一種皮膜模具的製作方法

2023-11-08 20:16:57

本發明涉及模具技術領域，尤其涉及一種皮膜模具。

背景技術：

皮膜一般採用的是平板硫化機模壓成型。由於在模壓成型中，模具受到的衝擊力大，中心導柱易磨損，容易產生間隙造成產品內圓飛邊厚度不均勻且飛邊易脫落，形成老化膠；皮膜的壁厚薄，型腔較深，因飛邊不均勻影響產品外觀且易燙壞產品；中心導柱磨損產生間隙就會溢膠，浪費膠料；中心導柱磨損降低模具的定位精度，產品易單邊。

技術實現要素：

基於背景技術中存在的技術問題，本發明提出了一種皮膜模具。

本發明提出的一種皮膜模具，包括上下布置的上模板、下模板；

上模板遠離下模板一側設有上模墊板，上模板與上模墊板之間通過第一螺栓固定成整體結構形成上模，上模板靠近下模板一側設有上模芯，上模板靠近下模板一側外沿位置設有至少一個外導柱和至少一個定位滑槽；

下模板遠離上模板一側設有下模墊板，下模板與下模墊板之間通過第二螺栓固定成整體結構形成下模，下模板靠近上模板一側與上模芯相對應位置設有與上模芯相適配的下模芯，下模板靠近上模板一側外沿位置設有至少一個外導套和至少一個定位滑塊；

在合模狀態下，上模板、上模芯、下模板、下模芯之間配合形成型腔，且外導柱與外導套配合連接，定位滑塊與定位滑槽配合連接。

優選的，靠近型腔中部位置設有第一撕邊槽。

優選的，型腔中位於上模芯與下模芯之間位置設有第二撕邊槽。

優選的，靠近型腔外緣位置設有第三撕邊槽。

優選的，第三撕邊槽外圍設有餘料槽。

優選的，所述外導柱與所述外導套的數量均為四個，四個外導柱、四個外導套分別呈圓周均布，且四個外導柱與四個外導套一一對應設置。

優選的，所述定位滑塊與所述定位滑槽的數量均為四個，四個定位滑塊、四個定位滑槽分別呈圓周均布，且四個定位滑塊與四個定位滑槽一一對應設置。

本發明提出的皮膜模具，在上模板上沿圓周方向均布設置有四個外導柱，在下模板上與四個外導柱相對應位置處設置有四個外導套，當合模時通過外導柱對下模板進行導向和粗定位；在下模板的四周還均布有四個定位滑塊，相應的，在上模板上與定位滑塊對應位置處設置有定位滑槽，合模時，通過定位滑塊滑入定位滑槽實現模具的精確定位，通過雙重定位能夠進一步提高橡膠製動皮膜的質量，保證其定位精度，提高了產品的合格率及生產效率；本發明取消了中心導柱定位極大地改善了產品內圓的飛邊狀態，使飛邊容易去除且降低了產品燙壞的機率，且不會產生老化膠，有效防止在生產過程中膠料溢出，節約了膠料。

附圖說明

圖1為本發明提出的一種皮膜模具的結構示意圖；

圖2為圖1中a處放大結構示意圖；

圖3為圖1中b處放大結構示意圖；

圖4為圖1中c處放大結構示意圖；

圖5為本發明提出的一種皮膜模具的俯視圖。

具體實施方式

如圖1-圖5所示，圖1為本發明提出的一種皮膜模具的結構示意圖；圖2為圖1中a處放大結構示意圖；圖3為圖1中b處放大結構示意圖；圖4為圖1中c處放大結構示意圖；圖5為本發明提出的一種皮膜模具的俯視圖。

參照圖1-圖5，本發明提出一種皮膜模具，包括上下布置的上模板1、下模板2；

上模板1遠離下模板2一側設有上模墊板3，上模板1與上模墊板3之間通過第一螺栓8固定成整體結構形成上模，上模板1靠近下模板2一側設有上模芯5，上模板1靠近下模板2一側外沿位置設有四個呈圓周均布的外導柱6和四個呈圓周均布的定位滑槽17。

下模板2遠離上模板1一側設有下模墊板4，下模板2與下模墊板4之間通過第二螺栓9固定成整體結構形成下模，下模板2靠近上模板1一側與上模芯5相對應位置設有與上模芯5相適配的下模芯10，下模板2靠近上模板1一側外沿位置設有四個呈圓周均布的外導套11和四個呈圓周均布的定位滑塊7。

在合模狀態下，上模板1、上模芯5、下模板2、下模芯10之間配合形成型腔12，且四個外導柱6與四個外導套11配合連接，四個定位滑塊7與四個定位滑槽配合17連接。

在具體實施例中，靠近型腔12中部位置設有第一撕邊槽13。型腔12中位於上模芯5與下模芯10之間位置設有第二撕邊槽14。靠近型腔12外緣位置設有第三撕邊槽15，第三撕邊槽15外圍設有餘料槽16。

本發明提出的一種皮膜模具，在上模板1上沿圓周方向均布設置有四個外導柱6，在下模板2上與四個外導柱6相對應位置處設置有四個外導套11，當合模時通過外導柱6對下模板2進行導向和粗定位；在下模板2的四周還均布有四個定位滑塊7，相應的，在上模板1上與定位滑塊對應位置處設置有定位滑槽17，合模時，通過定位滑塊7滑入定位滑槽17實現模具的精確定位，通過雙重定位能夠進一步提高橡膠製動皮膜的質量，保證其定位精度，提高了產品的合格率及生產效率；本發明取消了中心導柱定位極大地改善了產品內圓的飛邊狀態，使飛邊容易去且降低了產品燙壞的機率，且不會產生老化膠，有效防止在生產過程中膠料溢出，節約了膠料。

以上所述，僅為本發明較佳的具體實施方式，但本發明的保護範圍並不局限於此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發明揭露的技術範圍內，根據本發明的技術方案及其發明構思加以等同替換或改變，都應涵蓋在本發明的保護範圍之內。