磁瓦檢測機構的製作方法

2023-05-17 23:13:41

本實用新型涉及磁瓦檢測技術領域，特別涉及一種磁瓦檢測機構。

背景技術：

磁瓦是永磁體中的一種用在永磁電機上的瓦狀磁體，目前國內磁瓦生產量巨大，而磁瓦檢測則依靠人工檢測的方式，傳統的人工檢測主要是基於人的眼睛，由於一些生理上的限制在一些細微的裂紋上很難檢測出來，同時這種方法極易受到外部環境和身體狀況的影響，通常會出現漏檢和誤檢，很難保證磁瓦的品質；這種方法工作量大、重複性高，檢測的效率低下，已不適應磁瓦自動化生產的需要，影響磁瓦生產效率。

技術實現要素：

基於此，有必要提供一種結構簡單且可實現自動檢測的磁瓦檢測機構。

一種磁瓦檢測機構，設置於機架上用於對傳輸組件傳送的磁瓦進行缺陷檢測，所述磁瓦檢測機構包括第一檢測組件、第二檢測組件以及控制器，所述第一檢測組件包括第一檢測支架、第一檢測相機以及第一檢測光源，所述第一檢測支架支撐於所述機架上，且設置於所述傳輸組件的上方；所述第一檢測相機活動設置於所述第一檢測支架上並與所述第一檢測光源配合，用於對所述磁瓦的外弧面、內弧面或邊面中至少一者進行拍照取像；所述第二檢測組件包括第二檢測支架、第二檢測相機、第二檢測光源以及轉向組件，所述第二檢測支架支撐於所述機架上，且設置於所述傳輸組件的上方；所述轉向組件設置於所述第二檢測支架上，用於抓取所述傳輸組件上待檢測所述磁瓦並進行轉向操作，所述第二檢測相機活動設置於所述第二檢測支架上並與所述第二檢測光源配合，用於對轉向後的所述磁瓦的端面進行拍照取像；所述控制器用於根據所述第一檢測組件和所述第二檢測組件的檢測結果對當前所述磁瓦進行缺陷分析。

在其中一個實施例中，所述第一檢測支架包括第一橫梁、第二橫梁、兩根第一立梁、第一相機支架以及第一光源支架，兩根所述第一立梁垂直支撐固定於所述機架上，所述第一橫梁和所述第二橫梁向靠近所述機架的方向間隔連接於兩根所述第一立梁之間，且橫跨於所述傳輸組件上方；所述第一相機支架活動設置於所述第一橫梁上，且包括第一架板、第二架板以及相機固定板，所述第一架板沿垂直所述機架的方向連接於所述第一橫梁，並可在外力作用下沿所述第一橫梁的延長方向橫向移動，所述第二架板連接於所述第一架板遠離所述第一橫梁的一端，並向靠近所述機架的方向延伸。

在其中一個實施例中，所述第二架板的延長方向設置有相機滑槽，所述第一檢測相機通過所述相機固定板沿所述相機滑槽向靠近或遠離所述傳輸組件的方向可滑動地連接於所述第二架板上，並還可通過所述第一架板橫向可滑動地連接於所述第一橫梁上。

在其中一個實施例中，所述第一光源支架活動設置於所述第二橫梁上，且包括光源固定板及間隔設置於所述光源固定板上的兩根支杆；所述光源固定板連接於所述第二橫梁，並可在外力作用下沿所述第二橫梁的延長方向橫向移動，所述光源固定板沿平行所述第二橫梁方向設置有光源滑槽，兩根所述支杆垂直連接於所述光源固定板的相同一側，且橫向可滑動地連接於所述光源滑槽內。

在其中一個實施例中，兩根所述支杆的延長方向均開設長孔。

在其中一個實施例中，所述第一檢測組件還包括第一感應開關，所述第一感應開關設置於兩根所述支杆之間，用於感應所述磁瓦到位後，觸發所述第一檢測相機。

在其中一個實施例中，所述第二檢測支架包括第三橫梁、兩根第二立梁以及兩個相機光源固定板，兩根所述第二立梁垂直支撐固定於所述機架上，所述第三橫梁連接於兩根所述第二立梁之間，且橫跨於所述傳輸組件上方；兩個所述相機光源固定板分別活動設置於兩根所述第二立梁上，並可在外力作用下沿兩根所述第二立梁的延長方向縱向移動。

在其中一個實施例中，所述第二檢測相機為分別對所述磁瓦兩個端面進行拍照取像的兩個，所述第二檢測光源為與兩個所述第二檢測相機相互配合的兩個；兩個所述第二檢測相機和兩個所述第二檢測光源成對配合的設置於兩個所述相機光源固定板上，並可在外力作用下隨對應的所述相機光源固定板沿所述第二立梁上下移動。

在其中一個實施例中，所述轉向組件包括吸附件、升降驅動件以及旋轉驅動件，所述旋轉驅動件安裝於所述第三橫梁上，所述升降驅動件與所述旋轉驅動件連接，所述吸附件設置於所述升降驅動件上，並可在所述升降驅動件的驅動下向靠近或遠離所述傳輸組件的方向移動，並在所述旋轉驅動件的驅動下相對所述第三橫梁旋轉。

在其中一個實施例中，所述第二檢測組件包括第二感應開關，所述第二感應開關設置於所述傳輸組件上且位於兩個所述相機光源固定板之間，用於當感應所述磁瓦進入所述傳輸組件時觸發所述轉向組件進行轉向並觸發所述第二檢測相機進行拍照取像。

本實用新型磁瓦檢測機構設置於機架上，磁瓦放置於傳輸組件上並隨之依次經過第一檢測組件和第二檢測組件，以對磁瓦的外弧面、內弧面、邊面以及端面進行拍照取像，並通過控制器分析判斷磁瓦否存在缺陷，替代人工檢測，以提高磁瓦檢測準確率和檢測效率，並同時提高自動化程度以利於生產效率的提高。

附圖說明

圖1為本實用新型一較佳實施方式中磁瓦檢測機構的結構示意圖；

圖2為本實用新型一較佳實施方式中磁瓦的結構示意圖；

圖3為圖1所示磁瓦檢測機構中第一檢測組件的結構示意圖；

圖4為圖1所示磁瓦檢測機構中第二檢測組件的結構示意圖。

具體實施方式

為了便於理解本實用新型，下面將參照相關附圖對本實用新型進行更全面的描述。附圖中給出了本實用新型的較佳的實施例。但是，本實用新型可以以許多不同的形式來實現，並不限於本文所描述的實施例。相反地，提供這些實施例的目的是使對本實用新型的公開內容的理解更加透徹全面。

需要說明的是，當元件被稱為「固定於」另一個元件，它可以直接在另一個元件上或者也可以存在居中的元件。當一個元件被認為是「連接」另一個元件，它可以是直接連接到另一個元件或者可能同時存在居中元件。本文所使用的術語「垂直的」、「水平的」、「左」、「右」以及類似的表述只是為了說明的目的。

除非另有定義，本文所使用的所有的技術和科學術語與屬於本實用新型的技術領域的技術人員通常理解的含義相同。本文中在本實用新型的說明書中所使用的術語只是為了描述具體的實施例的目的，不是旨在於限制本實用新型。本文所使用的術語「及/或」包括一個或多個相關的所列項目的任意的和所有的組合。

請參看圖1和圖2，本實用新型一較佳實施例中磁瓦檢測機構100，設置於機架200上，用於對由傳輸組件300傳送的磁瓦400進行缺陷檢測，實現磁瓦檢測的自動化。其中，磁瓦400包括外弧面401、與外弧面401相對的內弧面402、分別連接於外弧面401和內弧面402弧長方向的兩側的兩個邊面403以及連接於兩個邊面403之間的兩個端面404。由於磁瓦400的缺陷類型包括磨歪、崩腳、邊裂等十幾種缺陷，且每個面和每種缺陷需要的相機光源均有所不同，因此根據對磁瓦400的不同部位及每個部位的不同缺陷類型，機架200上設置有外弧面磨歪檢測工位、兩個1/2外弧面缺陷檢測工位、內弧面磨歪檢測工位、內弧面缺陷檢測工位、邊面檢測工位以及端面檢測工位共7個檢測工位。

磁瓦檢測機構100設置於機架200的上述7個檢測工位上，用於分別磁瓦400不同部位及不同缺陷進行缺陷檢測。下面將針對設置於上述7個檢測工位上的磁瓦檢測機構100進行詳細說明。在本具體實施例中，外弧面磨歪缺陷檢測工位(以下簡稱第一檢測工位)、兩個1/2外弧面缺陷檢測工位(以下簡稱第二、三檢測工位)、內弧面磨歪缺陷檢測工位(以下簡稱第四檢測工位)、內弧面缺陷檢測工位(以下簡稱第五檢測工位)、邊面檢測工位(以下簡稱第六檢測工位)以及端面檢測工位(以下簡稱第七檢測工位)沿傳輸組件300的傳輸方向依次設置。且由於需要對磁瓦400的外弧面401和內弧面402均進行缺陷檢測，因此在對磁瓦400進行全面檢測的同時需要對磁瓦400進行翻轉。其中，傳輸組件300包括第一輸送件301與第二輸送件302沿磁瓦400的移動方向依次設置並對接形成有高度差。在本具體實施例中，第一輸送件301與第二輸送件302設置於第三檢測工位和第四檢測工位之間。

可以理解地，在其它一些實施例中，7個檢測工位的位置及排列順序可以根據需要而定，對應的第一輸送件301與第二輸送件302的對接位置亦可作匹配性調整，在此均不作限定

具體地，磁瓦檢測機構100包括第一檢測組件10、第二檢測組件30以及控制器(圖未示)。其中，第一檢測組件10為依次設置於第一檢測工位至第六檢測工位的六個，第二檢測組件30設置於第七檢測工位，控制器用於對第一檢測組件10和第二檢測組件30的檢測結果對當前磁瓦400進行缺陷分析

請參看圖3，每個第一檢測組件10包括第一檢測支架11、第一檢測相機13以及第一檢測光源(圖未示)，第一檢測支架11支撐於機架200上，且設置於傳輸組件300的上方。第一檢測相機13活動設置於第一檢測支架11上並與第一檢測光源配合，用於對磁瓦400的外弧面401、內弧面402或邊面403中至少一者進行拍照取像。

第一檢測支架11包括第一橫梁110、第二橫梁111、兩根第一立梁112、第一相機支架113以及第一光源支架114。兩根第一立梁112垂直支撐固定於機架200上，第一橫梁110和第二橫梁111向靠近機架200的方向間隔連接於兩根第一立梁112之間，且橫跨於傳輸組件300上方。第一相機支架113活動設置於第一橫梁110上，且包括第一架板1131、第二架板1132以及相機固定板1133。第一架板1131沿垂直機架200的方向連接於第一橫梁110，並可在外力作用下沿第一橫梁110的延長方向橫向移動。第二架板1132連接於第一架板1131遠離第一橫梁110的一端，並向靠近機架200的方向延伸。第二架板1132的延長方向設置有相機滑槽1134，第一檢測相機13通過相機固定板1133沿相機滑槽1134向靠近或遠離傳輸組件300的方向可滑動地連接於第二架板1132上，並還可通過第一架板1131橫向可滑動地連接於第一橫梁110上。如此，使得每個工位上第一檢測相機13可對應實現對磁瓦400的外弧面401、內弧面402以及邊面403進行拍照取像。

第一光源支架114活動設置於第二橫梁111上，且包括光源固定板1141及間隔設置於光源固定板1141上的兩根支杆1143。光源固定板1141連接於第二橫梁111，並可在外力作用下沿第二橫梁111的延長方向橫向移動。光源固定板1141沿平行第二橫梁111方向設置有光源滑槽1145，兩根支杆1143垂直連接於光源固定板1141的相同一側，且橫向可滑動地連接於光源滑槽1145內。同時，兩根支杆1143的延長方向均開設長孔1147，以安裝不同工位不同規格的光源，例如，條形光、環形光、同軸光以及碗狀光源。此外，兩根支杆1143之間的距離可根據不同工位不同規格光源沿光源滑槽1145進行匹配性調節。第一檢測光源設置於兩根支杆1143上，且位於第一檢測相機13的下方。

進一步地，第一檢測組件10還包括第一感應開關15，第一感應開關15設置於兩根支杆1143之間，用於感應磁瓦400到位後，觸發第一檢測相機13。控制器根據第一檢測相機13獲取的圖像進行判斷當前磁瓦400存在缺陷時，記錄當前磁瓦400的編碼，以便於下料機構50在磁瓦400輸出時進行良品與不良品的分類。

在本具體實施例中，設置於外弧面磨歪缺陷檢測工位(即第一檢測工位)的第一檢測相機13，用於對磁瓦400的外弧面401進行拍照取像，以進行外弧面401上的磨歪缺陷進行檢測。由於磁瓦400的外弧面401弧度較大，採用一部第一檢測相機13可能無法清晰拍到整個外弧面401的缺陷，因此將外弧面401分為兩部分進行簡寫，即設置於第二檢測工位和第三檢測工位的兩個1/2外弧面缺陷檢測工位中第一檢測相機13分別對磁瓦400上對應半個外弧面401進行拍照取像，以對外弧面401上其他缺陷進行檢測。當磁瓦400經過第三檢測工位後，外弧面401的檢測基本完成後即將進行內弧面402的檢測，此時，磁瓦400由第一輸送件301傳輸至第二輸送件302上時，磁瓦400沿著第一輸送件301移動至盡頭，磁瓦400前端落下，第一輸送件301會給磁瓦400後端一個推力，促使磁瓦400完成翻轉並落到第二輸送件302上，以沿第二輸送件301依次進入內弧面磨歪檢測工位、內弧面缺陷檢測工位和邊面檢測工位，使得設置於上述三個工位上的第一檢測相機13對應完成對磁瓦400中內弧面402和邊面403的缺陷檢測。

可以理解地，在其它一些實施例中，可將上述兩個1/2外弧面缺陷檢測工位進行合併為一個工位，且此時合併後的工位上設置對應磁瓦400兩側兩個半外弧面的兩個第一檢測相機13即可，在此不作限定。

請參看圖4，第二檢測組件30包括第二檢測支架31、第二檢測相機32、第二檢測光源33以及轉向組件35。第二檢測支架31支撐於機架200上，且設置於傳輸組件300的上方。轉向組件35設置於第二檢測支架31上，用於抓取傳輸組件300上待檢測磁瓦400並進行轉向操作。第二檢測相機32活動設置於第二檢測支架31上並與第二檢測光源33配合，用於對轉向後的磁瓦400的端面404進行拍照取像。控制器用於根據第一檢測組件10和第二檢測組件30的檢測結果對當前磁瓦400進行缺陷分析。

具體地，第二檢測支架31包括第三橫梁310、兩根第二立梁312以及兩個相機光源固定板314。兩根第二立梁312垂直支撐固定於機架200上，第三橫梁310連接於兩根第二立梁312之間，且橫跨於傳輸組件300上方。兩個相機光源固定板314分別活動設置於兩根第二立梁312上，並可在外力作用下沿兩根第二立梁312的延長方向縱向移動。且本具體實施例中，第二檢測相機32為分別對磁瓦400兩個端面404進行拍照取像的兩個，對應地第二檢測光源33為與兩個第二檢測相機32相互配合的兩個。兩個第二檢測相機32和兩個第二檢測光源33成對配合的設置於兩個相機光源固定板314上，並可在外力作用下隨對應的相機光源固定板314沿第二立梁312上下移動。

轉向組件35包括吸附件350、升降驅動件352以及旋轉驅動件354。旋轉驅動件354安裝於第三橫梁310上，升降驅動件352與旋轉驅動件354連接，吸附件350設置於升降驅動件352上，並可在升降驅動件352的驅動下向靠近或遠離傳輸組件300的方向移動，以吸附傳輸組件300上的磁瓦400，吸附有磁瓦400的吸附件350還可在旋轉驅動件354的驅動下相對第三橫梁310旋轉，以完成所吸附磁瓦300的轉向。在本具體實施例中，磁瓦400進入傳輸組件300並經過第一檢測工位至第六檢測工位時，均為沿延長方向放置於傳輸組件300上；而傳輸至第七檢測工位(即端面檢測工位)時，需將磁瓦400旋轉90度，使得兩個端面304分別朝向兩側的兩個第二檢測相機32，以完成拍照取像。另外，轉向組件35還在兩個第二檢測相機32拍照取像完成後，將當前磁瓦400轉回至初始狀態，並放回於傳輸組件300上進行輸出。

進一步地，第二檢測組件30包括第二感應開關36，第二感應開關36設置於傳輸組件300上且位於兩個相機光源固定板314之間，用於當感應磁瓦400進入對應工位傳輸組件300時觸發轉向組件35進行轉向並觸發兩側的兩個第二檢測相機32進行拍照取像。控制器根據第二檢測相機32獲取的圖像進行判斷當前磁瓦400存在缺陷時，記錄當前磁瓦400的編碼。

在本具體實施例中，第一感應開關15和第二感應開關36均為紅外感應裝置，吸附件350為真空吸頭。可以理解地，在其它一些實施例中，第一感應開關15和第二感應開關36可為其它感應器，且吸附件350為其它抓取部件，在此不作限定。

本實用新型磁瓦檢測機構100設置於機架200上，磁瓦400放置於傳輸組件300上並隨之依次經過第一檢測組件10和第二檢測組件30，以對磁瓦400的外弧面401、內弧面402、邊面403以及端面404進行拍照取像，並通過控制器分析判斷磁瓦400是否存在缺陷，替代人工檢測，以提高磁瓦檢測準確率和檢測效率，並同時提高自動化程度以利於生產效率的提高。

以上所述實施例的各技術特徵可以進行任意的組合，為使描述簡潔，未對上述實施例中的各個技術特徵所有可能的組合都進行描述，然而，只要這些技術特徵的組合不存在矛盾，都應當認為是本說明書記載的範圍。

以上所述實施例僅表達了本實用新型的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細，但並不能因此而理解為對實用新型專利範圍的限制。應當指出的是，對於本領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬於本實用新型的保護範圍。因此，本實用新型專利的保護範圍應以所附權利要求為準。