離子發生器及應用該離子發生器的靜電消除裝置的製作方法
2023-08-11 14:25:11 2
專利名稱：離子發生器及應用該離子發生器的靜電消除裝置的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及靜電消除技術領域，尤其涉及一種離子發生器及應用該離子發生器的靜電消除裝置。
背景技術：
在生產板體材料的過程中，如在生產硬紙板、塑料板或液晶面板等的過程中，前一工序和後一工序之間板體材料的傳送通常藉助於傳送帶或機器手等來進行，其中傳送帶或機器手不斷與板體材料接觸容易因為摩擦而產生靜電離子，這些靜電離子聚積在板體材料表面容易形成靜電積累，如果靜電積累達到一定程度將影響生產的持續進行或對板體材料自身造成損害。例如，如果靜電積累達到一定程度，使得板體材料與機器手之間具有較大的吸附力，則容易造成板體材料難以從機器手上脫離，影響機器手的持續搬運工作。或者，如果靜電積累達到一定程度，使得傳送帶之間具有較大的吸附力，這時通過外力將板體材料從傳送帶上取下時，對硬紙板或塑料板而言容易使其折彎或變形，對用於生產液晶面板的玻璃基板而言容易使其破碎或擊穿。為此，可以使用靜電消除裝置來消除板體材料上積累的靜電。具體而言可以通過離子發生器產生正負離子，利用通過該離子發生器的氣體攜帶這些正負離子並使氣體吹向板體材料，氣體中的正負離子能夠和板體材料上的靜電離子中和，從而達到消除靜電的目的。但是發明人發現，如圖1所示，現有技術中離子發生器包括本體11，本體11上設有配合使用的進氣口 12和出氣口 13，從圖2所示的所述離子發生器的橫截面圖中可知，出氣口 13相對於本體11垂直設置(圖2中點狀陰影表示氣體)，這樣如圖3所示，使得從出氣口 13吹出的氣體垂直地吹向板體材料，出氣口 13的出氣區域較小，從而使得對板體材料靜電消除的範圍較窄，造成無法充分地消除板體材料上的靜電。
實用新型內容本實用新型的實施例提供一種離子發生器，以更充分地消除待處理板體上的靜 H1^ ο為達到上述目的，本實用新型的實施例採用如下技術方案一種離子發生器，包括本體，所述本體中設有允許氣體通過的空腔，所述空腔連接有配合使用的進氣口和出氣口，所述出氣口包括向所述本體傾斜的且交錯設置的第一出氣口和第二出氣口，所述第一出氣口的出氣方向與所述第二出氣口的出氣方向相反。本實用新型實施例提供的離子發生器，由於所述出氣口包括向所述本體傾斜的且交錯設置的第一出氣口和第二出氣口，所述第一出氣口的出氣方向與所述第二出氣口的出氣方向相反，因此從所述第一出氣口和第二出氣口吹出的氣體能夠在相反方向上以一定的傾斜角度吹向待處理板體，這樣所述出氣口總的出氣區域基本上為所述第一出氣口的出氣
4區域與所述第二出氣口的出氣區域的和，從而增大了所述出氣口的出氣區域，並增大了對待處理板體靜電消除的範圍，能夠更充分地消除待處理板體上的靜電。本實用新型的實施例提供一種靜電消除裝置，以更充分地消除待處理板體上的靜電。為達到上述目的，本實用新型的實施例採用如下技術方案一種靜電消除裝置，包括離子發生器，包括本體，所述本體中設有允許氣體通過的空腔，所述空腔連接有配合使用的進氣口和出氣口，所述進氣口連接有氣體傳送管路，所述出氣口朝向待處理板體；氣體傳送管路，與所述進氣口連接為所述離子發生器提供氣體；其中，所述出氣口包括向所述本體傾斜的且交錯設置的第一出氣口和第二出氣口，所述第一出氣口的出氣方向與所述第二出氣口的出氣方向相反。本實用新型實施例提供的靜電消除裝置，由於在所述離子發生器中，所述出氣口包括向所述本體傾斜的且交錯設置的第一出氣口和第二出氣口，所述第一出氣口的出氣方向與所述第二出氣口的出氣方向相反，因此從所述第一出氣口和第二出氣口吹出的氣體能夠在相反方向上以一定的傾斜角度吹向待處理板體，這樣所述出氣口總的出氣區域基本上為所述第一出氣口的出氣區域與所述第二出氣口的出氣區域的和，從而增大了所述出氣口的出氣區域，並增大了對待處理板體靜電消除的範圍，能夠更充分地消除待處理板體上的靜電。
圖1為現有技術中離子發生器的示意圖；圖2為圖1所示離子發生器的橫截面圖；圖3為圖1所示離子發生器的出氣區域示意圖；圖4為本實用新型實施例離子發生器的示意圖；圖5為圖4中沿虛線所示剖切面的剖視圖；圖6為圖4所示離子發生器的出氣區域示意圖；圖7為本實用新型實施例中所述出氣口的設置結構一；圖8為本實用新型實施例中所述出氣口的設置結構二 ；圖9為本實用新型實施例中所述出氣口的設置結構三；圖10為本實用新型靜電消除裝置的一個實施例；圖11為對圖10所示靜電消除裝置的出氣區域分析圖；圖12為對圖10所示靜電消除裝置改進後的示意圖；圖13為本實用新型靜電消除裝置的另一個實施例；圖14為對圖13所示靜電消除裝置改進後的示意圖；圖15為對圖13所示靜電消除裝置進一步改進後的示意圖。附圖標記11-本體，12-進氣口，13-出氣口；21-本體，22-空腔，23-進氣口二4_出氣口，241-第一出氣口，M2-第二出氣口，251-第一出氣區域，252-第二出氣區域，2-離子發生器，3-氣體傳送管路，4-玻璃基板， 5-交換緩存區，6-電磁閥，7-控制器，8-控制終端，9-玻璃基板傳送窗口。
具體實施方式
以下結合附圖對本實用新型實施例離子發生器及應用該離子發生器的靜電消除裝置進行詳細描述。應當明確，所描述的實施例僅僅是本實用新型的一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬於本實用新型保護的範圍。如圖4所示，為本實用新型離子發生器的一個具體實施例。本實施例中，所述離子發生器包括本體21，本體21中設有允許氣體通過的空腔22 (參見圖幻，空腔22連接有配合使用的進氣口 23和出氣口 M，出氣口 M包括向本體21傾斜的且交錯設置的第一出氣口 241和第二出氣口 M2，且如圖5所示，第一出氣口 241的出氣方向與第二出氣口 242的出氣方向相反。本實施例中的離子發生器，由於出氣口 M包括向本體21傾斜的且交錯設置的第一出氣口 Ml和第二出氣口 M2，第一出氣口 241的出氣方向與第二出氣口 242的出氣方向相反，因此從第一出氣口 241和第二出氣口 242吹出的氣體能夠在相反方向上以一定的傾斜角度吹向待處理板體，這樣出氣口 M總的出氣區域基本上為第一出氣口 241的出氣區域與第二出氣口 242的出氣區域的和，從而增大了出氣口 M的出氣區域，並增大了對待處理板體靜電消除的範圍，能夠更充分地消除待處理板體上的靜電。具體在圖4和圖5所示的狀態中，第一出氣口 241的出氣方向朝向遠離進氣口 23 的方向，第二出氣口 242的出氣方向朝向靠近進氣口 23的方向。需要說明的是，在本實用新型的各實施例中，對第一出氣口 241的出氣方向和第二出氣口 242的出氣方向沒有特定的限制，能夠使第一出氣口 241的出氣方向與第二出氣口 242的出氣方向相反即可。如圖6所示，在第一出氣口 241的出氣方向朝向遠離進氣口 23的方向時，由第一出氣口 241吹出的氣體在待處理板體上形成第一出氣區域251。類似地，在第二出氣口 242 的出氣方向朝向靠近進氣口 23的方向時，由第一出氣口 242吹出的氣體在待處理板體上形成第二出氣區域252。這樣出氣口對總的出氣區域基本上為第一出氣區域251與第二出氣區域252的和。由此可知，與圖3所示的出氣區域相比，本實施例中提供的離子發生器所形成的出氣區域較大，因此增大了對待處理板體靜電消除的範圍，能夠更充分地消除待處理板體上的靜電。在本實用新型的各實施例中，將第一出氣口 241和第二出氣口 242以朝向本體21 傾斜並且交錯的方式設置在本體21上時，可以有多種設置結構。下面通過舉例來說明這些設置結構，但應當理解的是，除這裡所列舉的示例外，所述離子發生器還可以有其他的設置結構。因此，這裡所列舉的示例僅僅是示意性的，而不是限制性的。這裡具體列舉三種設置結構。第一種設置結構，如圖7所示，將第一出氣口 241和第二出氣口 242交錯排列在同一條直線上，並設置第一出氣口 241和第二出氣口 242的傾斜方向，以使第一出氣口 241的出氣方向朝右，第二出氣口 242的出氣方向朝左。[0043]在圖7中，為簡便起見，以「<」表示第一出氣口 241，「」表示第二出氣口 242，「>」的開口方向即為第二出氣口 242的出氣方向。從圖7可知，由第一出氣口 241吹出的氣體可以形成第一出氣區域251，由第二出氣口 242吹出的氣體可以形成第二出氣區域252，且第一出氣區域251和第二出氣區域252 很少發生重合，這樣所述出氣口 M的總的出氣區域即為第一出氣區域251和第二出氣區域 252的和，大大增加了對待處理板體的靜電消除範圍。但是在此設置結構下，相鄰的第一出氣口 241和第二出氣口 242之間的區域(如圖7中打陰影線的區域)難以形成出氣區域， 從而使得待處理板體上該區域內的靜電難以消除。第二種設置結構，如圖8所示，將第一出氣口 241排列在第一直線上，將第二出氣口 242排列在與所述第一直線平行的第二直線上，且使第一出氣口 241的出氣區域與第二出氣口 242的出氣區域部分重合。為此，在圖8中可以使第一出氣口 241的出氣方向朝右， 使第二出氣口 242的出氣方向朝左，並使第一出氣口 241與第二出氣口 242相對設置。同樣地，在圖8中，為簡便起見，以「< 」表示第一出氣口對1，「」表示第二出氣口對2，「>」的開口方向即為第二出氣口 242的出氣方向。由圖8可知，將第一出氣口 241排列在第一直線上，將第二出氣口 242排列在第二直線上，且使第一出氣口 241與第二出氣口 242相對之後，可以使第一出氣區域251與第二出氣區域252部分重合，因此，在該設置結構下相鄰的第一出氣口 241和第二出氣口 242之間的區域也可以形成出氣區域，能夠更充分地對待處理板體上的靜電進行消除。此外，由圖8還可知，由於第一出氣口 241和第二出氣口 242交錯設置，因此由第一出氣口 241吹出的氣流不會與由第二出氣口 242吹出的氣流直接相對從而使兩氣流發生幹涉(在圖8所示狀態下，兩相對氣流發生幹涉後將產生由紙面垂直向外的氣流，此時相對於待處理板體而言形成了吹向該待處理板體的垂直氣流)，而是使第一出氣區域251和第二出氣區域252形成互補，增大了所述出氣口 M的出氣區域。第三種設置結構，如圖9所示，將第一出氣口 241排列在第一直線上，將第二出氣口 242排列在與所述第一直線平行的第二直線上，且使第一出氣口 241的出氣區域與第二出氣口 242的出氣區域不發生重合。為此，在圖9中可以使第一出氣口 241的出氣方向朝右，使第二出氣口 242的出氣方向朝左，並使第一出氣口 241與第二出氣口 242相背設置。同樣地，在圖9中，為簡便起見，以「< 」表示第一出氣口對1，「」表示第二出氣口對2，「>」的開口方向即為第二出氣口 242的出氣方向。從圖9可知，在此設置結構下，第一出氣區域251和第二出氣區域252很少發生重合，這樣所述出氣口 M的總的出氣區域即為第一出氣區域251和第二出氣區域252的和， 大大增加了對待處理板體的靜電消除範圍。但是與圖7所示的情況類似，此時相鄰的第一出氣口 241和第二出氣口 242之間的區域難以形成出氣區域，從而使得待處理板體上該區域內的靜電難以消除。在上述三種設置結構中，通過對第一出氣口 241和第二出氣口 242的傾斜方向進行設置，可以使第一出氣口 241的出氣方向朝右，使第二出氣口 242的出氣方向朝左。但並
7不局限於此，在其他的設置結構中，也可以對第一出氣口 241和第二出氣口 242的傾斜方向進行其他設置，以使第一出氣口 241和第二出氣口 242的出氣方向朝向除朝右和朝左之外的其他方向，如朝向右上方、右下方、左上方以及左下方等。而且，在上述三種設置結構中，還可以對第一出氣口 241和第二出氣口 242朝向本體21傾斜時的傾斜角度進行設置。參考圖5所示，該傾斜角度可以使用第二出氣口 M2 (或第一出氣口 Ml)與本體21之間的夾角A表示。夾角A越小，表明第二出氣口或第一出氣口 Ml)向本體21的傾斜程度越大。其中夾角A的取值可以為大於0小於90°，優選地夾角A的取值可以為30° 60°，更優選地夾角A的取值可以為45°，這些取值可以根據實際需要的出氣方向以及出氣區域等進行選擇。此外，在本實用新型的實施例中，還可以將第一出氣口 241朝向本體21的傾斜角度和第二出氣口 242朝向本體21的傾斜角度設置為相同或者不同。再次參考圖5，可知所述離子發生器的空腔22 (圖5中，空腔22內的點狀陰影表示氣體)的橫截面包括大端221和小端222，空腔22在大端221處的尺寸大於空腔22在小端222處的尺寸，進氣口 23設在大端221處，可以使氣體容易通過進氣口 23進入到空腔22 中，出氣口 M設在小端222處，可以增大氣體從出氣口流出時的流速，進而使氣流吹向待處理板體時具有較大的作用力，有利於氣流中攜帶的正負離子與待處理板體上積累的靜電離子中和。類似地，對於所述離子發生器的空腔22的縱截面，也可以進行與所述橫截面類似的設置。再次參考圖6，每個第一出氣口 Ml (或每個第二出氣口對幻的出氣區域兩側邊界的夾角可以用夾角B表示。夾角B越大，表明第一出氣口或第二出氣口 M2)的出氣區域越大。通過調整第一出氣口 Ml (或第二出氣口對幻的形狀以及尺寸可以實現調整第一出氣口或第二出氣口對幻的出氣區域大小。其中，第一出氣口 241的出氣區域兩側邊界的夾角可以為20° 50°，優選地可以為25° 45°，更優選地可以為30° ；第二出氣口 242的出氣區域兩側邊界的夾角可以為20° 50°，優選地可以為25° 45°，更優選地可以為30°。而且，第一出氣口 241的出氣區域兩側邊界的夾角和第二出氣口 242 的出氣區域兩側邊界的夾角可以相同或者不同。本實施例中，所述待處理板體可以是液晶面板、製造液晶面板所用的玻璃基板 (包括空白的玻璃基板和已經通過構圖工藝製作出一部分圖案的玻璃基板)、紙板、以及塑料板等。除此之外，本實用新型實施例還提供了一種靜電消除裝置。如圖10或圖13所示， 本實施例中所述靜電消除裝置包括離子發生器2，參見圖4至圖6所示，該離子發生器2包括本體21，本體21中設有允許氣體通過的空腔22，空腔22連接有配合使用的進氣口 23和出氣口 24，進氣口 23連接有氣體傳送管路3，出氣口 M朝向待處理板體(如玻璃基板4)；氣體傳送管路3，與進氣口 23連接，為離子發生器2提供氣體；其中，出氣口 M包括向本體21傾斜的且交錯設置的第一出氣口 241和第二出氣口 M2，第一出氣口 241的出氣方向與第二出氣口 242的出氣方向相反。本實施例中的靜電消除裝置，由於在離子發生器2中，出氣口 M包括向本體21傾斜的且交錯設置的第一出氣口 241和第二出氣口 M2，第一出氣口 241的出氣方向與第二出氣口 242的出氣方向相反，因此從第一出氣口 241和第二出氣口 242吹出的氣體能夠在相反方向上以一定的傾斜角度吹向待處理板體，這樣出氣口 M總的出氣區域基本上為第一出氣口 241的出氣區域與第二出氣口 242的出氣區域的和，從而增大了出氣口 M的出氣區域，並增大了對待處理板體靜電消除的範圍，能夠更充分地消除待處理板體上的靜電。在圖10或圖13所示的實施例中，所述靜電消除裝置所使用的離子發生器2的數目為兩個，且該兩個離子發生器2圍繞待處理板體(如玻璃基板4)相對設置，這樣可以對待處理板體形成氣體對流，從而使得對待處理板體的靜電消除更加充分。當並不局限於此， 在本實用新型的其他實施例中，實際所使用的離子發生器2的數目可以為1個。或者，實際所使用的離子發生器2的數目可以為兩個以上，且該兩個以上的離子發生器中的至少一對離子發生器2圍繞待處理板體相對設置，以對待處理板體形成氣體對流，從而使得對待處理板體的靜電消除更加充分。需要說明的是，在靜電消除裝置的實施例中所使用的離子發生器與上述離子發生器實施例中所使用的離子發生器在結構和功能上相同，因此這裡對所述離子發生器2不再進行詳細描述，具體可以參見上述離子發生器實施例中的說明。類似地，本實施例中，所述待處理板體可以是液晶面板、製造液晶面板所用的玻璃基板(包括空白的玻璃基板和已經通過構圖工藝製作出一部分圖案的玻璃基板)、紙板、以及塑料板等。本實施例中具體以玻璃基板為例來具體說明所述靜電消除裝置，本實施例中涉及的玻璃基板不僅包括空白的玻璃基板，而且包括已經通過構圖工藝製作出一部分圖案的玻璃基板。在液晶面板的製造工藝中，尤其是在陣列曝光(Array Photo)的工藝中，用於製造液晶面板的玻璃基板在傳送的過程中由於與傳送機構摩擦容易在玻璃基板表面產生靜電積累，當靜電積累達到一定程度時容易發生靜電擊穿，或者在將玻璃基板從加工設備的載臺上取下時，由於靜電所產生的吸附作用使玻璃基板較牢固地吸附在載臺上，如果使用較大的外力將玻璃基板強行取下則容易引起玻璃基板破片(Glass Broken)，因此需要對所述玻璃基板進行靜電消除。下面對於所述玻璃基板，通過適合在以下兩個場景中應用的實施例來說明所述靜電消除裝置。但應當理解的是，除以下兩個應用場景外，本實施例中所述靜電消除裝置還可以應用在其他的場合中。因此下面的兩個實施例僅僅是示意性的，而不是限制性的。實施例一該實施例適用於對曝光製程之前在交換緩存區(Interface Buffer)中存儲的玻璃基板進行靜電消除。交換緩存區為在曝光製程之前暫時存儲玻璃基板的區域，這是因為在曝光製程中需要對玻璃基板進行精確對位後再進行曝光，加工等待時間(Tact Time)較長，因此在前一製程完畢之後傳送過來的玻璃基板需要在交換緩存區中暫存一段時間，待曝光製程空閒後再將交換緩存區中的玻璃基板傳送到曝光製程中。如圖10所示，在該實施例中，所述靜電消除裝置包括離子發生器2，該離子發生器2包括本體21，本體21中設有允許氣體通過的空腔 22，空腔22連接有配合使用的進氣口 23和出氣口 24，進氣口 23連接有氣體傳送管路3，出氣口 M朝向玻璃基板4，且出氣口 M包括向本體21傾斜的且交錯設置的第一出氣口 241和第二出氣口對2，第一出氣口 241的出氣方向與第二出氣口 242的出氣方向相反。且本實施例中設有相對設置的兩個離子發生器2，該相對設置的兩個離子發生器2之間的連線與玻璃基板4平行，即在圖10所示狀態下，當玻璃基板4在交換緩存區5 (為清楚起見，將交換緩存區5透明顯示)中水平放置時，相對設置的兩個離子發生器2在交換緩存區5中垂直放置。而且，該相對設置的兩個離子發生器2圍繞玻璃基板4的兩個相對對角設置，即一個離子發生器2設在玻璃基板4的左下對角處，另一個離子發生器2設在玻璃基板4的與該左下對角相對的右上對角處。所述靜電消除裝置還包括氣體傳送管路3，氣體傳送管路3與進氣口 23連接，為離子發生器2提供氣體。當具體用於消除玻璃基板上的靜電離子時，為保證所述玻璃基板的潔淨和乾燥，以避免對玻璃基板造成損傷，因此需要使用潔淨度和乾燥度較高的氣體來攜帶正負離子以對玻璃基板上的靜電離子進行中和。例如，所述氣體可以使用潔淨乾燥氣體 (Clean Dry Air, CDA)。本實施例中，離子發生器2產生正負離子，由氣體傳送管道3傳送的氣體經進氣口 23進入離子發生器2後，攜帶所產生的正負離子由出氣口 M流出形成氣流，該氣流吹向玻璃基板4使氣流中攜帶的正負離子與玻璃基板4上積累的靜電離子相中和，從而消除玻璃基板4上的靜電。且本實施例中，離子發生器2中具有多個出氣口 24，該多個出氣口 M中的一部分朝向玻璃基板對的上表面，另一部分朝向玻璃基板M的下表面，因此由出氣口 M 吹出的氣流能夠吹向玻璃基板4的上表面和下表面，以便對於玻璃基板4的上表面和下表面上的靜電離子都能夠進行中和。使相對設置的兩個離子發生器2圍繞玻璃基板4的對角設置時，由這兩個離子發生器2的出氣口 M所形成的出氣區域能夠在玻璃基板的上表面或下表面上形成互補。例如，如圖11所示，設置在左下對角處的離子發生器的出氣口 M所形成的出氣區域與設置在右上角處的離子發生器的出氣口 M所形成的出氣區域在玻璃基板4的表面上形成互補，從而使得在圖10所示的設置方式下，所述離子發生器2能夠形成較大的出氣區域，進而增大對玻璃基板4靜電消除的範圍，以便更加充分地消除玻璃基板4上積累的靜電。需要說明的是，本實施例中並不局限於將相對設置的兩個離子發生器2圍繞玻璃基板4的對角線設置，還可以將相對設置的兩個離子發生器2圍繞玻璃基板4的相對側邊進行設置。另外，由實際使用可知，離子發生器2的出氣口 M與玻璃基板4之間的距離對玻璃基板4的靜電消除效果具有一定的影響，出氣口 M距離玻璃基板4越近，靜電消除時間越短效果越好，反之出氣口 M距離玻璃基板4越遠，靜電消除時間越長效果越差。一般而言，當將出氣口 M與玻璃基板4之間的距離設置為900毫米 1200毫米時，靜電消除所需要的時間為6秒 9秒；當將出氣口 M與玻璃基板4之間的距離設置為600毫米 900毫米時，靜電消除所需要的時間為3秒 6秒；當將出氣口 M與玻璃基板4之間的距離設置為300毫米 600毫米時，靜電消除所需要的時間為0秒(不含0) 3秒。因此，本實施例中為了能夠在較短的時間內達到較好的靜電消除效果，由圖10可知，可以將出氣口 M與距出氣口 M最近的玻璃基板4的部位(如玻璃基板4的左下對角) 之間的距離L設置為300毫米 1200毫米，優選設置為300毫米 900毫米，再優選地設置為300毫米 600毫米。一般情況下，可以設置為400毫米。
10[0078]此外如圖12所示，本實施例中還可以在氣體傳輸管路3上設置電磁閥6，電磁閥6 連接有控制器7，控制器7在接收到打開指令時控制打開電磁閥6，電磁閥6打開後能夠向離子發生器2傳輸氣體，控制器7在接收到關閉指令時控制關閉電磁閥6，電磁閥6關閉後能夠停止向離子發生器2傳輸氣體。其中可以通過設置程序自動向控制器7發送打開指令或關閉指令，也可以手動向控制器7發送打開指令或關閉指令。進一步地，本實施例中控制器7還可連接有用於控制搬運玻璃基板4的機器手的控制終端8，控制終端8控制所述控制器7與所述機器手同時啟動或停止。這樣在機器手開始搬運玻璃基板4時，控制器7就啟動電磁閥6打開以向離子發生器7傳輸氣體，並開始對玻璃基板4進行靜電中和；在機器手停止搬運玻璃基板4時，控制器7就關閉電磁閥6以停止向離子發生器7傳輸氣體，並停止對玻璃基板4進行靜電中和。或者，本實施例中還可以使控制器7提前啟動或延時關閉，以保證在搬運玻璃基板4的過程中能夠對玻璃基板4進行充分的靜電消除。例如，控制終端8可以控制所述控制器7啟動第一預定時間後再控制所述機器手啟動、或者控制所述機器手停止第二預定時間後再控制所述控制器7停止。其中，所述第一預定時間和第二預定時間可以相同或不同。實施例二該實施例適用於對曝光製程中的玻璃基板進行靜電消除。其中玻璃基板的曝光製程在曝光機中進行，玻璃基板可以通過曝光機的玻璃基板傳送窗口(Glass Transfer Window)進入到曝光機中，當玻璃基板在該玻璃基板傳送窗口中傳送時可以對玻璃基板進行靜電消除。如圖13所示，在該實施例中，所述靜電消除裝置包括離子發生器2，該離子發生器2包括本體21，本體21中設有允許氣體通過的空腔 22，空腔22連接有配合使用的進氣口 23和出氣口 24，進氣口 23連接有氣體傳送管路3，出氣口 M朝向玻璃基板4，且出氣口 M包括向本體21傾斜的且交錯設置的第一出氣口 241 和第二出氣口 M2，第一出氣口 241的出氣方向與第二出氣口 242的出氣方向相反。且本實施例中設有相對設置的兩個離子發生器2，該相對設置的兩個離子發生器2之間的連線與玻璃基板4垂直，即在圖13所示狀態下，當玻璃基板4在玻璃基板傳送窗口 9 (為清楚起見，將玻璃基板傳送窗口 9透明顯示)中水平放置時，相對設置的兩個離子發生器2在玻璃基板傳送窗口 9中也水平放置。而且，該相對設置的兩個離子發生器2圍繞玻璃基板4的上表面和下表面相對設置，即一個離子發生器2設在玻璃基板4的上表面處，另一個離子發生器2設在玻璃基板4的與下表面處。所述靜電消除裝置還包括氣體傳送管路3，氣體傳送管路3與進氣口 23連接，為離子發生器2提供氣體。當具體用於消除玻璃基板上的靜電離子時，為保證所述玻璃基板的潔淨和乾燥，以避免對玻璃基板造成損傷，因此需要使用潔淨度和乾燥度較高的氣體來攜帶正負離子以對玻璃基板上的靜電離子進行中和。例如，所述氣體可以使用潔淨乾燥氣體 (Clean Dry Air, CDA)。本實施例中，一個離子發生器2設置在玻璃基板4的上表面上方，另一個離子發生器2設置在玻璃基板4的下表面下方，這兩個離子發生器2所產生的攜帶有正負離子的氣流可以吹到玻璃基板4的上表面和下表面上，因此不僅能夠對玻璃基板4的上表面上積累的靜電離子進行中和，而且能夠對玻璃基板4的下表面上積累的靜電離子進行中和。尤其
11是在對玻璃基板4的下表面上積累的靜電離子進行中和後，可以減小玻璃基板4與曝光機載臺之間的吸附力，這樣在曝光完成後將玻璃基板4從載臺上取下時，不需要向玻璃基板4 施加較大的外力，可以減少玻璃基板4破片的可能性。另外，由實際使用可知，離子發生器2的出氣口 M與玻璃基板4之間的距離對玻璃基板4的靜電消除效果具有一定的影響，出氣口 M距離玻璃基板4越近，靜電消除時間越短效果越好，反之出氣口 M距離玻璃基板4越遠，靜電消除時間越長效果越差。一般而言，當將出氣口 M與玻璃基板4之間的距離設置為900毫米 1200毫米時，靜電消除所需要的時間為6秒 9秒；當將出氣口 M與玻璃基板4之間的距離設置為600毫米 900毫米時，靜電消除所需要的時間為3秒 6秒；當將出氣口 M與玻璃基板4之間的距離設置為300毫米 600毫米時，靜電消除所需要的時間為0秒(不含0) 3秒。因此，本實施例中為了能夠在較短的時間內達到較好的靜電消除效果，由圖13可知，可以將出氣口 M與距出氣口 M最近的玻璃基板4的部位(如玻璃基板4的上表面) 之間的距離L設置為300毫米 1200毫米，優選設置為300毫米 900毫米，再優選地設置為300毫米 600毫米。一般情況下，可以設置為400毫米。此外如圖14所示，本實施例中還可以在氣體傳輸管路3上設置電磁閥6，電磁閥6 連接有控制器7，控制器7在接收到打開指令時控制打開電磁閥6，電磁閥6打開後能夠向離子發生器2傳輸氣體，控制器7在接收到關閉指令時控制關閉電磁閥6，電磁閥6關閉後能夠停止向離子發生器2傳輸氣體。其中可以通過設置程序自動向控制器7發送打開指令或關閉指令，也可以手動向控制器7發送打開指令或關閉指令。進一步地，本實施例中控制器7還可連接有用於控制搬運玻璃基板4的機器手的控制終端8，控制終端8控制所述控制器7與所述機器手同時啟動或停止。這樣在機器手開始搬運玻璃基板4時，控制器7就啟動電磁閥6打開以向離子發生器7傳輸氣體，並開始對玻璃基板4進行靜電中和；在機器手停止搬運玻璃基板4時，控制器7就關閉電磁閥6以停止向離子發生器7傳輸氣體，並停止對玻璃基板4進行靜電中和。或者，本實施例中還可以使控制器7提前啟動或延時關閉，以保證在搬運玻璃基板4的過程中能夠對玻璃基板4進行充分的靜電消除。例如，控制終端8可以控制所述控制器7啟動第一預定時間後再控制所述機器手啟動、或者控制所述機器手停止第二預定時間後再控制所述控制器7停止。其中，所述第一預定時間和第二預定時間可以相同或不同。進一步地，本實施例中還可以將圖12所示的靜電消除裝置和圖14所示的靜電消除裝置通過氣體傳輸管路3連接起來，連接起來後的結構如圖15所示。在連接起來之後， 可以通過一個氣源對氣體傳輸管路3供氣，能夠減少氣源的設置，降低成本。以上所述，僅為本實用新型的具體實施方式
，但本實用新型的保護範圍並不局限於此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本實用新型揭露的技術範圍內，可輕易想到變化或替換，都應涵蓋在本實用新型的保護範圍之內。因此，本實用新型的保護範圍應所述以權利要求的保護範圍為準。
權利要求1.一種離子發生器，其特徵在於，包括本體，所述本體中設有允許氣體通過的空腔，所述空腔連接有配合使用的進氣口和出氣口，所述出氣口包括向所述本體傾斜的且交錯設置的第一出氣口和第二出氣口，所述第一出氣口的出氣方向與所述第二出氣口的出氣方向相反。
2.根據權利要求1所述的離子發生器，其特徵在於， 所述第一出氣口和所述第二出氣口排列在同一條直線上；或，所述第一出氣口排列在第一直線上，所述第二出氣口排列在與所述第一直線平行的第二直線上，且所述第一出氣口的出氣區域與所述第二出氣口的出氣區域部分重合。
3.根據權利要求1或2所述的離子發生器，其特徵在於，所述空腔的橫截面和/或縱截面包括大端和小端，所述空腔在所述大端處的尺寸大於在所述小端處的尺寸，所述進氣口設在所述大端處，所述出氣口設在所述小端處。
4.根據權利要求3所述的離子發生器，其特徵在於， 所述第一出氣口的出氣區域兩側邊界的夾角為20° 50°區域兩側邊界的夾角為20° 50°。
5.根據權利要求4所述的離子發生器，其特徵在於， 所述第一出氣口的出氣區域兩側邊界的夾角為25° 45°區域兩側邊界的夾角為25° 45°。
6.根據權利要求5所述的離子發生器，其特徵在於， 所述第一出氣口的出氣區域兩側邊界的夾角為30°，所述第二出氣口的出氣區域兩側邊界的夾角為30°。
7.一種靜電消除裝置，其特徵在於，包括離子發生器，包括本體，所述本體中設有允許氣體通過的空腔，所述空腔連接有配合使用的進氣口和出氣口，所述進氣口連接有氣體傳送管路，所述出氣口朝向待處理板體； 氣體傳送管路，與所述進氣口連接為所述離子發生器提供氣體； 其中，所述出氣口包括向所述本體傾斜的且交錯設置的第一出氣口和第二出氣口，所述第一出氣口的出氣方向與所述第二出氣口的出氣方向相反。
8.根據權利要求7所述的靜電消除裝置，其特徵在於，所述離子發生器的數目為至少兩個，至少兩個所述離子發生器中的至少一對所述離子發生器圍繞所述待處理板體相對設置。
9.根據權利要求8所述的靜電消除裝置，其特徵在於，相對設置的至少一對所述離子發生器之間的連線與所述待處理板體平行，且至少一對所述離子發生器圍繞所述待處理板體的相對側邊相對設置；或者， 至少一對所述離子發生器圍繞所述待處理板體的對角相對設置。
10.根據權利要求8所述的靜電消除裝置，其特徵在於，相對設置的至少一對所述離子發生器之間的連線與所述待處理板體垂直，且至少一對所述離子發生器圍繞所述待處理板體的上表面和下表面相對設置。
11.根據權利要求9或10所述的靜電消除裝置，其特徵在於，所述出氣口與距所述出氣口最近的所述待處理板體的部位之間的距離為300毫米 1200毫米。
12.根據權利要求11所述的靜電消除裝置，其特徵在於，所述出氣口與距所述出氣口最近的所述待處理板體的部位之間的距離為300毫米 900毫米。
13.根據權利要求12所述的靜電消除裝置，其特徵在於，所述出氣口與距所述出氣口最近的所述待處理板體的部位之間的距離為300毫米 600毫米。
14.根據權利要求13所述的靜電消除裝置，其特徵在於，所述出氣口與距所述出氣口最近的所述待處理板體的部位之間的距離為400毫米。
15.根據權利要求7至10任一項所述的靜電消除裝置，其特徵在於，在所述氣體傳輸管路上設有電磁閥，所述電磁閥連接有控制器，所述控制器在接收到打開指令時控制打開所述電磁閥，所述控制器在接收到關閉指令時控制關閉所述電磁閥。
16.根據權利要求15所述的靜電消除裝置，其特徵在於，所述控制器連接有用於控制搬運所述待處理板體的機器手的控制終端，所述控制終端控制所述控制器與所述機器手同時啟動或停止，或者所述控制終端控制所述控制器啟動第一預定時間後再控制所述機器手啟動、或控制所述機器手停止第二預定時間後再控制所述控制器停止。
17.根據權利要求16所述的靜電消除裝置，其特徵在於，所述待處理板材包括液晶顯示器中使用的玻璃基板。
專利摘要本實用新型公開了一種離子發生器和應用該離子發生器的靜電消除裝置，涉及靜電消除技術領域，為能夠更充分地消除待處理板體上的靜電而設計。所述離子發生器包括本體，所述本體中設有允許氣體通過的空腔，所述空腔連接有配合使用的進氣口和出氣口，所述出氣口包括向所述本體傾斜的且交錯設置的第一出氣口和第二出氣口，所述第一出氣口的出氣方向與所述第二出氣口的出氣方向相反。所述靜電消除裝置中設有上述離子發生器。本實用新型可用於消除靜電。
文檔編號H05F3/06GK201994560SQ20102059216
公開日2011年9月28日 申請日期2010年10月29日 優先權日2010年10月29日
發明者李文鋒 申請人:北京京東方光電科技有限公司