雙面圈絨織物的製作方法

2023-12-06 09:28:16 2

專利名稱：雙面圈絨織物的製作方法
技術領域：
本實用新型屬紡織技術領域，涉及一種織物，更具體地說，是涉及一種雙面均具有圈和絨的織物。
背景技術：
現在市場上的家紡類、裝飾類產品，運用了各種絲絨、毛巾織物，可謂五彩繽紛。其中，絨類製品由於其雍榮華貴的氣質和風貌，倍受消費者的青睞。相對於雙面圈絨織物，中國專利申請號為200910012520. 3公開了一種雙面凹凸絲絨，包括由底緯線和底經線交織而成的底織物，以及固結於底緯線、間隔於底經線間的絨經線，其結構要點是絨經線的絨頭相鄰或者相背地分別位於底織物的兩側面上，形成雙面凹凸的絲絨；雖然增強了織物的立體感，但凹面卻是露底的。近年來，隨著雙梭口織機的進口，也出現了一種單面圈絨織物，可由於進口雙梭口圈絨織機價格十分昂貴，因此這種單面圈絨織物也十分昂貴；為此，中國專利申請號為 200810146849. 4公開了一種由地經紗地緯紗組成的二層底織物和在該二層底織物的最外二面起毛圈的毛圈經紗，以及能將二層織物連接在一起的絨經紗交替交織一起形成雙層絨織物，經從兩層織物中間割開絨經紗然後形成一上一下，面對面，二片一面毛圈一面絨的割絨織物。但這種織物只能是一面絲絨，一面毛圈，不能在同一面同時有絲絨有毛圈。又如2006年6月《天津工業大學學報》上公開的一篇名為《雙層絨毛毛巾織物的試織》，其中該絨毛毛巾織物由毛圈、絨毛和底布構成。其毛圈和絨毛是由織物組織和特殊的送經及打緯機構聯合作用所形成的。將地經與絨經和毛經分別卷繞在兩個織軸上，織造中，地經、毛經均分成上、下兩層。上層的地經和毛經與表緯交織成上層織物，並通過特殊的送經機構及長、短打緯運動，使織物上表面形成毛圈；同樣，下層的地經和毛經與裡緯交織成下層織物，在織物的下表面形成毛圈；絨經則位於兩層織物之間，交替與上下層，即表緯和裡緯紗交織。織物織造完畢後，經過割絨工序將其分成兩幅一面絨毛一面毛巾的織物。這種織物最終也只是一面絲絨一面毛圈，而且，織造這種織物的設備由於只是二個經軸織軸、 毛圈經和絨經送經量不能分開調節，絨毛高度和毛圈的大小受到了極大的制約，同時也不能構成圈絨同面存在的雙面圈絨織物。而用雙面毛巾織物通過挖割剪毛而成的雙面圈絨織物，由於要將部分毛圈變成絨毛，需將該部分毛圈剪去5 15%的毛圈經紗原料，浪費很多，還汙染環境。而毛經紗在單位長度織造固結點多，則形成的毛圈就相對較少，經剪割而成的絨毛就相對稀少，外觀就比較粗糙；而如果毛圈經紗單位長度織造固結點少了，形成的毛圈雖然相對多了，經剪割的絨毛也相應的增多，但絨毛的牢度因織造固結點少又受到影響。因此，這種經剪割的雙面圈絨又很難滿足市場的高品質需求。
發明內容本實用新型就是針對上述問題，彌補現有技術的不足，提供一種能夠在同一面上既有圈又具有絨，並且可以形成圖案的雙面圈絨織物，以及生產該雙面圈絨織物的織造方法和該織造方法所採用的設備，既能環保生產，又能使生產成本大大降低。為實現本實用新型的上述目的，本實用新型採用如下技術方案。本實用新型是由至少一個圈絨單元首尾依次相連構成，所述的圈絨單元包括基布經紗、基布緯紗、絨經紗和圈經紗；所述的基布經紗和基布緯紗交織構成基布，所述的絨經紗和圈經紗分別與基布交織，使基布每一側均具有圈和絨；所有圈絨單元的絨經紗各自獨立，相鄰圈絨單元的圈經紗為連續的。進一步地，所述的基布緯紗是由基布緯紗一、基布緯紗二、基布緯紗三、基布緯紗四以及基布緯紗五組成；所述的基布經紗是由基布經紗一、基布經紗二組成。更進一步地，所述圈絨單元的基布經紗一與基布經紗二在基布緯紗一之前交叉織造，再在基布緯紗二和基布緯紗三之間交叉織造，然後在基布緯紗四和基布緯紗五之間交叉織造，最後在基布緯紗五之後交叉織造，形成了基布；所述的絨經紗繞過基布緯紗一在基布緯紗一和基布緯紗二之間與基布交織，並在基布緯紗四和基布緯紗五之間與基布交織後，繞過基布緯紗五，絨經紗的兩個絨頭位於基布的同側；所述的圈經紗繞過基布緯紗一在基布緯紗一和基布緯紗二之間與基布交織，並在基布緯紗三和基布緯紗四之間與基布交織，再在基布緯紗四和基布緯紗五之間與基布交織後，繞過基布緯紗五，圈形成在絨頭相對的一側。或者，相鄰兩圈絨單元相接處的絨經紗在第一圈絨單元的基布緯紗四和基布緯紗五之間與基布交織後，繞過基布緯紗五和第二圈絨單元的基布緯紗一，在第二圈絨單元的基布緯紗一和基布緯紗二之間與基布交織；第一圈絨單元的絨經紗絨頭和第二圈絨單元的絨經紗絨頭分別位於基布的兩側。製造本實用新型雙面圈絨織物所採用的方法是織造時，採用由素機龍頭形成的上下兩層相同的基布，並與圈經紗和絨經紗進行織造；圈經紗經過上層送經調節裝置和下層送經調節裝置分別參與上層和下層基布的織造，絨經紗經過送絨裝置及張力調節補償裝置參與並連結了上層和下層基布的織造；而花機龍頭對絨經紗和圈經紗進行提花織造；長打緯、短打緯的起圈打緯裝置對圈經紗又進行了起圈織造；最終，經過割絨、拉緯，形成了本實用新型雙面圈絨織物。具體地，所述上下兩層基布是由至少有一個上層七緯下層七緯共十四緯的圈絨單元，首尾依次相連構成；上層織物包括上層基布經紗一、上層基布經紗二、上層輔助拉緯紗一、上層基布緯紗一、上層基布緯紗二、上層基布緯紗三、上層基布緯紗四、上層基布緯紗五、上層輔助拉緯紗二、以及上層圈經紗和絨經紗構成；同樣，下層織物有下層基布經紗一、 下層基布經紗二、下層輔助拉緯紗一、下層基布緯紗一、下層基布緯紗二、下層基布緯紗三、 下層基布緯紗四、下層基布緯紗五、下層輔助拉緯紗二、以及下層圈經紗和絨經紗構成；當上層織物上側起毛圈、下側起絨毛，下層織物上側起毛圈、下側起絨毛時，織第一梭上層輔助拉緯紗一時，上層基布經紗一和上層基布經紗二和上層圈經紗、絨經紗都沉在下面，織第二梭上層基布緯紗一時，上層基布經紗一和絨經紗往上提，上層基布經紗二和上層圈經紗沉在下面，織第三梭上層基布緯紗二時，上層基布經紗一和上層圈經紗往上提，上層基布經紗二和上層絨經紗沉在下面，當織造第四梭上層基布緯紗三時，上層基布經紗二和上層圈經紗往上提，上層基布經紗一和絨經紗沉在下面，當織造第五梭上層基布緯紗四時，上層基
4布經紗二往上提，上層基布經紗一、上層圈經紗和絨經紗沉在下面，當織造第六梭上層基布緯紗五時，上層基布經紗一、上層圈經紗和絨經紗往上提，上層基布經紗二沉在下面，當織造第七梭上層輔助拉緯紗二時，上層基布經紗一、上層基布經紗二、上層圈經紗和絨經紗都沉在下面；這時開始織造下層，上層織物的上層基布經紗一、上層基布經紗二、上層圈經紗在織造第八梭至第十四梭即下層七梭時都一直提在上面，只有絨經紗返到下層織物參與織造，當織造第八梭下層織物的下層輔助拉緯紗一時，下層基布經紗一、下層基布經紗二和下層圈經紗往上提，絨毛經紗沉在下面，當織造第九梭下層基布緯紗一時，下層基布經紗二、 絨經紗往上提，下層基布經紗一、下層圈經紗沉在下面，當織造第十梭下層基布緯紗二時， 下層基布經紗二、下層圈經紗往上提，下層基布經紗一、絨經紗沉在下面，當織造第十一梭下層基布緯紗三時，下層基布經紗一、下層圈經紗往上提，下層基布經紗二、絨經紗沉在下面，當織造第十二梭下層基布緯紗四時，下層基布經紗一往上提、下層基布經紗二，下層圈經紗、絨經紗沉在下面，當織造十三梭下層基布緯紗五時，下層基布經紗二、下層圈經紗、絨毛經紗往上提，下層基布經紗一沉在下面，當織造第十四梭下層輔助拉緯紗二時，下層基布經紗一、下層基布經紗二、下層圈經紗往上提，絨經紗沉在下面，至此上下層共十四梭的圈絨單元織造結束，進行下一輪循環。而當需要上層織物上側起絨毛、下側起毛圈，下層織物上側起絨毛、下側起毛圈時，織第一梭上層輔助拉緯紗一時，上層基布經紗一、上層基布經紗二和上層圈經紗沉在下面，絨經紗提在上面，織第二梭上層基布緯紗一時，上層基布經紗一、上層圈經紗往上提，上層基布經紗二，絨經紗沉在下面，當織造第三梭上層基布緯紗二時，上層基布經紗一、絨經紗往上提，上層基布經紗二、上層圈經紗沉在下面，當織造第四梭上層基布緯紗三時，上層基布經紗二、絨經紗往上提，上層基布經紗一、上層圈經紗沉在下面，當織造第五梭上層基布緯紗四時，上層基布經紗二、上層圈經紗和絨經紗都往上提，上層基布經紗一沉在下面， 當織造第六梭上層基布緯紗五時，上層基布經紗一往上提，而上層基布經紗二、上層圈經紗、絨經紗均沉在下面，當織造第七梭上層輔助拉緯紗二時，絨經紗往上提，上層基布經紗一、上層基布經紗二、上層圈經紗均沉在下面；這時開始織造下層，上層織物的上層基布經紗一、上層基布經紗二、上層圈經紗在織造第八梭至第十四梭即下層七梭時都一直提在上面，只有絨經紗返到下層參與織造，當織造第八梭下層輔助拉緯紗一時，下層基布經紗一、 下層基布經紗二，下層圈經紗及絨經紗都往上提，當織造第九梭下層基布緯紗一時，下層基布經紗二、下層圈經紗往上提，下層基布經紗一、絨經紗沉在下面，當織造第十梭下層基布緯紗二時，下層基布經紗二、絨經紗往上提，下層基布經紗一、下層圈經紗沉在下面，當織造第十一梭下層基布緯紗三時，下層基布經紗一、絨經往上提，下層基布經紗二、下層圈經紗沉在下面，當織造第十二梭下層基布緯紗四時，下層基布經紗一、下層圈經紗和絨經紗往上提，下層基布經紗二沉在下面，當織造第十三梭下層基布緯紗五時，下層基布經紗二往上提，而下層基布經紗一、下層圈經紗、絨經紗均沉在下面，當織造第十四梭下層輔助拉緯紗二時，下層基布經紗一、下層基布經紗二、下層圈經紗、絨經紗均往上提；至此，上下層共十四梭一個單元織造結束，進行下輪循環。絨經紗從上層織到下層，再從下層織到上層，如此往復循環；最後，經過割絨，便在上層和下層的中間成為絲絨絨頭，而這種絲絨的絨頭，在織造過程中凡是在上層輔助拉緯紗的上側，或下層輔助拉緯紗的下側的；則經過拉緯，這部分的絨頭就會被拉緯拉到上層的上側或下層的下側，而這種絲絨絨頭在織造過程中，凡是在上上層輔助拉緯紗的下側，或下層輔助拉緯紗的上側的，則雖經過拉緯，這部分的絨頭則不受拉緯的影響，則仍留在原位， 這樣就有了雙面都有絨頭的絨布。凡是需要本來是上層上側有絨、下側有圈，下一步要變成上側有圈、下側有絨，只要按照如前所述的織造方法變換一下即可。如此一來，就可以任選圈和絨形成圖案。更進一步地，在上層織物第七梭織造時，第一梭、第二梭、第三梭、第七梭為正常長打緯，以及織造下層的第八梭、第九梭、第十梭、第十四梭一樣正常長打緯，為絨經紗正常運動、正常打緯著，而上層的第四梭、第五梭，下層的第十一梭、第十二梭為短打緯，他們在起著毛巾織造機構中起毛圈的前期準備工作，與織口留有一定的距離、為毛圈經紗起毛圈準備著，而當上層第六梭、下層第十三梭突然長打緯時，上層毛圈經紗在上層基布經紗與上層基布緯紗三四五的夾持下，下層圈經紗在下層基布經紗與下層基布緯紗三四五的夾持下， 經過長打緯，並且經過毛圈經紗經送經機構對毛圈經紗的無張力送經，毛圈經紗就在基布上弓出，引起了毛圈。而需要說明的是，短打緯、長打緯時絨經紗都不會引起毛圈的作用，一是因為絨經紗避開了上層基本緯紗三四五，下層基本緯紗三四五的夾持，二是絨經紗經送經機構張力補償棍張力補償的作用，當上層第六梭長打緯，下層長打緯第十三梭時，絨經張力棍起著張力作用；因此，絨經不會引起毛圈。本實用新型的有益效果本實用新型是在同一層基布上二面都固結有絨毛和絨圈的機織織物，其圈經紗和絨經紗在基布面上組成了各種大小花型和圖案的雙面圈絨機織織物，由於該織物只有一層基布，因此柔軟而舒適，而絨的雍榮華貴，圈的儲水吸溼，圈絨圖案的粗獷豪放，使該織物風格獨特、形式豐富，並且結構緊湊，是進口織機的單面圈絨和雙面毛巾通過挖割而成的雙面圈絨難以達到的。特別適宜於新潮的家紡寢裝，裝飾是一款紡織新品。而且，本實用新型的雙面圈絨織物，可以是大提花的雙面圈絨織物，並不需要因大提花送絨量不一的龐大的絨經筒子架和送毛圈經量不一的寵大的毛圈經筒子架；在普通絨織機上改造即可，大大的降低了生產成本，是其它大小提花絲絨織機毛巾織機包括進口的圈絨織機所難以達到的。

圖1是本實用新型的結構示意圖。圖2是圖1的A-A剖視圖。圖3是圖2結構的具體放大圖。圖4是圖1的後視圖。圖5是圖4的B-B剖視圖。圖6是圖5結構的具體放大圖。圖7是本實用新型同一組圈絨的第一種組織結構的織造方法示意圖。圖8是本實用新型同一組圈絨的第二種組織結構的織造方法示意圖。圖9是本實用新型同一組圈絨因圖案需要由第一種組織結構變換成第二種組織結構的織造方法示意圖。圖10是本實用新型同一組圈絨因圖案需要由第二種組織結構變換成第一種組織結構的織造方法示意圖。[0029]圖11是織造本實用新型雙面圈絨織物的織造設備的結構示意圖。其中J1為基布經紗一，J2為基布經紗二，R為絨經紗，Q為圈經紗，Q1為上層圈經紗，Q2為下層圈經紗，W1為輔助拉緯一，W7為輔助拉緯二，W2為基布緯紗一，W3為基布緯紗二，W4為基布緯紗三，W5為基布緯紗四，W6為基布緯紗五，1為圈經紗襯子，2為絨經紗襯子， 3為地經襯子，4為圈經紗張力調節補償裝置一，5為圈經紗張力調節補償裝置二，6為絨經紗送絨裝置，6-1為絨經紗張力調節補償裝置，7為花機龍頭，8為素機龍頭，9為起圈打緯裝置，10為絨、11為圈。
具體實施方式
下面通過具體的實施例，並結合附圖，對本實用新型的技術方案，作進一步的說明。如圖1所示，是本實用新型的示意圖。而圖4是本實用新型的後視圖，從圖中可以看出，本實用新型為在同一層基布上二面都固結有絨和圈的機織物，即基布的每一側均形成圈11和絨10，所謂的圈11即圈經紗Q露出基布的部分，而所謂的絨即絨經紗R露出基布的部分，由於基布的每一側均具有圈11和絨10，因此，圈11和絨10的交替就能夠在本實用新型的上形成各種圖案，如圖所示，10為絨，11為圈，形成如圖所示的圖案。如圖2和圖5所示，分別是圖1的A-A剖視圖和圖4的B-B剖視圖，圖中，中間為基布，基布兩側均有圈11和絨10。絨10所在的基布背面一定是圈11，而圈11所在的基布背面一定是絨10 ；並且，同一側基布上的絨10和圈11交替排列。如圖3和圖6所示，分別是圖2的結構的具體放大圖以及圖5的結構的具體放大圖。圖3所示的，是織物的上側從左至右是從絨10到圈11，織物的下側，從左到右是從圈11到絨10 ；而圖6所示的，是織物的上側從左至右是從圈11到絨10，織物的下側，從左至右是從絨10到圈11。圖7是本實用新型一種組織結構的織造方法示意圖。圖7所示的是上層織物，上側是圈11，下側是絨10，下層織物的上側是圈11，下側是絨10的一種組織結構，圖中上層織物的基布經紗一 J1和基布經紗二 J2與上層織物的基布緯紗一 W2，基布緯紗二 W3,基布緯紗三w4，基布緯紗四w5，基布緯紗五W6交織構成上層基布，而上層圈經紗A也與上層織物的基布緯紗一 W2，基布緯紗二 W3,基布緯紗三W4,基布緯紗四W5,基布緯紗五W6交織，而絨經紗R 不但與上層織物的基布緯紗一 W2，基布緯紗二 W3,基布緯紗三W4,基布緯紗四W5,基布緯紗五 W6交織，還根據圖案要求避開參與了與上層輔助拉緯紗一 W1和上層輔助拉緯二 W7進行了交織，通過割絨拉緯構成了上側是圈下側是絨的上層織物，而圖中下層織物的基布經紗一 Λ、 基布經紗二 J2與下層織物的基布緯紗一 W2,基布緯紗二 W3,基布緯紗三W4,基布緯紗四W5, 基布緯紗五W6交織構成下層基布，而下層圈經紗A也與下層織物的基布緯紗一 w2，基布緯紗二 W3,基布緯紗三W4,基布緯紗四W5,基布緯紗五W6交織，而絨經紗R在參與了上層織物交織後又返到下層織物參與交織，根據組織結構下層織物上側是圈下側是絨的要求，不但參與了與下層織物的基布緯紗一W2，基布緯紗二W3，基布緯紗三W4，基布緯紗四W5，基布緯紗五評6交織，也還參與了與下層織物的輔助拉緯一W1，輔助拉緯二 W7的交織，通過割絨拉緯從而構成了上側是圈下側是絨的下層織物。[0037]需要重點說明的是，上層織物的毛圈和下層織物的毛圈分別是因為上層織物的基布緯紗三W4,基布緯紗四W5為短打緯，上層織物的基布緯紗五W6為長打緯，上層織物的基布緯紗三W4,基布緯紗四W5,基布緯紗五W6三根基布緯紗將上層圈經紗％夾持打緯而成上層毛圈，而下層織物的基布緯紗三W4,基布緯紗四W5為短打緯，下層的基布緯紗五W6為長打緯，下層織物的基布緯紗三W4,基布緯紗四W5,基布緯紗五W6三根基布緯紗將下層織物的下層圈經紗％夾持打緯而成下層毛圈，再需說明的是，由於絨經紗R是因參與上層織造又參與下層織造如此往返，當絨經紗R從上層織物與下層織物中間用割刀割開時，在二層織物中間形成絨毛，而絨經紗R因為如上所述，避開了在上層織造時與上層織物的輔助拉緯一 W1,輔助拉緯二 W7的織造。因此當將上層織物的輔助拉緯一 W1,輔助拉緯二 W7拉掉時，絨經紗R不受影響仍留在上層織物的下側。而絨經紗R因參與了並與下層織物的輔助拉緯一 W1, 輔助拉緯二 W7交織織造，因此當將下層織物的輔助拉緯一 W1,輔助拉緯二 W7拉掉時，絨毛R 就被拉到了下層織物的下側。再進一步的說明，絨經紗R在經過長打緯，短打緯時不會象圈經紗Q那樣會形成毛圈，一是因為絨經紗R沒有被上層織物的基布緯紗三W4、基布緯紗四W5,下層織物的基布緯紗三W4、基布緯紗四W5夾持，二是因為在上層織物和下層織物的基布緯紗五W6長打緯時，絨經紗R在張力補償器張力補償下，有一定張力，不象圈經紗Q那樣無張力，因此形不成毛圈。我們按照上述，製成表1，將織造方法作更為詳細清晰的說明，圖7的織造情況。表1上層織物上側為圈、下側為絨，下層織物上側為圈，下側為絨時的織法
權利要求1.雙面圈絨織物，其特徵在於由至少一個圈絨單元首尾依次相連構成，所述的圈絨單元包括基布經紗、基布緯紗、絨經紗和圈經紗；所述的基布經紗和基布緯紗交織構成基布，所述的絨經紗和圈經紗分別與基布交織，使基布每一側均具有圈和絨；所有圈絨單元的絨經紗各自獨立，相鄰圈絨單元的圈經紗為連續的。
2.根據權利要求1所述的雙面圈絨織物，其特徵在於所述的基布緯紗是由基布緯紗一、基布緯紗二、基布緯紗三、基布緯紗四以及基布緯紗五組成；所述的基布經紗是由基布經紗一、基布經紗二組成。
3.根據權利要求1所述的雙面圈絨織物，其特徵在於所述圈絨單元的基布經紗一與基布經紗二在基布緯紗一之前交叉織造，再在基布緯紗二和基布緯紗三之間交叉織造，然後在基布緯紗四和基布緯紗五之間交叉織造，最後在基布緯紗五之後交叉織造，形成了基布；所述的絨經紗繞過基布緯紗一在基布緯紗一和基布緯紗二之間與基布交織，並在基布緯紗四和基布緯紗五之間與基布交織後，繞過基布緯紗五，絨經紗的兩個絨頭位於基布的同側；所述的圈經紗繞過基布緯紗一在基布緯紗一和基布緯紗二之間與基布交織，並在基布緯紗三和基布緯紗四之間與基布交織，再在基布緯紗四和基布緯紗五之間與基布交織後，繞過基布緯紗五，圈形成在絨頭相對的一側；或者，相鄰兩圈絨單元相接處的絨經紗在第一圈絨單元的基布緯紗四和基布緯紗五之間與基布交織後，繞過基布緯紗五和第二圈絨單元的基布緯紗一，在第二圈絨單元的基布緯紗一和基布緯紗二之間與基布交織；第一圈絨單元的絨經紗絨頭和第二圈絨單元的絨經紗絨頭分別位於基布的兩側。
專利摘要雙面圈絨織物屬紡織技術領域，涉及一種織物，更具體地說，是涉及一種雙面均具有圈和絨的織物。本實用新型提供一種能夠在同一面上既有圈又具有絨，並且可以形成圖案的雙面圈絨織物。本實用新型是由至少一個圈絨單元首尾依次相連構成，所述的圈絨單元包括基布經紗、基布緯紗、絨經紗和圈經紗；所述的基布經紗和基布緯紗交織構成基布，所述的絨經紗和圈經紗分別與基布交織，使基布每一側均具有圈和絨；所有圈絨單元的絨經紗各自獨立，相鄰圈絨單元的圈經紗為連續的。
文檔編號D03D13/00GK202323243SQ20112048425
公開日2012年7月11日 申請日期2011年11月28日 優先權日2011年11月28日
發明者馮玉, 張士龍, 李笑薇, 楊永發, 田喜梅, 田馳, 鄭曉霞, 陸建華 申請人:楊永發