻璃的熱膨脹係數優選為80~120Χ10-7 /°C、85~110Χ10-7 I。°C、90~110Χ10-7 / °C、尤其為90~105Χ10-7 / °C。若將熱膨脹係數限制在上述範圍，則容易與金屬、有機系粘接劑等的部件的熱膨脹係數匹配，容易防止金屬、有機系粘接劑等的部件的剝離。在此，「熱膨脹係數」是指使用膨脹計對在30~380°C的溫度範圍下的平均熱膨脹係數測得的值。需要說明的是，若增加玻璃組成中的鹼金屬氧化物、鹼土金屬氧化物的含量，則熱膨脹係數容易變高，相反若減少鹼金屬氧化物、鹼土金屬氧化物的含量，則熱膨脹係數容易降低。
[0085]本實施方式的強化玻璃的應變點優選為500°C以上、520°C以上、530°C以上、550°C以上、尤其為570°C以上。應變點越高，則耐熱性越提高，在對強化玻璃進行熱處理的情況下，壓縮應力層變得難以消失。此外，應變點越高，在離子交換處理時越難產生應力鬆弛，因此變得容易維持壓縮應力值。進而，在觸摸面板傳感器等的圖案化中，容易形成高品質的膜。需要說明的是，若增加玻璃組成中的鹼土金屬氧化物、Al203、Zr02、P205的含量或降低鹼金屬氧化物的含量，則應變點容易變高。
[0086]本實施方式的強化玻璃在104_°dPa.s時的溫度優選為1280°C以下、1230°C以下、1200°C以下、1180°C以下、尤其為1160°C以下。在104_°dPa *s時的溫度越低，越能減輕對成形設備的負擔，成形設備越長壽命化，結果容易使強化玻璃的製造成本低廉化。需要說明的是，若使鹼金屬氧化物、鹼土金屬氧化物、Zn0、B203、Ti02的含量增加或者使Si02、Al203的含量減少，則在104_°dPa.s時的溫度容易降低。
[0087]本實施方式的強化玻璃在10 2 5dPa.s時的溫度優選為1620°C以下、1550°C以下、1530°C以下、1500°C 以下、尤其為1450°C以下。在10 2 5dPa.s時的溫度越低，越能進行低溫熔融，越能減輕對熔融窯等玻璃製造設備的負擔，並且越能提高泡品質。因此，在102_ 5dPa.s時的溫度越低，越能使強化玻璃基板的製造成本低廉化。需要說明的是，在102 5dPa.s時的溫度相當於熔融溫度。此外，若使玻璃組成中的鹼金屬氧化物、鹼土金屬氧化物、Zn0、B203、TiO2的含量增加或者使SiO2、Al2O3的含量減少，則在102 5dPa.s時的溫度容易降低。
[0088]本實施方式的強化玻璃的液相溫度優選為1200°C以下、1150°C以下、1100°C以下、10500C以下、1000°C以下、950°C以下、900°C以下、尤其為880°C以下。需要說明的是，液相溫度越低，耐失透性、成形性越高。此外，若使玻璃組成中的Na20、K2CKB2O3的含量增加或使A1203、Li20、Mg0、ZnO, TiO2, ZrO2的含量減少，則液相溫度變得容易降低。
[0089]本實施方式的強化玻璃中，液相粘度優選為104_°dPa.s以上、104 4dPa.s以上、104 8dPa.s 以上、105_°dPa.s 以上、105 4dPa.s 以上、105 6dPa.s 以上、106_°dPa.s 以上、106 2dPa-S以上、尤其為106 3dPa.s以上。需要說明的是，液相粘度越高，耐失透性、成形性越高。此外，若使玻璃組成中的Na20、K2O的含量增加或使A1203、Li2O, MgO、ZnO, TiO2, ZrO2的含量減少，則液相粘度容易變高。[0090]本實施方式的強化玻璃中，除被蝕刻後的面以外的表面的表面粗糙度Ra優選為Inm以下、0.5nm以下、0.3nm以下、尤其為0.2nm以下。若除被蝕刻後的面以外的表面的表面粗糙度Ra過大，則不僅會使強化玻璃的外觀品質降低，而且還會使機械強度降低。
[0091]本實施方式的強化玻璃中被蝕刻後的面(表面及端面)的表面粗糙度Ra優選為Inm以下、0.5nm以下、0.3nm以下、尤其為0.2nm以下。若被蝕刻後的面的表面粗糙度Ra過大，則不僅會使強化玻璃的外觀品質降低，而且還會使機械強度降低。
[0092]本實施方式的強化玻璃的厚度(在板狀的情況下為板厚)優選為3.0mm以下、
2.0mm以下、1.5mm以下、1.3mm以下、1.1mm以下、1.0mm以下、0.8mm以下、尤其為0.7mm以下。另一方面，若厚度過小，則難以得到所需的機械強度。因此，厚度優選為0.1mm以上、
0.2mm以上、0.3mm以上、尤其為0.4mm以上。
[0093](2)強化用玻璃
[0094]本發明的實施方式的強化用玻璃，其特徵在於，作為玻璃組成，以摩爾％計含有 Si0245 ~75%、Al2033 ~15%、B2O3O ~12%、Li2OO ~12%、Na2O0.3 ~20%、K2OO ~10%, MgO+CaO I ~15%,P2O5O ~ 10%，摩爾比(Al203+Na20+P205) / SiO2S0.1 ~1、摩爾比(B203+Na20) / SiO2S0.1 ~1、摩爾比 P2O5 / SiO2 為 O ~1、摩爾比 Al2O3 / SiO2 為 0.01 ~
1、摩爾比Na2O/ Al2O3為0.1~5。在此，強化用玻璃是指強化處理前的玻璃(未強化玻璃)。該強化用玻璃的技術特徵與已經說明過的強化玻璃的技術特徵相同。在此，為了方便起見，省略對其的記載。
[0095]在將本實施方式的強化用玻璃在430°C的KNO3熔融鹽中浸潰4小時時，優選使表面的壓縮應力層的壓縮應力值為3 00MPa以上、且壓縮應力層的厚度為ΙΟμπι以上，此外優選使表面的壓縮應力為600MPa以上、且壓縮應力層的厚度為15 μ m以上，進一步優選使表面的壓縮應力為700MPa以上、且壓縮應力層的厚度為20 μ m以上。
[0096]在離子交換處理時，KNO3熔融鹽的溫度優選為400~550°C，離子交換時間優選為2~10小時、特別優選為4~8小時。由此，容易適當地形成壓縮應力層。需要說明的是，由於本實施方式的強化用玻璃具有上述的玻璃組成，因此，即使使用KNO3熔融鹽和NaNO3熔融鹽的混合物等，也能夠增大壓縮應力值、應力厚度。
[0097]在將本實施方式的強化用玻璃在25°C、5質量％的HF水溶液中處理10分鐘時，被蝕刻後的面的表面粗糙度Ra優選為Inm以下、0.5nm以下、0.3nm以下、特別優選為0.2nm以下。若被蝕刻後的面的表面粗糙度Ra過大，則不僅會使強化玻璃的外觀品質降低，而且還會使機械強度降低。
[0098]將本實施方式的強化用玻璃在80°C、10質量％的HCl水溶液中浸潰24小時時的質量減量優選為0.05~50g / cm3。若質量減量過小，則可能會使蝕刻速率降低、設備的生產率降低。另一方面，若質量減量過大，則因利用HCl等酸的蝕刻速率變高而難以得到所需的表面品質、端面品質。質量減量的優選的下限範圍為0.1g / cm2以上、尤其為0.2g / cm2以上，並且優選的上限範圍為45g / cm2以下、20g / cm2以下、IOg / cm2以下、5g / cm2以下、2g / cm2以下、尤其為Ig / cm2以下。
[0099](3)強化用玻璃及強化玻璃的製造方法
[0100]上述的強化用玻璃及強化玻璃例如可以通過以下方式來製作。
[0101]首先，將按照上述的玻璃組成調配的玻璃原料投入到連續熔融爐中，在1500~1600°C下加熱熔融，在澄清後，將其供給到成形裝置後成形為板狀等，進行退火。由此，可以製作板狀等的強化用玻璃。
[0102]作為成形為板狀的方法，優選採用浮法。浮法對大量生產、大型化有利。
[0103]除浮法以外，也可以採用各種成形方法。例如可以採用溢流下拉法、下引法(流孔下引法、重新下引(redraw)法等)、軋平(roll out)法、壓製法等成形方法。
[0104]接著，通過對所得的強化用玻璃進行強化處理，從而可以製作強化玻璃。在對強化玻璃進行形狀加工至規定尺寸時，在對大型的玻璃板進行強化處理後，進行觸摸面板傳感器等的圖案化、規定的遮蔽，接著，利用蝕刻液進行蝕刻，由此單片化為所需的形狀，該方法在生產率方面是優選的。
[0105]作為強化處理，優選離子交換處理。離子交換處理的條件並無特別限定，只要考慮玻璃的粘度特性、用途、厚度、內部拉伸應力等而選擇最佳的條件即可。例如離子交換處理可以通過將強化用玻璃在400~550°C的KNO3熔融鹽中浸潰I~8小時來進行。尤其在將KNO3熔融鹽中的K離子與玻璃中的Na成分進行離子交換時，能夠有效地形成壓縮應力層。
[0106]接著，優選在對所得的強化玻璃的表面的一部分按照所需形狀(行動電話、平板電腦等的保護部件所要求的形狀)進行遮蔽後，利用蝕刻液進行蝕刻。作為蝕刻液，優選含有選自HF、HCl、H2SO4, HNO3> NH4F, NaOH, NH4HF2中的一種或兩種以上的物質的蝕刻液，特別優選含有選自HC1、HF、HN03中的一種或兩種以上的蝕刻液。蝕刻液優選為I~20質量％、2~10質量％、尤其3~8質量％的水溶液。除使用HF的情況以外，蝕刻液的使用溫度優選為20~50°C、20~40°C、20~30°C。蝕刻的時間優選為I~20分鐘、2~15分鐘、尤其3~10分鐘。若進行這樣的蝕刻，則即使在強化處理後實施切斷、端面加工.鑽孔加工等，也能夠得到所需的形狀。此時，優選將強化玻璃截斷為多個小片。
[0107]需要說明的是，可以在對強化玻璃進行遮蔽的工序之前進行對強化玻璃的表面圖案化的工序。由此，能夠 一併實施圖案化，因此能夠有助於降低設備的製造成本。
[0108]實施例1
[0109]以下，對本發明的實施例進行說明。需要說明的是，以下的實施例僅為例示。本發明並不受以下的實施例的限定。
[0110]表1~3表不本發明的實施例(試樣N0.1~21)。需要說明的是，表中的「未」是指未測定。
[0111]【表1】
[0112][表1]
【權利要求】
1.一種強化玻璃，其是在表面具有壓縮應力層的強化玻璃，其特徵在於， 作為玻璃組成，以摩爾％計含有Si0245%-75%、Al2033 %-15%、B2O3O12%,Li2OO%-12%、Na2O0.3%-20%、K200%-10%、Mg0+Ca01%-15%、P2O5O%-10%,
摩爾比(Al203+Na20+P205) / SiO2 為 0.1 -1、摩爾比(B203+Na20) / SiO2 為 0.1 -1、摩爾比P2O5 / SiO2為O-1、摩爾比Al2O3 / SiO2為0.01-1、摩爾比Na2O / Al2O3為0.1-5，並且在強化處理後其表面或端面被蝕刻而成。
2.根據權利要求1所述的強化玻璃，其特徵在於， 作為玻璃組成，以摩爾％計含有Si0245%-75%、Al2034 %-13%、B2O3O%-3%、Li2OO5%-8%、Na205%-20%、K2O0.1%-10%、Mg0+Ca03%-13%、P2O5O%-10%,
摩爾比(Al203+Na20+P205) / SiO2 為 0.1 -0.7、摩爾比(B203+Na20) / SiO2 為 0.1 -0.7、摩爾比 P2O5 / SiO2 為 O -0.5、摩爾比 Al2O3 / SiO2 為 0.01 -0.7、摩爾比 Na2O / Al2O3為0.5-4。
3.根據權利要求1或2所述的強化玻璃，其特徵在於，作為玻璃組成，以摩爾％計含有 Si0245 % -75 %、Al2035 % -12 %、B2O3O % -I %、Li2OO % -4 %、Na208 % -20 %、K2O0.5 % -10 %、Mg0+Ca05 % -13 %、P2O5O % -10 %，
摩爾比(Al203+Na20+P205) / SiO2 為 0.1 -0.5、摩爾比(B203+Na20) / SiO2 為 0.1 -0.5、摩爾比 P2O5 / SiO2 為 O -0.3、摩爾比 Al2O3 / SiO2 為 0.05 -0.5、摩爾比 Na2O / Al2O3為I-3。
4.根據權利要求1-3中任一項所述的強化玻璃，其特徵在於，作為玻璃組成，以摩爾％計含有 Si0245%- 75%, Al2035%- 11%> B2O3O%- 1%, Li200%-4%、Na209%-20%, K2O0.5%-8%、MgOO%-12%、CaOO%-3%、Mg0+Ca05%-12%、P2050%-10%，
摩爾比(Al203+Na20+P205) / SiO2 為 0.1 -0.5、摩爾比(B203+Na20) / SiO2 為 0.1 -0.3、摩爾比 P2O5 / SiO2 為 O -0.2、摩爾比 Al2O3 / SiO2 為 0.05 -0.3、摩爾比 Na2O / Al2O3為1-3。
5.根據權利要求1-4中任一項所述的強化玻璃，其特徵在於，作為玻璃組成，以摩爾％計含有 Si0250%-70%、Al2035%-11%、B2O3O1%, Li2OO^-2%、Na2OlO^-18%、K201%-6%、MgOO%-12%、CaOO%-2.5%、Mg0+Ca05%-12%、P2050%-10%,
摩爾比(Al203+Na20+P205) / SiO2 為 0.2 -0.5、摩爾比(B203+Na20) / SiO2 為 0.15 -0.27、摩爾比 P2O5 / SiO2 為 O -0.1、摩爾比 Al2O3 / SiO2 為 0.07 -0.2、摩爾比 Na2O /Al2O3 為 1 -2.3。
6.根據權利要求1-5中任一項所述的強化玻璃，其特徵在於，被蝕刻後的面的表面粗糙度Ra為Inm以下。
7.根據權利要求1-6中任一項所述的強化玻璃，其特徵在於，所述壓縮應力層的壓縮應力值為200MPa以上、且所述壓縮應力層的厚度為IOym以上。
8.根據權利要求1-7中任一項所述的強化玻璃，其特徵在於，內部拉伸應力為IMPa -200MPa。
9.根據權利要求1-8中任一項所述的強化玻璃，其特徵在於，液相溫度為1250°C以下。
10.根據權利要求1-9中任一項所述的強化玻璃，其特徵在於，液相粘度為.104 0dPa.s 以上。
11.根據權利要求1~10中任一項所述的強化玻璃，其特徵在於，104_°dPa.s時的溫度為1280°C以下。
12.根據權利要求1~11中任一項所述的強化玻璃，其特徵在於，1025dPa.s時的溫度為1620°C以下。
13.根據權利要求1~12中任一項所述的強化玻璃，其特徵在於，密度為2.6g / cm3以下。
14.根據權利要求1~13中任一項所述的強化玻璃，其特徵在於，其利用浮法進行成形--? 。
15.根據權利要求1~14中任一項所述的強化玻璃，其特徵在於，其用於觸摸面板顯示器。
16.根據權利要求1~14中任一項所述的強化玻璃，其特徵在於，其用於行動電話的外殼玻璃。
17.根據權利要求1~14中任一項所述的強化玻璃，其特徵在於，其用於太陽能電池的外殼玻璃。
18.根據權利要求1~15中任一項所述的強化玻璃，其特徵在於，其用於顯示器的保護部件。
19.一種強化玻璃的製造方法，其特徵在於，其具備: 成形工序，使按照以摩爾％計含有Si0245%~75%、A12033%~15%、Li200%~12%、Na2O0.3%~20%、K200%~10%、Mg0+Ca01 %~15%的玻璃組成方式調配成的玻璃原料熔融，成形為板狀； 強化工序，利用離子交換處理形成壓縮應力層，從而得到強化玻璃； 遮蔽工序，對所述強化玻璃的表面進行遮蔽；以及 蝕刻工序，用蝕刻液對所述強化玻璃進行蝕刻。
20.根據權利要求19所述的強化玻璃的製造方法，其特徵在於，在所述遮蔽工序之前具有在所述強化玻璃的表面形成圖案的圖案化工序。
21.根據權利要求19或20所述的強化玻璃的製造方法，其特徵在於，所述蝕刻工序為將所述強化玻璃截斷為多個強化玻璃小片的工序。
22.根據權利要求19~21中任一項所述的強化玻璃的製造方法，其特徵在於，所述蝕刻液含有選自由HF、HCl、H2SO4, HNO3> NH4F, NaOH, NH4HF2所組成的組中的一種或兩種以上的物質。
【文檔編號】G02F1/13GK103476724SQ201280018591
【公開日】2013年12月25日 申請日期:2012年8月17日 優先權日:2011年8月23日
【發明者】村田隆, 東條譽子 申請人:日本電氣硝子株式會社