反射片、具備該反射片的反射式顯示器件及其製造方法
2023-07-31 16:49:21
專利名稱：反射片、具備該反射片的反射式顯示器件及其製造方法
技術領域：
本發明涉及在OA裝置、個人計算機、行動電話、可攜式信息終端等中使用的液晶顯示元件，尤其是在利用反射外光進行圖象顯示的液晶顯示裝置中使用的反射片及其製造方法，以及反射式液晶顯示器件及其製造方法。
近年來，隨著AV裝置或信息裝置的小型化和薄型化，對於這些裝置來說，對作為受光式顯示器件的液晶顯示器件的需要不斷高漲起來。至於信息裝置，由於多媒體社會的到來，人們正在尋求可以裝配在便攜性更高的筆記本式個人計算機中的液晶顯示器件。此外，在可攜式信息終端的領域內，則正在尋求更為薄型、重量更輕、功耗更低的液晶顯示器件。
作為這樣的液晶顯示器件，有把背照光源配置在液晶面板的背面上的透過式和配置反射片並把外光用作照明光的反射式。另外，還有具備半反射鏡，即在明亮環境下以反射外光進行照明，在暗環境下兼用背照光的半透過式。特別是反射式和半透過式液晶顯示器件，由於採用反射外光的辦法來顯示圖象，通常不需要背照光源等的光源，故與現有的透過式液晶顯示器件比較，可以低功耗、薄型和輕重量化。通常，在反射式液晶顯示器件中，在背面把由鋁或銀構成的散射反射片配置在液晶面板的背後，但在適用於手錶等的黑白顯示的器件中，在玻璃的外側粘貼具有偏振光板的散射反射片。此外，作為反射式液晶顯示器件的顯示模式，主要使用TN(扭曲向列)方式、STN(超扭曲向列)方式和含有二色性色素的賓主方式等等。
然而，在該反射式液晶顯示器件中，為了得到更為明亮更為良好的顯示，必須使入射光在垂直於顯示畫面的正視角方向上進行反射和散射，以增加光的強度。此外，對於入射光來說，理想的是，不僅要使從規定的方向以恆定的角度入射的外光在正視角方向上進行反射和散射，對於從各種方向以任意角度入射的外光也都要使之在正視角方向上同樣地進行反射和散射。因此。需要製作可以把從任意的方向入射進來的外光作為顯示光且可高效率利用的具有最佳反射特性的反射片。在這裡，所謂最佳的反射特性，指反射片具有在寬廣的範圍內而且以高反射率反射入射光的特性。
在使用現有的反射片，例如使用在基板上形成了鏡面狀金屬膜的反射片的情況下，只有在正反射方向上才反射入射光，在正反射方向以外的方向上，反射率低。因此，存在著在正視角方向等觀察者的觀看方向上，顯示畫面變暗，導致顯示品質顯著劣化的問題。
對於這樣的課題，例如在日本專利特開平4-243226號公報中，公開了一種具備具有凹凸形狀的散射反射片的反射式液晶顯示面板。在該公報中所述的散射反射片，由於其反射面的形狀均一而且以良好的再現性形成，故用以下的方法製作。即，如圖33A所示，在玻璃基板201上塗敷光刻膠膜202。其次，如圖33B所示，用已構圖為規定形狀的光掩模203覆蓋光刻膠膜202並進行曝光。接著，用顯影劑使曝光後的光刻膠膜202顯影，形成如圖33C所示的多個凸部204。在該凸部204的剖面形狀中，由於其拐角大致上是直角，故需要使凸部204的拐角變成為圓角。因此，採用熱處理的辦法使之變成為圖33D所示的那種形狀。此外在已形成了該凸部204的玻璃基板201上蒸鍍Ag形成金屬反射膜206(圖33E)。用以上的步驟製成散射反射片。
此外，對於上述的課題，在例如特開平6-27481號公報等中公開了一種具有減輕向正反射區域反射的入射光的反射特性的象素電極。根據該公報，如圖34所示，反射片210具有這樣的構成在已形成了多個凸部212a、212b的基板211上設置高分子樹脂膜214，再在該高分子樹脂膜214上設置象素電極215。且該象素電極215的表面是連續的波紋狀。
作為上述反射片210的形成方法，可以使用以下的方法(圖35)。首先，如圖35A所示，在基板211上，在用旋轉塗敷法塗敷由感光性樹脂構成的光刻膠膜212之後，在規定的溫度下進行預烘烤。接著，如圖35B所示，使用光掩模213，配置在光刻膠膜212的上方進行曝光。其次，用顯影液進行顯影，如圖35C所示，在基板211上形成高度不同的凸部212a、212b。接著，如圖35D所示，在規定的溫度下加熱一個小時對凸部212a、212b進行熱處理。由此，形成使凸部212a、212b的拐角部分變成為圓角的凸部102a、102b。然後，如圖35E所示，在完成熱處理後的基板211上旋轉塗敷高分子樹脂形成高分子樹脂膜214。最後，在該高分子樹脂膜214上，用濺射法形成象素電極215(圖35F)。
還有，根據特開平9-292304號公報，公開了這樣的情況在反射片中，如果把凹凸狀的象素電極表面上的微小的面與基板面所構成的角度定義為傾斜角，則可以藉助於該傾斜角的分布來決定反射片的特性，就是說決定對基板的法線方向的反射率和亮度。
但是，上述現有的反射片，由於採用用光刻膠形成凸部，加熱使之熔融變成圓角的辦法形成凹凸形狀，故其形狀由因熱熔融而形成的自然的圓度決定，要想精密地進行控制是困難的。由此可知，凸部的傾斜角的分布實際上不會形成為使其具有規定的反射特性。因此，上述需要的反射片，其視角方向的亮度是不充分的，在寬廣的範圍內，得不到良好的紙白(paper-white)性。此外，由於出射角度依賴性大，故具有看起來顯示金屬色調等的問題。此外，由於用光刻法形成凸部，故還存在著除去通常的製造工序之外，還要增加工序的問題。
另一方面，為了使單元間隙保持恆定，液晶顯示器件具備在一對基板之間具有規定的大小和高度的襯墊。具體地說，一般在顯示部分的單元內使用球狀的襯墊的同時，在基板周邊塗敷成框狀的密封樹脂中，也混雜地使用球狀或纖維狀的襯墊。但是，若對於具備上述需要的散射反射片的反射式液晶顯示器件，把襯墊散布到基板上，由於該散射反射片是凹凸狀的，故要想在恆定的精度內使單元間隙保持均一是困難的。
此外，在上述需要的散射反射片上，例如已設置有薄膜電晶體(ThinFilm Trasistor，以下簡稱為TFT)或薄膜二極體(Thin Film Diode，以下，簡稱為TFD)等的開關器件216的情況下，由於產生了使象素電極215和該開關器件216電連接的必要性，故形成接觸孔217(圖36E)。但是，在形成上述接觸孔217之際，如果使用下邊要講的現有的方法，則該接觸孔217有時候會堵住，或者變成為比意圖中所需要的開口面積小的接觸孔。就是說，如圖36A到圖36C所示接觸孔217可以與凸部212a、212b同時形成，但是歸因於該凸部212a、212b的形成過程中的進行熱處理之際的熱變形，如圖36D所示，開口部分有時候變小，有時候閉塞。因此，存在著下述產生重大影響的問題即，象素電極215和開關器件216之間的接觸電阻將增大，具備上述反射片的反射式液晶顯示器件的顯示品質劣化。
本發明就是鑑於上述現有的問題而提出的，第1個目的是提供對比度特性、紙白性等的反射特性優良的反射片及其製造方法，以及具備該反射片的反射式液晶顯示器件。
此外，第2個目的是提供使單元間隙保持均一，同時反射特性優良的反射片及其製造方法，以及具備該反射片的反射式液晶顯示器件。
再有，第3個目的是提供在具備上述那樣的反射片的情況下，也可以充分地確保用來使象素電極和開關器件進行電連接的接觸孔的開口大小的反射片的製造方法。
在以下的說明中，決定對密切相關的每一個發明，都粗分為第1發明群和第2發明群進行說明。在第1發明群中，以具有多個凹凸的凹凸構造體為基本單位，對設置有多個該凹凸構造的反射片進行說明。而在第2發明群中，對使被金屬膜覆蓋起來的凹凸和起著作為襯墊的作用的支持部分一體性地成型的反射片進行說明。為了解決上述課題，本發明的反射片特徵在於，具備以具有多個凹凸的凹凸構造體為基本單位，且設置有多個該凹凸構造的基板和在上述凹凸構造體上設置的光反射性薄膜。
上述光反射性薄膜設於上述凹凸構造體上，該光反射性薄膜的表面形狀為與凹凸構造體的形狀相應的形狀。此外，由於各個凹凸構造體具有多個凹凸，故通過例如使該凹凸的分布等變化，就可以容易地控制凹凸構造體的平面形狀和剖面形狀。由此，可以使來自任意的方向的入射光不僅在正反射方向，在反射片的正面方向等方向上進行反射和散射。
在上述的構成中，設於上述基板上的上述凹凸構造體可以作成隨機地分散配置在任意的方向上。
在上述的構成中，由於作為基本單位的凹凸構造體已變成不以恆定周期重複的構造，故可以抑制光的幹涉的發生，可以抑制例如反射光的帶色現象。
此外，在上述的構成中，可以作成使上述凹凸構造體中的凹凸的頂部的高度位置或底部的深度位置相互不同。
由此，可以在設於凹凸構造體上的光反射性薄膜上形成傾斜面。此外，採用擴大或縮小頂部和頂部或底部和底部之間的高度差的辦法，可以控制傾斜角使傾斜面與基板面構成的角(以下，叫做傾斜角)增大或縮小。結果，光反射性薄膜的表面，可以在具有各向異性的範圍的方向上使光反射和散射，不僅在正反射方向，對規定的角度範圍內的方向都可以明亮地反射。此外，若使凹凸構造體具備3個以上的頂部，則由於各個頂部間的高度位置不同，故可以控制傾斜角的分布或使剖面形狀變成為非對稱。例如，把3個以上的頂部配置為使得它們的高度位置連續地增高，而且，在一個頂部上的高低差與在另一個頂部上的高低差不同，則在傾斜角上將產生分布。這樣一來，通過改變各個高低差就可以控制為所希望的傾斜角分布。此外，若作成為使3個以上的頂部的高度位置慢慢地變高，在某一點處出現了峰值，然後又慢慢地變低下去這樣的不連續的配置，則剖面形狀可以成為非對稱的凹凸構造體。
此外，在上述的構成中，上述凹凸構造體，可以作成使高度不同的多個微小的柱狀部分彼此獨立地或至少一部分結合的柱狀部分集合體。
在上述的構成中，通過把多個微小的柱狀部分形成為高度各自不同且將變成規定的高度分布，就可以精密地控制在柱狀部分集合體上設置的光反射性薄膜的傾斜角分布。其結果是，可以提供具有紙白性等優良的反射特性的反射片。
此外，在上述的構造中，其特徵在於上述凹凸構造體的高度分布，峰值位於從中心部分向特定的方向偏離開來的位置上，而且具有從該峰值朝向周緣呈現減少傾向的分布狀態，覆蓋上述凹凸構造體的上述光反射性薄膜的表面，是上述特定方向上的曲率比在與上述特定方向相反的方向上的曲率大的曲面。
此外，在上述的構成中，其特徵在於在上述凹凸構造體與光反射性薄膜之間，至少設置1層高分子樹脂膜。
倘採用上述的構成，即便是在各個凹凸構造體的間隔距離大的情況下，也可以使與基板面平行的平坦部分變成為平緩的曲面狀。由此，由於不形成與基板平行的平坦區域，故可以減少在正反射方向上反射的光。此外，在凹凸構造體是柱狀部分集合體的情況下，即便是柱狀部分間的谷部深，填埋高分子樹脂層的結果，可以使該谷部變成為使高度分布連續地變化的那種平緩的曲面狀。此外，在凹凸構造體為階梯狀構造體的情況下，可以使高度分布變成為連續地變化的平緩的曲面狀，使得在光反射性薄膜的形狀中，反映不出臺階部分的形狀。
此外，在上述的構成中，上述反射片可以作成為衍射式反射片多個上述凹凸構造體周期性地設置在上述基板上，使光進行反射衍射。
此外，在上述的構成中，其特徵在於上述凹凸構造體的平面形狀中的大小在1微米以上100微米以下的範圍內。
為了解決上述課題，本發明的反射片，具備設置有非線性器件的基板；設置在上述基板上，且在規定的區域內具有凹凸構造的感光性樹脂層；既是在上述感光性樹脂層上設置的具有光反射性的象素電極，又是通過在該感光性樹脂層上設置的接觸孔與上述非線性器件電連接的象素電極，其特徵在於在上述接觸孔的底部設有光反射性膜。
倘採用上述構成，由於在接觸孔的形成位置上已設置有光反射膜，故在進行曝光之際，光在該光反射膜的附近被反射。為此，在接觸孔的形成位置處，與其它的將被曝光的區域比較，曝光量得以增大。因此，在進行顯影之際，為了形成剖面形狀大體上為臺形形狀的接觸孔，通過執行例如熱處理工序，使得即便是發生了熱變形，也可以防止接觸孔的底部閉塞。因此，可以實現能夠抑制接觸電阻的增大和動作不良等的反射片。
為了解決上述課題，本發明的反射片，具備已設置有非線性器件的基板；設置在上述基板上，且在規定的區域內具有凹凸構造的感光性樹脂層；既是在上述感光性樹脂層上設置的具有光反射性的象素電極，又是通過在該感光性樹脂層上設置的接觸孔與上述非線性器件電連接的象素電極，其特徵在於在上述接觸孔的底部上，設置表面能比上述感光性樹脂層的表面能還大的薄膜。
倘採用上述構成，由於在接觸孔的形成位置上設置表面能比感光性樹脂層的表面能還大的框狀的薄膜，故即便是因執行熱處理工序而發生了熱變形，也可以防止因該感光性樹脂層流動而使接觸孔的底部閉塞。因此，可以實現抑制了接觸電阻的增大和動作不良等的反射片。
再有，在上述的構成中，其特徵在於在上述感光性樹脂層中的接觸孔的內壁附近的交聯率比其它的部分大。
倘採用上述的構成，由於可以通過向接觸孔附近照射例如短波長波段的紫外線或電子射線進行該接觸孔的內壁附近的交聯以使之硬化，故可以進一步防止因熱處理而產生的熱變形。
為了解決上述課題，本發明的反射片，具備已設置有非線性器件的基板；設置在上述基板上，且在規定的區域內具有凹凸構造的感光性樹脂層；既是在上述感光性樹脂層上設置的具有光反射性的象素電極，又是通過在該感光性樹脂層上設置的接觸孔與上述非線性器件電連接的象素電極，其特徵在於上述接觸孔被設置為使得其內壁附近的交聯率比其它的部分大。
倘採用上述的構成，由於可以採用向接觸孔附近照射例如短波長波段的紫外線或電子射線的辦法進行該接觸孔的內壁附近的交聯，故結果是可以防止因熱處理而產生的熱變形。
為了解決上述的課題，其特徵在於具備具有透明性的對置基板；與上述對置基板相向的反射片，其構成以具有多個凹凸的凹凸構造體為基本單位，並具備設置有多個該凹凸構造體的基板和在上述凹凸構造體上設置的光反射性薄膜；以及被夾持在上述對置基板和反射片之間的液晶層。
倘採用上述的構成，則可以提供具備對比度特性和紙白性優良的反射片的反射式液晶顯示器件。
為了解決上述的課題，本發明的反射片的製造方法，具備在基板上形成感光性樹脂層的工序；通過具有以規定形狀構圖的遮光部分的光掩模，向感光性樹脂層上照射光的曝光工序；使光照射後的上述感光性樹脂層顯影，形成多個光刻膠柱的顯影工序；通過對已經形成了上述多個光刻膠柱的基板施行熱處理，形成使高度不同的多個微小的柱狀部分彼此相互獨立，或者至少一部分結合而構成的柱狀部分集合體的熱處理工序；在上述柱狀部分集合體上形成光反射性薄膜的工序，其特徵在於作為上述多個光掩模，使用以使大小彼此不同的微小的遮光部分的集合作為一個構成單位，並形成了多個該構成單位的掩模。
在上述的方法中，首先在使在基板上形成的感光性樹脂層曝光後，採用進行顯影的辦法，形成多個高度分布恆定的光刻膠柱。此外，採用對已形成了該光刻膠柱的基板施行熱處理的辦法，可以形成使光刻膠柱發生變形以形成多個高度彼此不同的微小的柱狀部分。各個柱狀部分的高度之所以不同，是因為熱處理工序前的光刻膠柱的形狀與遮光部分的大小和形狀對應，變成為彼此不同的形狀的緣故。例如，在使用光刻膠柱上的平面形狀的面積與熱變形後的光刻膠柱的高度(就是說，柱狀部分的高度)滿足一次函數的關係的感光性樹脂材料，而且，在規定的溫度範圍內設定處理溫度的情況下，該面積越大的光刻膠柱，則可以形成越高的柱狀部分。因此，採用使上述面積發生變化的辦法，就可以進行控制地形成柱狀部分的高度，結果是可以製作精密地控制設於柱狀部分集合體上的放射性薄膜的傾斜角分布的反射片。
為了解決上述的課題，本發明的反射片的製造方法的特徵是具備在基板上形成感光性樹脂層的工序；通過具有使光的遮擋率階梯狀地變化的遮光部分的光掩模，向上述感光性樹脂層上照射光的曝光工序；使光照射後的上述感光性樹脂層顯影以形成多個階梯狀的光刻膠柱的顯影工序；通過對形成了上述多個光刻膠柱的基板施行熱處理，使該光刻膠柱的拐角圓角化，形成具有多個階梯狀的臺階的階梯狀構造的熱處理工序；在上述階梯狀構造體上形成光反射性薄膜的工序。
倘採用上述的方法，結果就變成為相應於光掩模中的遮光部分的光的遮擋率向感光性樹脂層照射光。其結果是，由於可以對每一區域使光分解或交聯的程度不同，故在進行顯影工序之際，端面形狀將形成階梯狀的光刻膠柱。此外，採用熱處理工序，可以形成具有多個階梯狀的臺階部分的階梯狀構造體。這樣一來，採用藉助於改變上述光掩模中的光的遮擋率形成可以控制臺階部分的高度位置的階梯狀構造體的辦法，就可以精密地控制在該階梯狀構造體上設置的光反射性薄膜的傾斜角分布。
為了解決上述的課題，本發明的反射片的製造方法的特徵在於具備下述工序在基板上形成感光性樹脂層的工序；製備具有以規定形狀構圖的遮光部分的多個光掩模，上述遮光範圍的大小對每一個光掩模來說彼此不同，且不論在哪一個光掩模中，在該光掩模的遮光部分和具有較小的遮光範圍的遮光部分之間，具有在該遮光部分的遮光範圍內包含該較小的遮光範圍的關係，並從遮光部分的遮光範圍大的光掩模開始順次使用上述光掩模向上述感光性樹脂層照射光的曝光工序；使光照射後的上述感光性樹脂層顯影以形成多個階梯狀的光刻膠柱的顯影工序；通過對形成了上述多個光刻膠柱的基板施行熱處理，使該光刻膠柱的拐角圓角化，形成具有多個階梯狀的臺階的階梯狀構造的熱處理工序；在上述階梯狀構造體上形成光反射性薄膜的工序。
倘採用上述的方法，則藉助於進行至少2次以上的曝光工序，對每一個曝光工序都使用使遮光範圍不斷變窄的那樣的光掩模，對每一個區域控制累加曝光量。由此，由於使每一個區域光分解或交聯的程度都不同，故當進行顯影工序後就可以形成階梯狀的光刻膠柱，結果，可以形成具有多個階梯狀的臺階部分的階梯狀構造體。
為了解決上述的課題，根據本發明的反射片的製造方法，其中該反射片具有已形成了非線性器件的基板、在上述基板上設置且在規定的區域上具有凹凸構造體的感光性樹脂層、以在上述感光性樹脂層上設置的具有光反射性的象素電極，其又是通過在該感光性樹脂層上設置的接觸孔與上述非線性器件電連接的象素電極，該製造方法的特徵是具備下述工序在上述基板上形成非線性器件的工序；在上述接觸孔的形成位置上形成已構圖為規定的形狀的光反射膜的光反射膜形成工序；向上述基板和光反射膜上塗敷感光性樹脂材料的工序；通過具有已構圖為規定的形狀的遮光部分的光掩模，向上述感光性樹脂材料進行光照射的曝光工序；使光照射後的上述感光性樹脂材料顯影，形成具備在上述接觸孔和規定的區域上形成的多個光刻膠柱的感光性樹脂層的顯影工序；通過對上述感光性樹脂層進行熱處理，使多個上述光刻膠柱的緣部熱變形以圓角化的熱處理工序；通過對使上述感光性樹脂層進行熱處理使之硬化的後烘烤工序；在上述感光性樹脂層上形成具有光反射性的象素電極的象素電極形成工序。
倘採用上述的方法，由於在接觸孔的形成位置上要預先形成光反射膜。故在上述曝光工序中在進行光照射之際，在該光反射膜附近光被反射。結果是在光反射膜附近的曝光量比將被曝光的其它的區域多。此外，藉助於顯影工序，還可以形成剖面形狀大體上為臺形形狀的接觸孔。在該接觸孔上的開口部分的形狀和大小，雖然與光掩模的圖形形狀大體上是對應的，但是，隨著向底部前進而變大。
接著，採用對在規定的區域上形成的多個光刻膠柱進行熱處理的辦法，使它們的緣部熱變形。這時，雖然在上述接觸孔的開口部分或內壁面上也將發生熱變形，但是，由於剖面形狀已變成為臺形，故得以形成可以防止底部閉塞的接觸孔。其結果是，得以形成可以抑制接觸電阻的增加和動作不良的反射片。
為了解決上述的課題，根據本發明的反射片的製造方法，該反射片具有已形成了非線性器件的基板、在上述基板上設置且在規定的區域上具有凹凸構造體的感光性樹脂層、以及在上述感光性樹脂層上設置的具有光反射性的象素電極，其又是通過在該感光性樹脂層上設置的接觸孔與上述非線性器件電連接的象素電極，該製造方法的特徵是具備下述工序在上述基板上形成非線性器件的工序；在上述接觸孔的形成位置上形成表面能比上述感光性樹脂層還大的框狀的薄膜的薄膜形成工序；向上述基板和薄膜上塗敷感光性樹脂材料的工序；通過具有已構圖為規定的形狀的遮光部分的光掩模，向上述感光性樹脂材料進行光照射的曝光工序；使光照射後的上述感光性樹脂材料顯影，形成具備在上述接觸孔和規定的區域上形成的多個光刻膠柱的感光性樹脂層的顯影工序；通過對上述感光性樹脂層進行熱處理，使多個上述光刻膠柱的緣部熱變形以圓角化的熱處理工序；通過使上述感光性樹脂層進行熱處理使之硬化的後烘烤工序；在上述感光性樹脂層上形成具有光反射性的象素電極的象素電極形成工序。
倘採用上述的方法，由於在接觸孔的形成位置上，已預先形成了表面能比感光性樹脂層還大的薄膜，故即便是因進行上述熱處理工序而在接觸孔的開口部分或內壁面發生了熱變形，也可以防止該熱變形所產生的流動。因此，可以防止接觸孔的底部被閉塞，可以形成能夠抑制接觸電阻的增大或動作不良等等的反射片。另外，上述薄膜之所以形成框狀，是為了要確保開關器件和象素電極之間的電連接。
為了解決上述的課題，根據本發明的反射片的製造方法，該反射片具有已形成了非線性器件的基板、在上述基板上設置且在規定的區域上具有凹凸構造體的感光性樹脂層、以及在上述感光性樹脂層上設置的具有光反射性的象素電極，其又是通過在該感光性樹脂層上設置的接觸孔與上述非線性器件電連接的象素電極，該製造方法的特徵是具備下述工序在上述基板上形成非線性器件的工序；在上述非線性器件的漏極電極上形成表面能比上述感光性樹脂層還大的框狀的薄膜的薄膜形成工序；向上述基板和薄膜上塗敷感光性樹脂材料的工序；通過具有已構圖為規定的形狀的遮光部分的光掩模，向上述感光性樹脂材料進行光照射的曝光工序；使光照射後的上述感光性樹脂材料顯影，形成具備在上述接觸孔和規定的區域上形成的多個光刻膠柱的感光性樹脂層的顯影工序；通過對上述感光性樹脂層進行熱處理，使多個上述光刻膠柱的緣部熱變形以圓角化的熱處理工序；用灰化法除去上述薄膜的除去工序；通過進行熱處理使上述感光性樹脂層硬化的工序；在上述感光性樹脂層上形成具有光反射性的象素電極的象素電極形成工序。
倘採用上述的方法，即便是在形成了非框狀的薄膜的情況下，只要用灰化法除去該薄膜，就可以確保非線性器件和象素電極之間的電連接，同時，還可以防止接觸孔的底部被閉塞，可以形成能夠抑制接觸電阻的增大或動作不良等等的反射片。
為了解決上述的課題，本發明的反射片的製造方法，該反射片具有已形成了非線性器件的基板、在上述基板上設置且在規定的區域上具有凹凸構造體的感光性樹脂層、以及在上述感光性樹脂層上設置的具有光反射性的象素電極，其又是通過在該感光性樹脂層上設置的接觸孔與上述非線性器件電連接的象素電極，該製造方法的特徵在於具備下述工序在上述基板上形成非線性器件的工序；向上述基板上塗敷感光性樹脂材料的塗敷工序；通過具有已構圖為規定的形狀的遮光部分的光掩模，向上述感光性樹脂材料進行光照射的曝光工序；使光照射後的上述感光性樹脂材料顯影，形成具備在上述接觸孔和規定的區域上形成的多個光刻膠柱的感光性樹脂層的顯影工序；向上述接觸孔附近照射短波長波段的光的光照射工序；通過對上述感光性樹脂層進行熱處理，使多個上述光刻膠柱的緣部熱變形以圓角化的熱處理工序；對上述感光性樹脂層進行熱處理的後烘烤工序；在上述感光性樹脂層上形成具有光反射性的象素電極的象素電極形成工序。其特徵在於上述接觸孔的內壁附近交聯率比其它的部分高。
倘採用上述的方法，藉助於向採用曝光和顯影工序形成的接觸孔的附近照射短波長波段的光的辦法，可以促進該開口部分或內壁面等的交聯，使得比其它的部分還硬化得好。因此，可以防止接觸孔的底部被閉塞，可以形成能夠抑制接觸電阻的增大或動作不良等等的反射片。
再有，在上述的方法中，其特徵在於在上述熱處理工序之後，還進行向上述接觸孔的附近照射短波長波段的光的光照射工序。
如上所述，採用在熱處理工序之後，再進行光照射工序的辦法，可以進一步抑制在進行預烘烤工序時的熱變形，可以進一步抑制接觸電阻的增大或動作不良。
為了解決上述的課題，本發明的反射片的製造方法的特徵是具備下述工序在基板上形成感光性樹脂材料的工序；通過具有已構圖為規定的形狀的遮光部分的第1光掩模向上述感光性樹脂材料照射光的曝光工序；通過具有已構圖為規定的形狀的開口部分的第2光掩模，向上述感光性樹脂材料照射光的光照射工序；通過對上述光刻膠柱進行熱處理，使多個上述光刻膠柱的緣部進行熱變形，以形成多個剖面形狀為非對稱的凹凸構造體的熱處理工序；對上述感光性樹脂層進行熱處理的預烘烤工序；在上述感光性樹脂層上形成具有光反射性的象素電極的象素電極形成工序。
倘採用上述的方法，由於向通過進行曝光和顯影工序而形成的光刻膠柱的規定的區域上照射短波長波段的光，可以促進該開口部分或內壁面等的交聯，使得比其它的部分還硬化得好。其結果是，在熱處理工序中在使光刻膠柱進行熱變形之際，在未進行照射的區域內熱變形大，但在已硬化的部分中則可以減小熱變形的程度。由此，可以形成剖面形狀為非對稱的凹凸構造體，可以製作在具有各向異性的範圍的方向上可以使光反射和反射的反射片。此外如果適當地設定光照射工序中的照射條件，則可以容易地形成控制性好、而且具備所希望的傾斜角的剖面形狀為非對稱的凹凸構造體。
此外，在上述的方法中，其特徵在於在上述熱處理工序之後，還進行向多個上述凹凸構造體照射短波長波段的光的光照射工序。
如上所述，採用在熱處理工序之後，再進行光照射工序的辦法，可以抑制在進行預烘烤工序時的剖面形狀為非對稱的凹凸構造體熱變形，可以製作具有所希望的反射特性的反射片。為了解決上述的課題，本發明的反射式顯示器件，是在一對基板之間設置有液晶層的反射式顯示器件，其特徵在於在上述一對基板之中的一個基板上，以成型為一個整體的方式設置被金屬膜覆蓋起來的凹凸和支持上述對置基板的支持部分。
如上述構成所示，在一個基板上設置凹凸的情況下，當為了使該基板和另一個基板作成為規定的間隙而散布襯墊時，單元間隙在面內將變成為不均一，結果變成為可以看見顯示不均勻。但是，如上述構成所示，如果凹凸和支持上述另一個基板的支持部分被設置成一個整體，則沒有必要再散布襯墊，可均一地形成單元間隙。結果是可以降低顯示不均勻的產生，可以得到顯示品質優良的顯示。
此外，在上述的構成中，在上述角錐狀的凹凸中的傾斜角或圓錐狀的凹凸中的母線和水平面所構成的夾角為傾斜角的情況下，可以使上述凹凸以種種不同的傾斜角分散配置，可以使上述傾斜角處於4°～16°的範圍內。
此外，在上述的構成中，還可以作成為這樣的構成在上述一個基板上，設置使上述凹凸和支持另一個基板的支持部分一體地成型的高分子樹脂層。
此外，在上述的構成中，可以作成為這樣的構成在上述一個基板上設置多個非線性器件的同時，在上述高分子樹脂層上，還設置使上述非線性器件和上述金屬膜電連接的接觸孔。
此外，在上述的構成中，還可以作成為這樣的構成把上述凹凸和支持另一個基板的支持部分一體地成型的樹脂薄膜層壓到上述一個基板上。
再有，上述樹脂薄膜也可以是由感光性樹脂構成的樹脂薄膜。
此外，在上述的構成中，上述一個基板可以規定為已使上述凹凸和支持另一個基板的支持部分成型的塑料基板。
為了解決上述的課題，本發明的反射式顯示器件，是具有在基板上設置的感光性樹脂層和在該感光性樹脂層上設置的金屬膜的反射式顯示器件，其特徵在於上述感光性樹脂層，是通過光掩模進行曝光和顯影，在已塗敷到上述基板上的感光性樹脂上形成的感光性樹脂層，具有由比在上述曝光中使用的曝光機和上述感光性樹脂的解像界限還小的網點群構成的遮光圖形，而且，通過用面內的遮光圖形的光的平均透光率不均一的光掩模進行曝光，使表面形成為凹凸狀。
倘採用上述的構成，在感光性樹脂上形成的凹凸，是用具有現有的鉻掩模等不能表現的、可進行中間色調表現的遮光圖形的光掩模，藉助於微妙的形狀控制形成的。由此，可以使從任意的方向入射進來的光不僅在正反射方向上，在反射式顯示器件的正面方向等方向上進行散射和反射，因而可以進行明亮且白色度高的圖象顯示。
為了解決上述的課題，本發明的反射式顯示器件的製造方法，是在一對基板之間具備光調製層的反射式顯示器件的製造方法，其特徵在於採用在上述一對基板中的一個基板上形成高分子樹脂層，把設置有配置微細的凹凸狀圖形群和孔而構成的凹凸圖形的定盤衝壓到上述高分子樹脂層上，並使上述高分子樹脂層硬化，之後，使上述定盤從該高分子樹脂層上脫模，以在上述高分子樹脂層上形成金屬膜的辦法，把上述凹凸賦型給上述高分子樹脂層，在該高分子樹脂層表面上，使微細的凹凸和支持上述一對的基板之內另一個基板的支持部分成型為一個整體。
在現有的反射片中，通過用光刻膠形成凸部，使該凸部熱熔融以使拐角變圓形成凹凸形狀。因此，要控制凹凸的曲面形狀是困難的。但是，若用上述的方法，由於用使用設置對微細的凹凸狀圖形群和孔進行配置而構成的凹凸圖形的定盤來賦型，故可以在高分子樹脂層上形成精密地控制曲面形狀的凹凸。其結果是，可以降低向正反射方向上的反射，可以製造明亮且白色度高的反射式顯示器件。而且，由於一體性地形成凹凸和支持對置基板的支持部分，故可以均一地形成單元間隙而不再需要散布襯墊。其結果是，可以減少顯示不均勻的發生，可以得到顯示品質優良的反射式顯示器件。
在上述的方法中，在上述一個基板上形成的上述高分子樹脂層是感光性樹脂層的情況下，作為上述定盤使用具有透明性的定盤，上述高分子樹脂層的硬化可以採用通過上述定盤向該感光性樹脂層照射光的辦法進行。
此外，在上述的方法中，在上述一個基板上形成的上述高分子樹脂層是熱可塑性樹脂層的情況下，在把上述定盤衝壓到上述熱可塑性樹脂層上之際，可以邊加熱邊進行。
此外，在上述的方法中，在上述一個基板上設置有非線性器件，作為上述定盤，可以使用具有用來在相當於上述非線性器件中的輸出端子部分的位置上形成接觸孔的突起的定盤。
再有，在上述的方法中，也可以在使上述定盤從高分子樹脂層脫模之後，一直到上述非線性器件的輸出端子部分露出來為止，對上述高分子樹脂層上的上述接觸孔的底部進行刻蝕。由此，在進行賦型以形成接觸孔之際，即便是在接觸孔的開口面積是不充分的面積的情況下，也可以使非線性器件的輸出端子部分充分地露出來，可以抑制接觸電阻的增大。其結果是，特別是在動態顯示等方面可以製作顯示品質優良的反射式顯示器件。
為了解決上述的課題，本發明的反射式顯示器件的製造方法，是在一對基板之間具備光調製層的反射式顯示器件的製造方法，其特徵在於通過對在上述一對基板中的一個基板上設置有配置了微細凹凸狀圖形群和孔而構成的凹凸圖形的定盤進行衝壓，並使上述一個基板硬化之後，使上述定盤從一個基板脫模，以在上述一個基板上形成金屬膜的辦法，把上述凹凸圖形賦型給上述一個基板，在一個基板上一體性地成型微細的凹凸和支持另一個基板的支持部分。
以往，在製作基板時，為了使其表面平滑，要進行用平面度良好的定盤衝壓的工序。若採用上述的方法，由於使用設置有上述凹凸圖形的定盤把凹凸賦型給基板，同時可以使基板平滑，故工序得以簡化，可以實現低造價化。
在上述的方法中，在上述一個基板由熱可塑性樹脂構成的情況下，在把上述定盤衝壓到上述熱可塑性樹脂上的時候，可以邊加熱邊進行。
為了解決上述的課題，本發明的反射式顯示器件的製造方法，是在一對的基板間具備光調製層的反射式顯示器件的製造方法，其特徵在於在設置有配置了微細的凹凸狀圖形群的凹凸圖形的成型模上，形成高分子樹脂層，粘貼上述一對基板中的一個基板和上述成型模使得上述高分子樹脂層變成為該基板一側之後，使該成型模從該高分子樹脂層上脫模後，把高分子樹脂層層壓到該基板上，在上述高分子樹脂層上形成金屬膜的辦法，把上述凹凸圖形賦型給上述高分子樹脂層，在該高分子樹脂層的表面上形成微細的凹凸。
例如，如果向基板上塗敷高分子樹脂，用定盤把凹凸圖形賦型給該高分子樹脂，則在把定盤衝壓到基板上時有時候會傷及該基板，但如果象上述方法那樣，如果預先製作好已藉助於設置有凹凸圖形的定盤對該凹凸圖形進行了賦型後的高分子樹脂層，在基板上形成該高分子樹脂層，則不會招致基板的破損。由此，可以提高成品率，可以製作反射式顯示器件。此外，若用該方法，與把定盤衝壓到在基板上形成的高分子樹脂上來進行賦型的情況下進行比較，由於在定盤上形成高分子樹脂層的一方可以在短時間內進行處理，故可以降低造價。
另外，在上述方法中，作為上述成型模，採用由高分子樹脂形成的基底薄膜。
而且，在上述方法中，在上述成型模的規定位置上設置有用來形成支持上述一對基板中的另一個基板的支持部分的孔。
此外，為了解決上述的課題，本發明的反射式顯示器件的製造方法，是一種在在基板上形成了感光性樹脂層之後，採用通過光掩模進行曝光和顯影的辦法，在該感光性樹脂層上形成凹凸，再在上述凹凸表面上形成反射膜的反射片的製造方法，其特徵在於上述光掩模具有由比在上述曝光中使用的曝光機和上述感光性樹脂層的解像界限還小的網點構成的遮光圖形，且面內的遮光圖形的光的平均透光率是不均一的。
若採用上述的方法，由於使用具有由比在上述曝光中使用的曝光機和上述感光性樹脂層的解像界限還小的網點構成的遮光圖形的光掩模，故若用現有的光掩模不可能表現的中間色調表現成為可能，可以顯著地提高細部表現力。其結果是，在例如使具有平緩的傾斜面的凹凸的形成成為可能等微妙的凹凸的形狀控制也可以進行得很好。此外，由於曝光機等可以使用通常的裝置，故不需要導入新設備。
此外，採用使光掩模的面內的遮光圖形的平均透光率變成為不均一的辦法，可以形成高度或深度不同的種種的凹凸。
在上述的方法中，在上述基板上設置有非線性器件，作為上述光掩模，可以使用在與上述非線性器件的輸出部分對應的部分上設置遮光部分或非遮光部分的掩模。
若採用上述的方法，則可以在與非線性器件的輸出部分對應的部分上形成接觸孔。在這裡，在在光掩模上設置有上述遮光部分的情況下，作為上述感光性樹脂層可以使用由負光刻膠構成的樹脂層。此外，在設置有非遮光部分的情況下，作為上述感光性樹脂層則可以使用由正光刻膠構成的樹脂層。
本發明的其它的目的、特徵和優點，藉助於以下的講述可被更充分地理解。此外，在參看附圖進行的以下說明中本發明的優點會更加清楚易見。
圖1的剖面圖示出了本發明的實施例1的反射片的構成。
圖2A的平面圖示出了上述實施例1的反射片中的柱狀集合體，圖2B是圖2A的A-A』剖視圖。
圖3的斜視圖示出了上述實施例1的反射片中的光反射性薄膜。
圖4的說明圖示出了上述實施例的反射片中的光的散射和反射狀態。
圖5是用來說明上述實施例1的反射片的製造工序的剖面圖。
圖6的平面圖概略性地示出了在上述反射片的製造工序中使用的光掩模的遮光部分的圖形形狀。
圖7的曲線圖示出了光刻膠柱的最大寬度和凸部高度之間的關係。
圖8的剖面圖示出了具備上述實施例1的反射片的反射式液晶顯示器件的構成。
圖9A的剖面圖示出了本發明的實施例2的反射片的構成，圖9B的剖面圖示出了具備上述實施例1的反射片的反射式液晶顯示器件的構成。
圖10是用來說明上述實施例2的反射片的製造方法的剖面圖。
圖11的平面圖概略性地示出了在上述反射片的製造工序中使用的光掩模的遮光部分的圖形形狀。
圖12是用來說明上述實施例2的反射片的另一製造方法的剖面圖。
圖13的平面圖概略性地示出了在上述反射片的製造工序中使用的光掩模的遮光部分的圖形形狀，圖13A是在第1曝光工序中使用的光掩模，圖13B示出了在第2曝光工序中使用的光掩模，圖13C示出了在第3曝光工序中使用的光掩模。
圖14是用來說明上述實施例3的反射片的製造方法的剖面圖。
圖15的平面圖概略性地示出了在上述反射片的製造工序中使用的光掩模，圖15A示出了在曝光工序中使用的光掩模，圖15B示出了在深UV照射工序中使用的光掩模。
圖16的剖面圖示出了本發明的實施例4的反射式液晶顯示器件的構成。
圖17是用來說明上述反射式液晶顯示器件的反射片的製造方法的剖面圖。
圖18的剖面圖3示出了本發明的實施例5的反射式液晶顯示器件的構成。
圖19A的剖面圖示出了上述反射式液晶顯示器件中的反射片的關鍵部位，圖19B的平面圖示出了該反射片中的薄膜和象素電極。
圖20是用來說明上述反射片的製造方法的剖面圖。
圖21是用來說明本發明的實施例6的反射片的製造方法的流程圖。
圖22的剖面圖概略性地示出了本發明的另一反射片中的凹凸構造體。
圖23A的平面圖示出了作為本發明的另一反射片中的凹凸構造體的柱狀集合體的配置狀態，圖23B是圖23A中的B-B』剖視圖。
圖24A的平面圖示出了作為本發明的另一反射片中的凹凸構造體的柱狀集合體的配置狀態，圖24B是圖24A中的C-C』剖視圖。
圖25的說明圖示出了本發明的衍射式反射片的構成，圖25A的局部剖面圖示出了該衍射式反射片，圖25B的平面圖示出了凹凸構造體的配置狀態。
圖26A的剖面圖示出了凹凸構造體是衍射格柵時的凸部的剖面形狀；圖26B是使多個衍射格柵狀的凹凸構造體變成平面視圖後的平面圖。
圖27是本發明的其它反射片的結構的示意剖視圖。
圖28的斜視圖示出了在本發明的實施例7的反射式顯示器件的製造方法中使用的定盤的表面形狀。
圖29A～C示出了本發明的顯示器件的製造方法的工序。
圖30的剖面圖示出了上述實施例7的反射式顯示器件。
圖31A的說明圖示出了用金屬輥子加熱衝壓基底薄膜進行成型的情況，圖31B的剖面圖示出了層壓式的薄膜光刻膠，圖31C的剖面圖示出了在基板上形成了用基底薄膜賦型的光刻膠樹脂膜的狀態。
圖32的平面圖概略性地示出了在本發明的實施例8中使用的光掩模的網點圖形。
圖33A的剖面圖示出了已塗敷在玻璃基板上的光刻膠膜，圖33B是用來說明光刻膠膜的曝光的剖面圖，圖33C是用來說明曝光後的光刻膠膜的顯影的剖面圖，圖33D是用來說明凸部的熱處理的剖面圖，圖33E是用來說明在熱處理後的凸部上形成金屬反射膜的工序的剖面圖。
圖34的剖面模式圖示出了現有的反射片的概略構成。
圖35A～F是用來說明上述反射片的製造方法的剖面圖。
圖35A的剖面圖示出了在基板上塗敷的光刻膠膜，圖35B是用來說明光刻膠膜的曝光的剖面圖，圖35C是用來說明曝光後的光刻膠膜的顯影的剖面圖，圖35D是用來說明凸部的熱處理的剖面圖，圖35E是用來說明在熱處理後的凸部上形成高分子樹脂膜的工序的剖面圖，圖35F是用來說明在熱處理後的凸部上形成高分子樹脂膜的工序的剖面圖。
圖36A～E的剖面圖用來說明上述反射片上的接觸孔的形成。以下，參看附圖對本發明的實施例進行說明。
(實施例1)根據圖1～8對本發明的一個實施例進行說明。圖1的剖面圖示出了本實施例的反射片。如該圖所示，反射片10的構成為在基板11上，按照順序使多個柱狀集合體(凹凸構造體)12…、高分子樹脂層14、光反射性薄膜15進行疊層。
上述基板11由例如玻璃等的具有絕緣性的基板(商品名1737，康寧公司生產)構成。該基板11的厚度，例如為1．1mm。
上述柱狀集合體12，如圖2所示，其構成為把多個微小的柱狀部分(凸部)13a…集合起來，是決定反射片10的反射特性的基本單位。
此外，該柱狀集合體12…，如該圖所示，在基板11上設置為在各自的方向上相互平行移動的狀態，而且，使各自的位置設置為不規則。就是說，變成這樣的構造作為基本單位的柱狀集合體12不以恆定的周期重複出現。由此，可以抑制起因於使凹凸構造規則地排列起來的重複圖形而發生的光的幹涉，可以抑制反射光的帶色現象。另外，在柱狀集合體12彼此間在一部分上或多個部位上，也可以毗鄰而沒有規定的距離。另一方面，若隔離距離過大，則由於不能形成與基板面平行的平坦面，向正反射方向反射的光增加，故是不希望的。
若把柱狀部分13a…的分布區域近似地看作是柱狀部分集合體12的平面形狀，則柱狀部分集合體12的平面形狀，如圖2A中的虛線所示，例如，形成為橢圓形狀。因此，柱狀部分集合體12的平面形狀和大小，採用使多個柱狀部分13a…的分布各向同性地變化或在某一方向上賦予分布的方向性等的各向異性地變化的辦法，可以根據適當和必要，自由地且精密地進行控制。此外，柱狀部分集合體的大小，長軸和短軸的大小可以在1微米～100微米的範圍內變化。若將之與具有在基板和金屬膜之間設置有凸部的構成的現有的反射片(特開平9-292504號公報)比較，則作為基本單位的柱狀部分集合體12的大小相當於該凸部的大小。柱狀部分13a的平面形狀的最大寬度，理想的是處於0．5微米～20微米的範圍內。在最大寬度比0．5微米小的情況下，由於超過了曝光界限，故要形成這樣的大小的柱狀部分是困難的。另一方面，當最大寬度大於20微米的情況下，凹凸之差增大的結果，單元間隙的不均一性擴大，可以看到顯示不均勻，故是不希望的。
此外，各個柱狀部分集合體12…採用使高度彼此不同的多個微小的柱狀部分13a…集合配置在殘膜13b上的辦法構成。因此，採用在規定的位置上形成各個高度不同的柱狀部分集合體13a…的辦法就可以使柱狀部分集合體12的高度分布發生微妙的變化。其結果是，使精密地控制在柱狀部分集合體12上形成的光反射性薄膜15的傾斜角分布成為可能。在本實施例中，高度的峰值位於從柱狀部分13a…的分布區域中的中心部分向用箭頭X表示的方向上偏離開來的位置上，而且，把高度不同的柱狀部分13a…分別配置為使得從峰值向著周緣顯示出減小的傾向。上述柱狀部分13a的高度(從殘膜13b到柱狀部分的頂部的差)理想的是在1微米～5微米的範圍。在高度比1微米還小的情況下，光反射性薄膜15的表面上的凹凸之差減小，可以在正反射方向上反射的光增大，故是不希望的。另一方面，當高度比5微米還大時，單元間隙的不均一性擴大得過大的結果，導致可以看見顯示不均勻，招致顯示品質的劣化，故是不希望的。此外，上述柱狀部分13a…，只要在每1mm2分布102～50萬個左右的範圍內分布即可。如果該柱狀部分13a…的分布小於102個／mm2，由於散射性降低，故是不希望的。另一方面若柱狀部分13a…的分布大於50萬個／mm2，則將產生規則性，變成為反覆重複構造，故是不希望的。此外，在各個柱狀部分集合體12…上的峰值的高度，既可以是一樣的，也可以是不同的。
上述柱狀部分13a，例如由感光性樹脂構成，作為該感光性樹脂，可以舉出正光刻膠和電子射線抗蝕劑等等。在本實施例中，使用作為正光刻膠的低γ正光刻膠(商品名PC409，JSR公司生產)。上述柱狀部分13a，是在平行於基板面的方向上的剖面形狀為圓狀或橢圓狀的柱狀，而且，其頂端形狀已變成為帶有圓形的曲面。由此，可以使在柱狀部分13a上設置的光反射性薄膜15的表面變成圓滑的曲面狀。此外，在本發明中，上述在平行於基板面的方向上的剖面形狀並不限定於圓狀或橢圓狀的情況，也可以是多角形形狀等等。
上述殘膜13b由與上述柱狀部分13a相同的材料構成，是在光刻工序中的顯影工序中形成該柱狀部分13a之際，殘留下來未顯影的膜。
上述高分子樹脂層14，例如由光刻膠等構成。此外，高分子樹脂層14，也可以使用與上述柱狀部分13a同樣的材料。採用設置該高分子樹脂層的辦法，即便是在各個柱狀部分集合體12間的隔離距離大的情況下，也可以使與基板面平行的平坦部分變成為平緩的曲面狀。就是說，由於不會形成與基板11平行的平坦區域，故可以抑制在正反射方向上反射的光。此外，由於柱狀部分13a的頂部與殘膜13b之間的高低差大，故即便是在柱狀部分13a間的谷部變深的情況下，高分子樹脂層14也可以埋入該谷部，結果可以變成使高度分布連續地變化的平緩的曲面狀。另外，高分子樹脂層14並不限於1層，考慮到與其膜厚之間的關係也可以是對多層進行疊層的構成。
上述光反射性薄膜15具有光反射性，例如由鋁(Al)等的金屬薄膜構成。該光反射性薄膜15的表面，變成為在具有各向異性的範圍的方向上使光散射和反射的各向異性散射面。具體地說，變成為對於基板11的面不具有平行的平坦區域的凹凸面。此外，光反射性薄膜15的表面形狀，局部地說，如圖3所示，變成在X方向上的曲率比與該X方向相反的Y方向上的曲率大的曲面。即，關於X-Y方向上的剖面形狀，在傾斜角分布上將產生偏向一個分布，變成非對稱構造。由此，從某一方向入射進來的光，可以在例如與反射片11垂直的方向等觀察者的觀看方向上反射，而不是在正反射方向上反射。光反射性薄膜15的表面形狀，反映並決定於構成柱狀部分集合體12的柱狀部分13a…的高度分布和2維分布狀態。因此，光反射性薄膜15的傾斜角、傾斜角分布和表面狀態等，可以採用控制柱狀部分13a的高度分布的辦法進行精密的控制。另外，如果容許在正反射方向上進行少許反射，則平坦區域相對於全部區域，也可以在至少約為20％以下的範圍內。此外，作為光反射性薄膜15的材料，除上述的Al之外，還可以舉出銀(Ag)、鉻(Cr)、鎳(Ni)或使多層的金屬薄膜進行疊層的多層膜等。
以上那樣構成的本實施例的反射片10，如圖4所示，通過把曲率平緩的曲面配置為使得朝向上方，在寬廣的範圍內，具有反射率高、紙白性優良的散射和反射特性。
其次，對本實施例的反射片10的製造方法進行說明。圖5是用來說明該反射片10的製造工序的剖面圖。
首先，如圖5A所示，用旋轉塗敷方式，向基板11(商品名1737，康寧公司生產)上，塗敷感光性樹脂材料(商品名低γ正光刻膠PC409，JSR公司生產)(塗敷工序)。作為塗敷條件，例如規定為在轉數700rpm下旋轉塗敷30秒，使塗敷膜的膜厚變成為3．6微米。此外，在105℃下對已塗敷上感光性樹脂材料的基板11進行90秒預烘烤，使塗敷膜中的溶劑蒸發，形成感光性樹脂層16。
其次，如圖5B所示，把光掩模18配置到感光性樹脂層16的上方，通過該光掩模18進行紫外線曝光(曝光工序)。在上述光掩模18上，如圖6所示，不規則地形成圓形或橢圓形的遮光部分18a，並使其各具有規定的面積。說得更為詳細一點，要形成為使得越是想要形成高的柱狀部分的部分，其遮光部分的面積越大(詳細的理由後邊要講)。作為紫外線的照射條件，例如規定為10～300mJ／cm2、曝光時間為1～30秒。另外，對於用來實現圖6所示的圖形形狀的圖形信息，預先用模擬等決定，使得各種大小的柱狀部分13a變成規定的高度分布。
接著，以含有東京應化社的NMD-3(商品名)0．4％的水溶液作為顯影液進行顯影，溶解處理不要的部分(顯影工序)。作為顯影時間，例如規定為60秒。藉助於該工序，如圖5C所示，在基板11上形成光刻膠柱17…和殘膜13b。各個光刻膠柱17…的平面形狀的面積，相應於光掩模18的遮光部分18a…的大小，各自的面積不一樣。此外，光刻膠柱17…的高度(指以殘膜13b為基準的高度)，由於顯影速度大體上相同，故變成為均一的構造。
其次，對已形成了光刻膠柱17…等的基板11，例如在處理溫度120℃下加熱5分鐘進行熱處理。由此，如圖5D所示，各個光刻膠柱17…的頂端部分的拐角熱熔融，形成具有平滑的曲面狀的柱狀部分13a…和使這些柱狀部分集合起來構成的柱狀部分集合體12。
在這裡，構成柱狀部分集合體12的柱狀部分13a…的從殘膜13b算起的高度形成得各不相同。其理由如下。就是說，在本實施例中，光刻膠柱的最大寬度(微米)和對光刻膠柱熔融加熱形成柱狀部分時的該柱狀部分的高度(微米)，使用圖7所示的滿足一次函數的關係的感光性樹脂材料。該圖是對在平面形狀方面具有種種的最大寬度的光刻膠柱進行熔融加熱，並測定藉助於該處理形成的柱狀部分從殘膜開始計算的高度的圖。各個光刻膠柱在平面形狀方面，具有彼此相似的關係，而且所有的光刻膠柱的高度都使用大體上同一高度。由該圖可知，光刻膠柱的最大寬度增加得越大，換句話說，光刻膠柱的平面形狀的面積增加得越大，則熔融加熱後的柱狀部分的高度就變得越大。因此，通過合適地設定光刻膠柱的最大寬度，就可以控制各個柱狀部分13a的高度，由此，得以精密地控制柱狀部分集合體12的高度分布。但是，取決於熱處理工序中的處理溫度的設定範圍，當光刻膠柱因熔融而軟化時，會出現因感光性樹脂材料對基板11的親和性導致的在與基板11垂直的方向上伸長的情況。即，光刻膠柱的最大寬度(微米)和在熔融加熱後形成的柱狀部分的高度(微米)之間的關係，有時要用在上面凸起且具有變曲點的曲線來表示。
另外，柱狀部分13a…全體的高度，以及殘膜13b的膜厚，可以用感光性樹脂層16的膜厚或材料、累加曝光量、曝光時間和顯影時間進行控制。具體地說，若膜厚變厚，則光刻膠柱17…全體的高度增大的結果，使得柱狀部分13a…全體的高度也可以增大。
此外，如果改變曝光時間，由於累加曝光量將發生變化，故可以控制光刻膠柱17…的高度。例如，當採用加長曝光時間的辦法增大累加曝光量時，則光刻膠柱17…的高度增大。由此，柱狀部分13a…也將變高，柱狀部分13a和柱狀部分13a之間的凹部被平坦化或殘膜13b的膜厚變薄。另一方面，採用加長顯影時間的辦法，也可以降低光刻膠柱17…全體的高度。此外，在本實施例中，使用作為隨著累加曝光量的增大，殘膜的膜厚呈一次函數減小的感光性樹脂材料的低γ正光刻膠PC409。如果是通常的感光性樹脂材料，雖然直到某一累加曝光量為止殘膜的膜厚顯示恆定值，但若超過了該累加曝光量，則顯示出膜厚急劇減小的特性。如果是這樣的常規感光性樹脂材料，則殘膜的膜厚的控制，換句話說，柱狀部分13a的高度的控制是困難的。因此，從柱狀部分13a高度的控制性來看，使用具有在本實施例中使用的那種材料性質的感光性樹脂材料，是理想的。
此外，用旋轉塗敷方式，在上述柱狀部分13a和殘膜13b上，塗敷感光性樹脂材料(商品名低γ正光刻膠PC-409，JSR公司生產)。
然後，在例如規定的溫度下進行規定時間的加熱使上述塗敷膜硬化，形成高分子樹脂層14。再通過向上述高分子樹脂層14上蒸鍍鋁，形成膜厚2000左右的光反射性薄膜15(光反射性薄膜形成工序)。
採用以上的辦法，可以形成本實施例的反射片10。
然後，對具備如上製作的反射片10的反射式液晶顯示器件進行說明。圖8的剖面圖示出了上述反射式液晶顯示器件。
如同圖所示，上述反射式液晶顯示器件，具有反射片10、對置基板20(顯示面一側)和夾持在該反射片10和對置基板20之間的液晶層21。在上述反射片10上形成有使附近的液晶分子取向到規定的方向上的取向層22。此外，在這種情況下，光反射性薄膜15起著象素電極的作用。
在上述對置基板20上，設有由銦錫氧化物(ITO)構成的透明電極23。此外，在該透明電極23上，設有取向膜24。上述對置基板20由具有光透過性的基板構成。
上述液晶層21由在液晶中含有已使黑色的二色性染料溶解的賓主液晶構成。上述取向膜23、24，例如由聚醯亞胺樹脂構成，而它們的取向處理方法被設定為使得變成相互相反的方向。這時，液晶分子的取向狀態變成為在基板之間扭曲約360度。
對如上述構成的反射式液晶顯示器件的顯示狀態進行研究，得到了在反射光的擴散範圍內產生了各向異性，特別是在觀察者的觀看方向上紙白性優良、非常明亮、對比度良好的顯示品質。
另外，在本實施例中，雖然說明的是在基板11上直接形成柱狀部分集合體12的情況，但是，也可以在基板11上預先形成有感光性樹脂層。例如也可以在形成由γ正光刻膠PC-409構成的感光性樹脂層16之前，向基板11上塗敷同樣的材料，對塗敷膜熱處理，形成感光性樹脂層。或者，也可以預先形成由與該PC-409不同的材料構成的其它感光性樹脂層。由此，可以改變基板11和感光性樹脂層16之間的親和性，通過對光刻膠柱17進行熱處理，可以控制形成柱狀部分13a…時的該柱狀部分13a的高度。
此外，在本實施例中，雖然說明的是在基板11上形成柱狀部分集合體12的情況，但也可以是採用通過在感光性樹脂層16上具有圓形形狀或橢圓形形狀的開口部分的光掩模進行曝光的辦法形成的凹狀的構造體。就是說，如果改變看法，則凹凸構造體也可以成為連續體，在該連續體中設置多個深度彼此不同的間隙。在這種情況下，所謂凸部，指在凹狀的構造體中，比高度最低的部位高的部位。另外，可通過使累加曝光量變化進行構造體的深度控制。
(實施例2)本實施例的反射片，與上述實施例1的反射片比較，不同之處在於用一體性地形成的階梯狀構造體取代使多個微小的柱狀部分集合起來而形成的柱狀部分集合體。
圖9是示出本實施例的反射片的構成的說明圖，圖9A示出了該反射片的剖面形狀，圖9B示出了該反射片中的階梯狀構造體的平面形狀。如該圖所示，反射片30的構成是在基板11上，依次疊層多個階梯狀構造體31a…、高分子樹脂層14和光反射性薄膜15。
上述階梯狀構造體31a構成決定本實施例的反射片30的反射特性的基本單位，如圖9B所示，該階梯狀構造體31a…，處於在基板11上各自方向相互平行移動的狀態，而且，各自的位置被設置為不規則。就是說，作為基本單位的階梯狀構造體31a…，變成不以恆定的周期反覆重複出現的規則性小的構造。由此，可以抑制因階梯狀構造體31a的圖形反覆重複所形成的光的幹涉，例如，可以抑制反射光的帶色現象的發生。另外，階梯狀構造體31a…彼此間，在一部分上或多個部位上，也可以毗鄰而不具有規定的隔離距離。另一方面，若隔離距離過大，則將形成平行於基板面的平坦面增加向正反射方向發射的光，故是不希望的。
階梯狀構造體31a的剖面形狀，成為具有多個臺階部分的階梯狀。此外，該階梯狀構造體31a的高度峰值，位於從中心部分向用箭頭X表示的方向偏離開來的位置，而且是從該峰值向著周緣顯示出減少的傾向。在上述構成中，採用對於各個臺階部分控制從底部開始計算的高度的辦法，可以使階梯狀構造體31a的高度分布微妙地發生變化。其結果是，可以精密地控制在階梯狀構造體31a上形成的光反射性薄膜15的傾斜角分布。此外，階梯狀構造體31a的各個臺階部分和頂部，成為帶有圓角的曲面形狀。由此，可以使在階梯狀構造體31a上設置的光反射性薄膜15的表面，變成為進一步平滑的曲面狀。
上述階梯狀構造體31a的最大峰值處的高度，理想的是在1微米到5微米的範圍內。若高度比1微米還小，在光反射性薄膜15的表面上的凹凸之差減小，向正反射方向反射的光增加，故是不希望的。另一方面，若高度比5微米還大，單元間隙的不均勻性擴大得過大的結果，導致可以看見顯示不均勻，顯示品質劣化，故是不希望的。此外，各個階梯狀構造體31a…間的峰值的高度既可以是一樣的也可以是不一樣的。
此外，階梯狀構造體31a的平面形狀，形成為例如橢圓形狀。另外，在本發明中，並不限於上面所說的橢圓形狀，例如也可以是多角形形狀。
此外，上述階梯狀構造體31a例如由感光性樹脂構成，作為該感光性樹脂，可以舉出正光刻膠和電子射線抗蝕劑等等。在本實施例中，作為正光刻膠，使用低γ正光刻膠(商品名PC409，JSR公司生產)。
上述殘膜31b，由與上述階梯狀構造體31a同樣的材料構成，是在對該階梯狀構造體31a進行光刻工序中的顯影工序時，因不顯影而剩下的膜。
如上構成的本實施例的反射片30，採用把曲率平緩的曲面配置在朝向上個辦法，在寬廣的範圍內，具有反射率高、紙白性優良的散射反射特性。
其次，對本實施例的反射片30的製造方法進行說明。圖10是用來說明該反射片30的製造工序的剖面圖。
首先，與上述實施例1一樣，用旋轉塗敷法在基板11上塗敷作為感光性樹脂材料的低γ正光刻膠PC-409。塗敷膜的膜厚規定為3．6微米。此外，在105℃下對已塗敷上感光性樹脂材料的基板11進行90秒預烘烤，使塗敷膜中的溶劑蒸發，形成感光性樹脂層16(參看圖10A)。
其次，如圖10B所示，把光掩模32配置到感光性樹脂層16的上方，通過該光掩模18進行紫外線曝光(曝光工序)。在這裡，上述光掩模32，如圖11所示，被形成為在各個遮光部分33區域內光的遮擋率分別不同。具體地說，區域32a遮擋率最高，且以區域32b，區域32c的順序遮擋率變低。因此，即便是用同一紫外線強度進行照射，由於在各個區域中的光的遮擋率不一樣，在與感光性樹脂層16上的上述各個區域32a到32c對應的區域中，以不同的累加曝光量進行曝光。另外，對於用來實現由區域32a到32c構成的遮光部分的圖形形狀，用預先進行的模擬等決定。
接著，用顯影液進行顯影，除去不要的部分(顯影工序)。由此，如圖10C所示，在基板11上形成殘膜31b和階梯狀的光刻膠柱34…。
其次，對已經形成了光刻膠柱34…等的基板11，在例如120℃下加熱5分鐘進行熱處理(熱處理工序)。由此，如圖10D所示，可以使光刻膠柱34的緣部的拐角熱熔融而成為平滑的曲面狀。
另外，階梯狀構造體31a上的臺階部分的高度，可以通過改變光掩模32中的光的遮光率進行控制。此外，階梯狀構造體31a的高度和殘膜31b的膜厚，可以用感光性樹脂層16的膜厚或材料、累加曝光量、曝光時間和顯影時間進行控制。具體地說，如果膜厚增加，則階梯狀構造體31a的高度形成得大。此外，由於改變曝光時間就可以使累加曝光量發生變化，故可以控制階梯狀構造體31a的高度。例如，可以採用加長曝光時間的辦法，增大累加曝光量、使殘膜31b變薄。其結果是，可以增大階梯狀構造體31a的高度。另一方面，也可以採用加長顯影時間的辦法，降低階梯狀構造體31a的高度。
此外，向上述階梯狀構造體31a和殘膜31b上，用旋轉塗敷方式，塗敷作為感光性樹脂材料的低γ正光刻膠PC-409。塗敷條件可以與上述實施例1一樣。
其次，通過進行與實施例1同樣的工序，對上述塗敷膜，在例如規定的溫度下加熱規定的時間使之硬化，形成高分子樹脂層14，再採用在上述高分子樹脂層14上蒸鍍鋁的辦法，形成光反射性薄膜15(光反射性薄膜形成工序)。
通過上述工序，可以形成本實施例的反射片30。
此外，作為本實施例的反射片30的其它製作方法，也可以採用進行多次曝光工序的辦法形成階梯狀構造體31a。更詳細地說明該方法如下。圖12是用來說明該反射片30的其它製造工序的剖面圖。
首先，與上述一樣，在基板11上塗敷了作為感光性樹脂材料的低γ正光刻膠PC-409之後(塗敷工序)，在規定的溫度下進行規定的預烘烤，形成感光性樹脂層16(參看圖12A)。
其次，如圖12B所示，把第1光掩模35配置到感光性樹脂層16的上方，通過該第1光掩模35進行紫外線曝光(第1曝光工序)。在這裡，如圖13A所示，把上述第1光掩模35形成為使得第1遮光部分35a…變成為規定的圖形。
此外，如圖12C所示，把第2光掩模36配置到感光性樹脂層16的上方，用與上述同樣的方法，進行紫外線曝光(第2曝光工序)。如圖13B所示，上述第2光掩模36被構成為把橢圓形狀的第2遮光部分36a…形成為使得位於上述第1遮光部分35a…的遮光範圍內。
接著，如圖12D所示，把第3光掩模37配置到感光性樹脂層16的上方，用與上述同樣的方法進行紫外線曝光(第3曝光工序)。如圖13C所示，上述第3光掩模37構成為把橢圓形狀的第3遮光部分37a…形成為使得位於上述第2遮光部分36a…的遮光範圍內。
如上所述，通過進行第1～第3曝光工序在感光性樹脂層中使每一個規定的區域累加曝光量不同是可能的。另外，在把第1～第3光掩模35～37配置到基板11的上方時的第1～第3光掩模35～37和基板11的平面相對位置應在恆定的精度以內。此外，對於用來實現第1～第3光掩模35～37中的第1～第3遮光部分35a～37a的圖形形狀的圖形信息，預先用模擬等決定。
接著，用顯影液進行顯影，除去不要的部分(顯影工序)。顯影的條件規定為與上述一樣。由此，如圖12E所示，在基板11上，形成殘膜31b和階梯狀的光刻膠柱34…。在此之所以可以在光刻膠柱34上形成階梯狀的臺階部分，是因為通過進行上述第1～第3曝光工序，可使每一個區域累加曝光量不同的緣故。此外，光刻膠柱34的高度和殘膜31b的膜厚，可以用感光性樹脂層16的膜厚或材料、累加曝光量、曝光時間、顯影時間控制，與上所說的是一樣的。
其次對已經形成了光刻膠柱34…等的基板11，在例如120℃下加熱5分鐘進行熱處理(熱處理工序)。由此，如圖12F所示，可以使光刻膠柱34的頂端部分的拐角熱熔融成為平滑的曲面狀，形成階梯狀構造體31a。
此外，與上述同樣地在上述階梯狀構造體31a和殘膜31b上，用旋轉塗敷方式，塗敷作為感光性樹脂材料的低γ正光刻膠PC-409。採用對塗敷膜加熱使之硬化的辦法，形成高分子樹脂層14，接著，採用在上述高分子樹脂層14上蒸鍍鋁的辦法，形成光反射性薄膜15。
通過以上的工序，可以形成本實施例的反射片30。
(實施例3)本實施例3，是用深UV法製作具備具有非對稱的剖面形狀的凹凸構造的反射片的實施例。圖14是用來說明上述製作方法的流程圖。
如圖14A所示，用旋轉塗敷方式，在基板11上塗敷感光性樹脂材料。塗敷膜的膜厚規定為3．6微米。此外，在105℃下對已塗敷上感光性樹脂材料的基板11進行90秒預烘烤，使塗敷膜中的溶劑蒸發，形成感光性樹脂層16。其次，如圖14B所示，把光掩模41配置到感光性樹脂層16的上方，通過該光掩模41進行紫外線曝光(曝光工序)。在上述光掩模41上，如圖15A所示，以同樣的大小不規則地形成多個橢圓形狀的遮光部分41a…。
用顯影液進行顯影，除去不要的部分(顯影工序)。由此，如圖14C所示，在基板11上形成平面形狀為橢圓形狀的光刻膠柱42…。
其次，如圖14D所示，把光掩模43配置到設有光刻膠柱42…的基板11的上方，通過該光掩模43進行紫外線曝光(曝光工序)。感光性樹脂層16的上方，通過該光掩模43照射短波長波段(250nm～i線365nm)的紫外線(深UV)(照射工序)。由此，光刻膠柱42中的已被深UV照射過的部分再次進行交聯，使得可以比其它部分更好地硬化。在這裡，在上述光掩模43上，如圖15B所示，以同樣的大小不規則地形成多個橢圓形狀的開口部分43a…。該開口部分43a和上述遮光部分41a相似，而且，兩者的大小具有這樣的關係開口部分43a的長軸相當於遮光部分41a的長軸的一半。基板11和光掩模43之間的平面相對位置，若以已配置了光掩模41時的位置為基準，則如圖15B所示，要把遮光部分41a的長軸上的一端，和開口部分53a的長軸上的一端設定為使之對準。另外，在上述照射工序中，也可以取代短波長波段的紫外線而代之以照射短波長波段的電子射線。
其次，對已經形成了光刻膠柱42…等的基板11，在例如120℃下加熱5分鐘進行熱處理(熱處理工序)。由此，如圖14E所示，可以形成使剖面形狀變成為非對稱的凹凸構造體的凸部44…。這時，如上所述，在已經被深UV照射過的部分，由於比其它的部分硬化得好，故熱變形的比率小，因此，已被照射過的部分的緣部將變成為稍微圓角化的形狀。另一方面，在未被上述深UV照射的區域內，因熱熔融而形成的熱變形的比率大，可以形成具有平滑的曲面形狀的傾斜面。
接著，使在凸部44…含有的未反應物的反應結束，在後邊要講的光反射性薄膜15的形成工序等工序中，為了抑制雜質或汙染物質的產生，要進行後烘烤工序。此外，用旋轉塗敷法，向上述凸部44和基板11上，塗敷感光性樹脂材料，加熱塗敷膜使之硬化，形成高分子樹脂層14。接著，採用向上述高分子樹脂層14上蒸鍍鋁的辦法，形成光反射性薄膜15。由此，就可以形成本實施例的反射片。
如上所述，倘採用本實施例的反射片的製作方法，藉助於進行深UV法，就可以簡便地形成剖面形狀變成為非對稱的凹凸構造體的凸部。
另外，作為參考在這裡講一下，如果形成剖面形狀為非對稱的凹凸構造體的話，則也可以考慮使基板傾斜地進行熱處理，使之熱塌邊的辦法，來取代照射深UV的形成方法。但是，在使用這樣的方法的情況下，適度地使之熱塌邊變成為所希望的傾斜角是困難的，在控制性這一點上還有改善的餘地。另一方面，在本實施例的反射片的製作方法中，在照射深UV時如果適當地設定曝光量等，則可以形成控制性好、而且容易具備所希望的傾斜角的、剖面形狀非對稱的凹凸構造體。
此外，在本實施例的反射片的製作方法中，採用多次進行短波長波段的紫外線或短波長波段的電子射線的照射工序，且在各個照射工序中，分別使曝光量變化的辦法，也可以提高傾斜角分布的控制性。
此外，在本實施例中，也可以在熱處理工序之後，進行用來使凸部44…進一步硬化的深UV照射工序。具體地說，通過與凸部44…對應的區域已開了口的掩模，向凸部44…照射短波長波段(250nm～i線365nm)的紫外線或短波長波段的電子射線，由此，在已被紫外線等照射過的部分中進一步進行交聯的結果，硬化度變大。因此，即便是進行加熱凸部44…的後烘烤工序，也可以防止該凸部44…的熱變形，可以保持控制後的傾斜角分布。
(實施例4)本實施例4的反射式液晶顯示器件，與上述實施例1的液晶顯示器件的構成比較，在反射片一側設置開關器件(非線性元件)，為了使該開關器件和光反射性薄膜電連接而設置的接觸孔的底部上形成光反射膜這一點不一樣。以下，邊參看圖16邊對具體構成要素進行詳述。圖16的剖面圖概略性地示出了液晶顯示器件中的關鍵部位。
如同圖所示，液晶顯示器件具有基板11、對置基板20(顯示面一側)和被夾持在該基板11與對置基板20之間的液晶層21。
在上述基板11上，形成作為開關器件的薄膜電晶體(以下，簡稱為TFT)51和未畫出來的源極布線、柵極布線等，再在這些的上面形成金屬膜(光反射膜)52和感光性樹脂層53。再在感光性樹脂層53和金屬膜52上形成光反射性薄膜15，在該光反射性薄膜15上設置取向膜22。此外，光反射性薄膜15，通過在感光性樹脂層53上設置的接觸孔54和金屬膜52電連接到漏極電極51a上。
上述感光性樹脂層53，在TFT51上起著用來使因設置該TFT51而產生的凹凸平坦化的平坦化膜的作用和保護膜的作用。此外，在已形成了TFT51的部分以外的區域上，設置多個柱狀部分集合體12，起著作為反射片的一部分的作用，另外，上述柱狀部分集合體12，與在上述實施例1中所說明的一樣，不言而喻，其構成為集合配置有多個微小的柱狀部分13a。
上述光反射性薄膜15，在作為反射片的一部分發揮作用的同時，在已設置有柱狀部分集合體12的區域內，還起著作為象素電極的作用。
上述金屬膜52具有光反射性，例如，由Al、Ag、Cr、Ni或它們的合金(例如，Ag-Cu合金等)等構成。
下面，對本實施例的液晶顯示器件的製作方法進行說明。圖17是用來說明該液晶顯示器件的反射片的製造工序的剖面圖。
首先，用公知方法在基板11上形成TFT51和金屬布線等。再如圖17A所示，用公知方法形成金屬膜52，使得至少一部分重疊到在該TFT51上的漏極電極51a上。
其次，與上述實施例1一樣，用旋轉塗敷方式向基板11上塗敷感光性樹脂材料(塗敷工序)，在105℃下對已塗敷有感光性樹脂材料的基板11進行90秒預烘烤，使塗敷膜中的溶劑蒸發，形成感光性樹脂層16(參看圖17B)。
其次，如圖17C所示，把光掩模55配置到感光性樹脂層16的上方，通過該光掩模55進行紫外線曝光(曝光工序)。在這裡，在形成殘膜13b的情況下，接觸孔形成區域必須在比殘膜13b還深的位置上形成。因此，在該接觸孔形成位置處，與別的區域比，需要增大累加曝光量。此外，在金屬膜52附近，照射進來的紫外線被該金屬膜52反射的結果，累加曝光量比別的要曝光的區域大。另外，上述光掩模55，被形成為使圓形形狀或橢圓形狀的遮光部分各自具有規定的面積，同時在感光性樹脂層16中的與上述金屬膜52對應的區域上還形成有用來形成接觸孔54的開口部分。
接著，以含有東京應化社的NMD-3(商品名)0．4％的水溶液作為顯影液進行顯影，溶解處理不要的部分(顯影工序)。藉助於該工序，如圖17D所示，在基板11上，形成光刻膠柱17…、殘膜13b和間隙部分56。該間隙部分56的剖面形狀，成為隨著向底部前進而逐漸擴展的臺形形狀。就是說，間隙部分56的開口部分的形狀及其大小，雖然是與光掩模55的開口部分的大小對應的，但越接近底部該遮光部分就越大。就如在上述曝光工序中所說的那樣，這起因於用金屬膜54反射紫外線，而在該金屬膜54附近累加曝光量變大，在更寬的範圍內產生了光分解的現象。
其次，對已形成了光刻膠柱17…等的基板11，例如在處理溫度120℃下加熱5分鐘進行熱處理。由此，如圖17E所示，形成感光性樹脂層53。更詳細地說，在已形成了TFT51的部分以外的地方，設置由多個柱狀部分13a構成的柱狀部分集合體12。此外，在間隙部分56處雖然也使開口部分或內壁面等熔融而進行熱變形，但由於本來的剖面形狀形成為臺形形狀，故可以防止底部閉塞。由此，可以確保使TFT51和光反射性薄膜15電連接的足夠的口徑，可以形成剖面形狀大體上為矩形形狀的接觸孔54，可以抑制動作不良或接觸電阻的增大。
此外，使在感光性樹脂層53中含有的未反應物的反應結束，為了抑制雜質或汙染物質等的發生，在恆壓下，進行感光性樹脂層15的形成工序或液晶的注入工序等的後烘烤工序。該工序中的處理溫度和處理時間等可以根據需要進行適當地設定。
再有，如圖17F所示，採用向上述感光性樹脂層53上蒸鍍鋁的辦法，形成光反射性薄膜15(光反射性薄膜形成工序)。
其次，向上述光反射性薄膜15上塗敷聚醯亞胺樹脂後，進行摩擦處理形成取向膜22。另一方面在對置基板20上，用公知方法形成透明電極23，在該透明電極23上與上述同樣地形成取向膜24。接著，在使上述基板11和對置基板20粘貼在一起後，從液晶注入口注入使黑色的二色性染料溶解到手徵性向列液晶中的賓主液晶，形成液晶層21。由此，可以製造本實施例的反射式液晶顯示器件。
如上所述，倘採用本實施例在反射式液晶顯示器件的製作方法，由於可以抑制光反射性薄膜15與TFT51之間的接觸電阻的增大，故可以製造在動態顯示中具有良好的顯示品質的反射式液晶顯示器件。
另外，在本實施例中，也可以在熱處理工序之後，進行用來使接觸孔54的內壁面附近進一步硬化的深UV照射工序。具體地說，通過與接觸孔54對應的區域已經開了口的掩模向接觸孔54照射短波長波段的紫外線(波長波段200～400nm)。由此，在已被紫外線等照射過的部分中，由於進一步進行交聯，與別的部分比較，硬化度變大。因此，即便是進行加熱感光性樹脂層53的後烘烤工序，也可以防止該接觸孔54的熱變形，可以使TFT51與光反射性薄膜15之間的電連接更加良好。
(實施例5)本實施例5的液晶顯示器件，如圖18所示，與上述實施例4的反射式液晶顯示器件的構成比較，不同之處在於用表面能比感光性樹脂層53中的感光性樹脂還大的薄膜(以下，僅簡稱為薄膜)61來代替金屬膜。
上述薄膜61，如圖19所示，其平面形狀被設置為矩形框狀，與感光性樹脂層53比較，是表面能大的薄膜。該薄膜61之所以作成矩形框狀，是因為要在其中央部分的間隙內使光反射性薄膜15和漏極電極51a電連接的緣故。因此作為薄膜61的平面形狀，並不限於上述矩形框狀，也可以是圓形框狀或橢圓形框狀等的框狀體。此外，至於薄膜61作成表面能比感光性樹脂層53大的薄膜的理由，後邊要講述。
作為上述薄膜61，可以舉出具備含有氟原子官能基的高分子樹脂等。
其次，對本實施例的液晶顯示器件的製作方法進行說明。圖20是用來說明該液晶顯示器件的反射片的製造工序的剖面圖。
首先，用公知的方法在基板11上形成TFT51和金屬布線等。如圖20A所示，形成矩形框狀的薄膜61，使其與該TFT51上的漏極電極51a至少一部分重疊。
其次，與上述實施例1一樣，用旋轉塗敷方式向基板11上塗敷感光性樹脂材料(塗敷工序)，在105℃下對已塗敷感光性樹脂材料的基板11進行90秒預烘烤，使塗敷膜中的溶劑蒸發，形成感光性樹脂層16(參看圖20B)。
其次，如圖20C所示，把光掩模55配置到感光性樹脂層16的上方，通過該光掩模55進行紫外線曝光(曝光工序)。光掩膜55上的各區域遮光率不同，例如可以構圖為在薄膜61上遮光率最低。
接著，以含有東京應化社的NMD-3(商品名)0．4％的水溶液作為顯影液進行顯影，溶解處理不要的部分(顯影工序)。藉助於該工序，如圖20D所示，在基板11上，形成光刻膠柱17…、殘膜13b和接觸孔62。
其次，對已形成了光刻膠柱17…等的基板11，例如在處理溫度120℃下加熱5分鐘進行熱處理(熱處理工序)。由此，如圖20E所示，形成感光性樹脂層53。在進行上述熱處理之際，雖然接觸孔62上的內壁熱變形，而要使該接觸孔62閉塞，但由於薄膜61表面能比上述感光性樹脂材料大，故可以防止在該薄膜61上流動。為此，可以抑制接觸孔62的閉塞或開口部分的縮小，可以形成確保使TFT 51和光反射性薄膜15電連接所足夠的口徑，可以抑制光反射性薄膜15與TFT51的接觸電阻的增大。
再有，如圖20F所示，在進行了後烘烤工序之後，採用向上述感光性樹脂層53上蒸鍍鋁的辦法，形成光反射性薄膜15(光反射性薄膜形成工序)。
其次，與上述實施例4一樣，在光反射性薄膜15上形成取向膜22。另一方面，在對置基板20上，用公知的方法形成透明電極23。在該透明電極23上，與上述同樣地形成取向膜24。接著，在使上述基板11和對置基板20粘貼好之後，從液晶注入口注入液晶材料形成液晶層21。由此，可以製造本實施例的反射式液晶顯示器件。
如上所述，倘採用本實施例的反射式液晶顯示器件的製作方法，由於可以抑制光反射性薄膜15與TFT51之間的接觸電阻的增大，故可以製造在動態顯示中具有良好的顯示品質的反射式液晶顯示器件。
另外，在本實施例中，與上述實施例4一樣，也可以在熱處理工序之後，進行用來使接觸孔54的內壁面附近進一步硬化的深UV照射工序。由此，即便是進行加熱感光性樹脂層53的後烘烤工序，也可以防止該接觸孔54的熱變形，可以使TFT51與光反射性薄膜15之間的電連接更加良好。
此外，在本實施例中，雖然說明的是薄膜61為框狀體的情況，但是，即便是不是框狀的通常的薄膜，也可以防止接觸孔的熱變形，同時也可以確保漏極電極51a與光反射性薄膜15之間的電連接。具體地說，在用熱處理工序形成了感光性樹脂層53之後，進行利用O2灰化器等進行的灰化，使上述薄膜分解灰化除去薄膜61即可。由此，可以進一步降低接觸電阻，可以製作顯示品質極其良好的反射式液晶顯示器件。
(實施例6)本實施例6的反射式液晶顯示器件的製造方法，是藉助於深UV法製作已形成了所希望的形狀的接觸孔的反射式液晶顯示器件的方案。圖21是用來說明上述製造方法的流程圖。
首先，與上述實施例4一樣，在基板11上形成TFT51或金屬布線之後(TFT形成工序，S1)，向基板11上塗敷感光性樹脂材料(塗敷工序，S2)，在105℃下對已塗敷上感光性樹脂材料的基板11進行90秒預烘烤(預烘烤工序，S3)，使塗敷膜中的溶劑蒸發，形成感光性樹脂層16。
其次，把光掩模55配置到感光性樹脂層16的上方，通過該光掩模55進行紫外線曝光(曝光工序，S4)。接著，以含有東京應化社的NMD-3(商品名)0．4％的水溶液作為顯影液，藉助於該顯影液進行顯影，溶解處理不要的部分(顯影工序，S5)。藉助於該工序，在基板11上，形成光刻膠柱17…、殘膜13b和接觸孔62。
在這裡，為了使接觸孔62的內壁面附近進一步硬化，進行深UV照射工序。具體地說，通過與接觸孔62對應的區域已開了口的掩模，照射短波長波段(250nm～i線365nm)的紫外線或短波長波段的電子射線，由此，由於在已被紫外線等照射過的部分中進一步進行交聯結果使硬化度變大。另外，在本實施例中，也可以使用短波長波段的電子射線代替短波長波段的紫外線。
其次，對已形成了光刻膠柱17…等的基板11，在105℃下對已塗敷上感光性樹脂材料的基板11加熱5分鐘進行熱處理(熱處理工序)。由此，如圖20E所示，形成感光性樹脂層53。在這裡，接觸孔62的內壁面與其它的部分比較，由於已進行了交聯，故硬化度大，因此，即便是在熱處理工序中也難於產生熱變形。因此，可以維持使TFT51和光反射性薄膜15電連接所需要的足夠的口徑。
此外，在進行了後烘烤工序(S8)之後，採用向上述感光性樹脂層53上蒸鍍鋁的辦法，形成光反射性薄膜15(光反射性薄膜形成工序，S9)。
其次，與上述實施例4一樣，在光反射性薄膜15上形成取向膜22。另一方面，在對置基板20上，用公知的方法形成透明電極23。在該透明電極23上，與上述同樣地形成取向膜24。
接著，在使上述基板11和對置基板20粘貼好之後，從液晶注入口注入液晶材料形成液晶層21。藉助於以上的步驟，可以製造本實施例的反射式液晶顯示器件。
如上所述，倘採用本實施例的反射式液晶顯示器件的製作方法，由於可以抑制光反射性薄膜15與TFT51之間的接觸電阻的增大，故可以製造在動態顯示中具有良好的顯示品質的反射式液晶顯示器件。
另外，在本實施例中，也可以在熱處理工序之後，進行用來使接觸孔54的內壁面附近進一步硬化的深UV照射工序。由此，在已經照射過紫外線的部分中進行進一步交聯，結果使硬化度比之其它的部分進一步變大，採用進行後烘烤工序的辦法，可以防止接觸孔54發生熱變形。
(其它的事項)對於在上述各個實施例中說明的本發明的構成要素的凹凸構造體(柱狀部分集合體或階梯狀構造體)來說，尺寸、材質、形狀及其相對位置等，只要沒有限定性的特別說明，本發明的範圍並不僅僅限定於這些實施例，這些實施例只不過是說明例。
例如柱狀部分集合體的存在形態，並不限於上述各個實施例所說的形態，也可以作成為使柱狀部分13a分別獨立而不存在殘膜13b的形態。此外，採用把熱處理工序中的加熱溫度設定得高一點的辦法，如圖22所示，也可以是使柱狀部分13a…相互結合，凹凸差小的形態。即便是在這些情況下，也可以收到與上述各個實施例同樣的作用和效果。
此外，在上述各個實施例中，雖然說明的是多個柱狀部分集合體或多個階梯狀構造體，在各自的方向上相互平行移動的狀態，而且各個位置不規則地設置的情況，但是，本發明並不受這些的任何限定，也可以是以下的形態。就是說，如圖23所示，也可以把多個柱狀部分集合體12配置為使得光反射性薄膜15的表面形狀變成，向著把顯示畫面2分割成上下部分的邊界線P進行傾斜的凹凸面。此外，如圖24所示，也可以把多個柱狀部分集合體12配置為使得光反射性薄膜15的表面形狀變成向著顯示畫面的中心部分進行傾斜的凹凸面。
此外，在上述各個實施例中，雖然說明的是其構造為不規則地配置多個凹凸構造體的反射片的情況，但是，本發明並不受限於此。例如，如圖25所示，也可以作成以同心圓狀規則地排列凹凸構造體而得到的衍射反射片。在本發明中，由於可以控制傾斜角的大小、傾斜角分布和分布密度，故可以製作色彩再現範圍的衍射式反射片。
此外，在上述各個實施例中，雖然說明的是設置有一種凹凸構造體的反射片，但是，即便是設置多種形狀互不相同的凹凸構造體的構成，也可以收到與上述各個實施例相同的作用和效果。
再有，作為基本單位的凹凸構造體也可以是衍射格柵狀。具體地說，例如，也可以作成為構成凹凸構造體的各個凸部的從基板開始算起的高度是同一高度，而且剖面形狀相同。圖26A的剖面圖示出了凹凸構造體為衍射格柵的情況下的凸部的剖面形狀。圖26B是把多個衍射格柵狀的凹凸構造體變成為平面的平面圖。如圖26A和圖26B所示，作為基本單位的凹凸構造體80…被配置為鑲嵌結構狀。各個凹凸構造體80的平面形狀和面積是隨機的，而且，周期的方向(凸部的配置方向)也是隨機的。各個凹凸構造體80是帶狀的衍射格柵，其大小為大約在20～50微米的範圍之內。此外構成凹凸構造體80的凸部81…由等間隔且周期性地排列的氮化矽膜82構成。節距間隔約為4微米，各個凸部81的從基板11開始算的高度是相同的，約為0．25微米。此外，在凸部81上設置有光反射膜83。該光反射膜83具有象素電極的功能。如上所述，通過把凹凸構造體作成為衍射格柵狀，即便是凸部81和凸部81之間有平坦部分，也可以藉助於衍射現象減少正反射光，增加擴散光。如現有的反射片所示，在基本單位為一個凸部或由凸部構成的情況下，若對上述工序進行簡化，則形成凸部或凹部間的平坦部分的結果，將加強正反射光。由此，視角方向的亮度變得不夠充分，得不到良好的紙白性。此外，在上述構成中，凸部81…的周期不一定非是恆定不可，在周期的擾動小於平均周期的情況下，即便是有某種程度的不規則，採用使基本單位變成為由多個凸部81構成的凹凸構造體80的辦法，與上述一樣，也可以得到降低正反射光的效果。但是，由於凸部81的周期性越高，則越會因衍射現象中的波長依賴性而產生帶色現象，故必須採用使凹凸構造體80的分散位置和周期的方向或者至少不論哪一方變成為隨機的辦法，來抑制帶色現象的發生。此外，也可以採用與凸部81…的節距間隔不同的凹凸構造體進行組合的辦法，抑制帶色現象的發生。
在本發明中，也可採用在形成由半導體層、金屬膜和絕緣膜等形成的非線性元件時，同時形成由從這些層中適當選擇的層構成的凸部的反射片。具體地，可舉出例如如圖27所示的構成的反射片。如該圖所示，在基板11上形成TFT51、多個凸部90…。上述TFT51由在基板11上形成的柵極91、柵絕緣膜層92、由非晶矽(α-Si)層93a和n+α-Si層93b構成的半導體層93、源-漏極94和絕緣膜層96(相當於保護膜)等各層層疊而成。上述凸部90，是在形成TFT51的同時構圖而成的，由柵極91』、柵絕緣膜層92等各層層疊而成。而且在凸部90上設置有具有光反射性的象素電極95，在該象素電極95表面上具有平坦部分。如上述構成的反射片，由於在形成TFT51的同時形成凸部90，所以製造工藝簡單，可實現製造成本下降。
如上所述，第1發明群的反射片，由於設置了以多個凹凸構成的凹凸構造體作為基本單位，例如具有頂部的高度位置彼此不同的至少2個凸部的凹凸構造體，故剖面形狀可以是非對稱，可以精密地控制傾斜角的分布。其結果是，光反射性薄膜的表面，不是在正反射方向而是在具有各向異性性的範圍的方向上可以散射和反射光，對於規定的角度範圍內的方向可以明亮地進行反射。而且，即使頂部高度恆定，作為基本單位也能發揮衍射格柵的作用，由此可以減少正反射方向的光，增加向面板正面方向散射的光，可以進行明亮顯示。由此因此，可以提供紙白性優良等反射特性良好，且反射特性的控制性優良的反射片。
此外，第1發明群的反射式液晶顯示器件，藉助於具備上述的反射特性，可以進行非常明亮地顯示，可以具有對比度特性良好的顯示品質。再有，在作成具有開關器件的有源矩陣驅動的情況下，由於也可以防止用來使開關器件與象素電極電連接的接觸孔閉塞，可以抑制接觸電阻的增大，故特別是在動態顯示等方面可以成為優良的顯示品質。(實施例7)根據圖28～圖31對本發明的實施例7進行說明。圖28是在本實施例的液晶顯示器件的製作方法中製作反射片時使用的定盤的表面的俯瞰擴大圖。圖29的工序圖示出了本發明的顯示器件的製作方法的概略。
首先，製作圖28所示的定盤105。就是說，先對鋁進行切削加工製作模具，使該模具與低熔點玻璃重疊在一起後進行衝壓，製作定盤105。定盤105的表面，是與想要賦型的形狀呈反型形狀的模具面。具體地說，對於每一個與1個象素對應的區域102…，無間隙地鋪滿多個被雕刻成每邊為10微米的六角錐狀的凹部101…。各個凹部101…，使其雕刻深度各不相同地隨機分布。但是，各個凹部101中的傾斜面和水平面之間的夾角θ(傾斜角)被控制為使得變成為從4度到16度的範圍內。這是因為如果傾斜角比4度小則向正反射方向的散射將增加，而如果傾斜角比16度大，則將產生散射過多，明亮度不夠的缺點。此外，還要形成為使得具有相同的傾斜角的那些凹部的數目相同。
再有，在上述定盤上，設置有用來在每一象素區域內形成接觸孔的四角柱狀的突起103和用來形成起著作為襯墊的作用的支持部分的孔104。突起103，在各個區域2…的角部被設置為使得位於後邊要講的TFT器件的漏極電極上。孔104的深度為5微米，而開口形狀為一邊是5微米的矩形形狀。另外，在圖28A中，在各個象素區域2…的一部分內畫出了雕刻成六角錐狀的凹部101…，至於其它的部分中的凹部101則被省略。
其次，在定盤105中的已形成了六角錐狀的凹部101的面上，使之化學吸附氟系的矽烷耦合物以形成單分子膜106，並施行脫模處理。由此，可以降低定盤105表面的溼潤性。
此外，在預先形成了TFT器件107的由玻璃構成的基板108上，用旋轉塗敷機法塗敷丙烯酸樹脂，形成厚度為4微米的塗敷膜109(參看圖29A)。
接著，使定盤105和基板108位置對準後重疊在一起，用0．3個氣壓的壓力進行衝壓。此外，在已加壓衝壓的狀態下從定盤105一側照射紫外線，使由丙烯酸樹脂構成的塗敷膜109硬化。然後，在剝掉定盤105後，如圖29C所示，可以在每一個象素上形成作為襯墊的支持部分111和具有六角錐狀的凸部112…的高分子樹脂層113。此外，用等離子體灰化器削掉僅僅約0．2微米的高分子樹脂層113的全體的表層部分，使得TFT器件107的漏極電極107a的表面確實地在接觸孔110的底部上露出來。
其次，藉助於作為賦型的定盤105，在具備表面為在凹凸上的高分子樹脂層113的基板108上，用濺射法形成厚度0．3微米的鋁膜後，使之構圖形成象素電極(反射膜)114。再在象素電極114上用公知的方法形成取向膜115，然後施行摩擦處理。
另一方面，準備具有透明性的對置基板116，在該對置基板116上，用公知的方法，形成作為相向電極的透明電極117。接著，在透明電極117上，重複進行與上述同樣的工序，形成取向膜115後，再次施行摩擦處理。
接著，向基板108的周緣部分，以切掉了液晶注入口部分的框狀塗敷密封樹脂，使對置基板116和基板108粘貼在一起，在該狀態下加熱衝壓，使密封樹脂硬化。再從上述液晶注入口注入液晶，形成作為光調製層的液晶層120，製作成液晶面板。
如上所述，倘採用本實施例的製造方法，由於凹部101用賦型的辦法形成，故可以與連續地散射特性吻合地加工成所希望的形狀，形狀控制的自由度高。而且，工序簡便。再有，倘採用本實施例的製造方法，由於和表面為凹凸狀的高分子樹脂層113一體性地形成具有作為襯墊的功能的支持部分111，故不再需要以往進行的襯墊的散布。為此，可以抑制造價。此外，例如在用球狀的襯墊等控制單元間隙的情況下，由於基板108上的取向膜115的表面是凹凸的，故並不一定能夠均一地維持單元間隙。但是，如果象上述的構成那樣，與高分子樹脂層一體性地形成，則每一個象素都可以均一地形成平均厚度5微米的液晶層120。此外，反射膜(象素電極114)的散射特性，對於入射角30度的入射光，在以面板正面為中心前後左右約25度的範圍內，反射光強度變成為恆定，用左右眼感受到的光是均等的且有白色感。此外，亮度也可以得到紙的數倍以上的強度，可以確認紙白性是優良的。
在這裡，在對置基板116的外側，設置1／4波長片118，在1／4波長片118的外側設置偏振光片119製成反射式液晶顯示器件(參看圖30)。若驅動該反射式液晶顯示器件，則顯示畫面明亮、白色度高。由此，可以確認用本實施例的製造方法製作的液晶顯示器件顯示出良好的顯示品質。
此外，在本實施例中，雖然說明的是給在基板108上形成的高分子樹脂層113賦型而成型的情況，但是，本發明並不受限於此。例如，也可以通過對由樹脂構成的塑料基板的表面直接成型，來設置作為襯墊的突起和凹部等。作為上述塑料基板，在使用例如紫外線聚合型的丙烯酸樹脂的情況下，可以用與上述同樣的方法成型。此外，在使用聚碳酸酯或聚醚碸等的熱可塑性材料的情況下，在加壓時加熱即可。在使用塑料基板的情況下，在現有技術中，雖然在製作基板時執行用平面度良好的定盤進行衝壓使表面變得平滑的工序，但在本發明中，由於可以在製作基板的同時形成作為襯墊的支持部分或凹凸，故工序可以簡化，實現低造價化。
另外，也可以把預先具有作為襯墊的支持部分或凹凸的樹脂薄膜層壓到基板上。具體地說，例如如圖31A所示，為了形成凸部或凹部和襯墊用的支持部分，用刻有凹凸的金屬輥子122加熱輥壓，使由厚度為100微米的PET(聚對苯二甲酸乙二酯)構成的基底薄膜(成型模)121成型，在基底薄膜121表面上形成所希望的凹凸。接著，在基底薄膜121上，用旋轉塗敷機法塗敷光刻膠樹脂123。塗敷膜的膜厚，例如規定為數微米到10微米左右。由此，製作層壓式的薄膜光刻膠124(圖31B)。此外，把該薄膜光刻膠124層壓到已經形成了TFT器件107的基板108上，剝掉基底薄膜121，則如圖31C所示，在基板108上就形成了用該基底薄膜121賦型的光刻膠樹脂膜123。然後，用光刻工序形成接觸孔，用來電連接在TFT器件107上的漏極電極107a和作為在上述光刻膠樹脂膜123上形成的反射片的象素電極。這樣一來，如果用別的工藝而不是在基板上利用賦型實施的凹凸形成來形成樹脂薄膜，則可以防止因在基板上利用賦型實施的凹凸形成發生的成型不良所帶來的基板受損，可以改善成品率。除此之外，與在基板上利用賦型實施的成型的情況相比，由於對於樹脂薄膜成型而言，可以在短時間內進行處理，故可以降低造價。
(實施例8)本實施例的反射式顯示器件的製造方法，與上述實施例7的製造方法比，不同之處在於用光刻法形成高分子樹脂層。藉助於採用該光刻法，在本實施例中，就不再需要在上述實施例7中進行成型所必須的種種製造裝置。由於這些製造裝置是在通常的液晶顯示器件的製作中不使用的裝置，故在本實施例中可以降低造價。
以下，對本實施例的反射式顯示器件的製造方法進行詳述。圖32是在形成高分子樹脂層時使用的光掩模的概略平面圖。
首先，在已形成了TFT或布線等的基板上，用旋轉塗敷法塗敷作為負光刻膠的OMR85(商品名，東京應化工業(株)生產)。這時塗敷形成的光刻膠膜的膜厚為3．0微米。
接著，以20mJ／cm2的照射能通過光掩模向光刻膠膜進行照射，進行紫外線曝光。
在這裡，如圖32所示，為了在各個象素區域102內形成多個六角錐狀的凹部，在上述光掩模上，設置有已形成了多個六角形狀的網點圖形群的遮光圖形。該六角形狀的網點圖形群被構圖為使得網點越接近六角形130的中心部分，分布密度就變得越高。其結果是可以表現用現有的掩模所不可能表現的中間色調。構成網點圖形群的網點，是1．0微米的矩形窗，在各個六角形130的中心部分，透光率隨網點分布密度而變。六角形130的一邊例如為數十微米左右。此外，在與畫面區域對應的每一個區域上，分別設有矩形的遮光窗131。
在上述曝光中，使用鏡面聚光曝光機。由此，使已進行了紫外線曝光的部分不熔化，再採用進行顯影的辦法(顯影時間60秒)，就可以分別形成深度不同的多個六角錐狀的凹部和接觸孔。
在這裡，負光刻膠OMR85的解析度約為4微米，鏡面聚光曝光機的解析度為1到2微米。因此，在把這些光刻膠和曝光機組合起來進行曝光的情況下的解像界限將變成為大約4微米。但是，在本實施例中，由於使用被構圖為1微米的網點的光掩模，故可以超越上述解像界限進行微細的加工。其結果是，得以形成具有平緩的傾斜面的凸部。另外，雖然在同圖中省略未畫，但實際上除去遮光部分131之外，全都被六角形狀的網點圖形群添埋。
接著，在用規定的燒制溫度對顯影后的光刻膠膜進行燒制之後，在該光刻膠膜上，形成作為由鋁構成的反射膜的象素電極，並進行構圖。在象素電極上形成取向膜之後，再對該取向膜實施摩擦處理。
另一方面，與上述實施例7一樣，準備對置基板116，在該對置基板116上順次形成透明電極和取向膜，然後再對取向膜實施摩擦處理。
接著，在把襯墊散布到基板上之後，與上述實施例1一樣，向基板上塗敷密封樹脂，把對置基板和基板粘貼在一起組裝成面板。在向該面板內注入液晶之後，在對置基板的外側依次設置1／4波長片和偏振光板，製成本實施例的反射式的液晶顯示器件。與實施例1一樣，對液晶顯示器件的顯示特性進行研究的結果，確認從面板正面附近觀看的反射光強度也是恆定的，而且，顯示出白色度高的良好的顯示品質。
如上所述，倘採用本實施例的反射式顯示器件的製造方法，採用使用具有由微小的網點圖形群構成的遮光圖形的光掩模的辦法，使現有的鉻掩模所不可能勝任的微細的表面形狀的控制成為可能。此外，若改變網點圖形群的圖形形狀，則還可以容易地進行凹凸的形狀的控制。此外，由於曝光機等的設備和材料等用現有的設備和材料就足夠了，故不需要引入新的設備等。
(其它的事項)在上述實施例7和實施例8中，雖然說明的是反射式的液晶顯示器件，但本發明並不受限於此，即，只要是需要散射反射膜和形成均一層的受光式器件，本發明就可以適用。
此外，在上述實施例7和實施例8中，雖然說明的是凹部為六角錐狀的情況，但是本發明並不受限於此，也可以是角錐狀或圓錐狀。但是，傾斜角理想的是在4度到16度的範圍內。在這裡，所謂傾斜角，指的是在角錐狀的情況下水平面和傾斜面之間的夾角，在圓錐狀的情況下指的是水平面與母線之間的夾角。
如上所述，倘採用第2發明群，由於是通過賦型而形成反射片上的凹凸，故可以形成精密地控制形狀的凹凸。由此，可以減少向正反射方向的反射，可以得到明亮、白色度高的反射式顯示器件。此外，由於上述凹凸和作為襯墊的支持部分成型為一個整體，故可以均一地形成單元間隙，可以提供顯示不均勻的情況減少的反射式顯示器件及其製造方法。
此外，倘採用第2發明群，由於用具有比曝光機和由上述感光性樹脂層的解像界限還小的網點構成的遮光圖形的光掩模形成凹凸，故可以滿意地進行平緩的曲面形狀等的形狀控制。由此，可以提供使從任意的方向入射進來的光不僅在正反射方向上，而且在反射式顯示器件的正面方向等方向上都進行散射和反射，從而可以進行明亮且白色度高的圖象顯示的反射式顯示器件及其製造方法。
在本發明的詳細描述中說明的具體實施例，僅僅是為了闡明本發明的技術內容，不應認為本發明僅限於這樣的具體例而進行狹義的解釋，在不超出本發明的精神和後述的權利要求的範圍的前提下，可以進行種種變更。
權利要求
1．一種反射片，其特徵在於具備以具有多個凹凸的凹凸構造體為基本單位，並設置有多個該凹凸構造體的基板；在上述凹凸構造體上設置的光反射性薄膜。
2．權利要求1所述的反射片，其特徵在於在上述基板上設置的上述凹凸構造體，在任意的方向上隨機地分散配置。
3．權利要求1所述的反射片，其特徵在於上述凹凸構造體中的凹凸的頂部的高度位置或底部的深度位置彼此不同。
4．權利要求1所述的反射片，其特徵在於上述凹凸構造體，是使高度不同的多個微小的柱狀部分彼此獨立地或至少一部分結合而構成的柱狀部分集合體。
5．權利要求4所述的反射片，其特徵在於上述凹凸構造體的高度分布是，峰值位於從中心部分向特定的方向偏離開來的位置上，而且具有從該峰值朝向周緣呈現減少傾向的分布狀態，覆蓋上述凹凸構造體的上述光反射性薄膜的表面，是上述特定方向上的曲率比在與上述特定方向相反的方向上的曲率大的曲面。
6．權利要求5所述的反射片，其特徵在於在上述凹凸構造體與光反射性薄膜之間，至少設置1層高分子樹脂層。
7．權利要求1所述的反射片，其特徵在於上述凹凸構造體是具有多個階梯狀的臺階部分的階梯狀構造體。
8．權利要求7所述的反射片，其特徵在於上述凹凸構造體的高度分布是，峰值位於從中心部分向特定的方向偏離開來的位置上，而且具有從該峰值朝向周緣呈現減少傾向的分布狀態，覆蓋上述凹凸構造體的上述光反射性薄膜的表面，是上述特定方向上的曲率比在與上述特定方向相反的方向上的曲率大的曲面。
9．權利要求8所述的反射片，其特徵在於在上述凹凸構造體與光反射性薄膜之間，至少設置1層高分子樹脂層。
10．權利要求1所述的反射片，其特徵在於上述反射片是在上述基板上周期性地設置多個上述凹凸構造體的、使光反射衍射的衍射式反射片。
11．權利要求1所述的反射片，其特徵在於上述凹凸構造體的平面形狀的大小在1微米以上100微米以下的範圍內。
12．權利要求1所述的反射片，其特徵在於上述多個凹凸構造體分別具有使光反射衍射的周期構造，所述凹凸構造體被配置為使得其位置和／或周期的方向是隨機的。
13．一種反射片，其特徵在於具備設置有非線性器件的基板；設置在上述基板上，且在規定的區域內具有凹凸構造體的感光性樹脂層；以及在上述感光性樹脂層上設置的具有光反射性的象素電極，該象素電極通過在該感光性樹脂層上設置的接觸孔與上述非線性器件電連接，且在上述接觸孔的底部設有光反射性膜。
14．一種反射片，其特徵在於具備設置有非線性器件的基板；設置在上述基板上，且在規定的區域內具有凹凸構造體的感光性樹脂層；以及在上述感光性樹脂層上設置的具有光反射性的象素電極，該象素電極通過在該感光性樹脂層上設置的接觸孔與上述非線性器件電連接，且在上述接觸孔的底部上，設置有表面能比上述感光性樹脂層的表面能還大的薄膜。
15．權利要求13所述的反射片，其特徵在於上述感光性樹脂層上的接觸孔的內壁附近的交聯率比其它部分大。
16．一種反射片，其特徵在於具備設置有非線性器件的基板；設置在上述基板上，且在規定的區域內具有凹凸構造體的感光性樹脂層；以及在上述感光性樹脂層上設置的具有光反射性的象素電極，該象素電極又是通過在該感光性樹脂層上設置的接觸孔與上述非線性器件電連接的象素電極，且上述接觸孔被設置為使得其內壁附近的交聯率比其它的部分大。
17．一種反射片，其特徵在於具備設置有非線性元件和多個凹凸的基板；以及在上述凹凸上設置的具有光反射性的象素電極；且上述凹凸是由從構成上述非線性元件的層中任選的一層或多層層疊而成的。
18．一種反射式顯示器件，其特徵在於具備具有透明性的對置基板；與上述對置基板相向的反射片，該反射片以具有多個凹凸的凹凸構造體為基本單位，並具有設置有多個該凹凸構造體的基板和在上述凹凸構造體上設置的光反射性薄膜；以及被夾持在上述對置基板和反射片之間的液晶層。
19．權利要求18所述的反射式顯示器件，其特徵在於上述反射片是在上述基板上周期性地設置有多個上述凹凸構造體的、使光反射衍射的衍射式反射片。
20．權利要求18所述的反射式顯示器件，其特徵在於上述凹凸構造體中的凹凸的頂部的高度位置或底部的深度位置彼此不同。
21．權利要求18所述的反射式顯示器件，其特徵在於上述凹凸構造體，可以作成為使高度不同的多個微小的柱狀部分彼此獨立地或至少一部分結合而構成的柱狀部分集合體。
22．權利要求21所述的反射式顯示器件，其特徵在於上述凹凸構造體的高度分布是，峰值位於從中心部分向特定的方向偏離開來的位置上，而且具有從該峰值朝向周緣呈現減少傾向的分布狀態，覆蓋上述凹凸構造體的上述光反射性薄膜的表面，是上述特定方向上的曲率比在與上述特定方向相反的方向上的曲率大的曲面。
23．權利要求22所述的反射式顯示器件，其特徵在於在上述凹凸構造體與光反射性薄膜之間，至少設置1層高分子樹脂層。
24．權利要求18所述的反射式顯示器件，其特徵在於上述凹凸構造體是具有多個階梯狀的臺階部分的階梯狀構造體。
25．權利要求24所述的反射式顯示器件，其特徵在於上述凹凸構造體的高度分布是，峰值位於從中心部分向特定的方向偏離開來的位置上，而且具有從該峰值朝向周緣呈現減少傾向的分布狀態，覆蓋上述凹凸構造體的上述光反射性薄膜的表面，是上述特定方向上的曲率比在與上述特定方向相反的方向上的曲率大的曲面。
26．權利要求25所述的反射式顯示器件，其特徵在於在上述凹凸構造體與光反射性薄膜之間，至少設置1層高分子樹脂層。
27．權利要求18所述的反射式顯示器件，其特徵在於上述反射片是在上述基板上周期性地設置多個上述凹凸構造體的、把光反射衍射的衍射式反射片。
28．權利要求18所述的反射式顯示器件，其特徵在於上述凹凸構造體的平面形狀的大小在1微米以上100微米以下的範圍內。
29．權利要求18所述的反射式顯示器件，其特徵在於上述多個凹凸構造體分別具有把光反射衍射的周期構造，該凹凸構造體被配置為使得其位置和／或周期的方向是隨機的。
30．一種反射式顯示器件，其特徵在於具備設置有非線性器件的基板；設置在上述基板上，且在規定的區域內具有凹凸構造體的感光性樹脂層；以及在上述感光性樹脂層上設置的具有光反射性的象素電極，該象素電極通過在該感光性樹脂層上設置的接觸孔與上述非線性器件電連接，且在上述接觸孔的底部設有光反射性膜。
31．權利要求30所述的反射式顯示器件，其特徵在於上述感光性樹脂層上的接觸孔的內壁附近的交聯率比其它部分大。
32．一種反射式顯示器件，其特徵在於具備設置有非線性器件的基板；設置在上述基板上，且在規定的區域內具有凹凸構造體的感光性樹脂層；以及在上述感光性樹脂層上設置的具有光反射性的象素電極，該象素電極通過在該感光性樹脂層上設置的接觸孔與上述非線性器件電連接，且在上述接觸孔的底部上，設置表面能比上述感光性樹脂層的表面能還大的薄膜。
33．權利要求32所述的反射式顯示器件，其特徵在於上述感光性樹脂層上的接觸孔的內壁附近的交聯率比其它部分大。
34．一種反射式顯示器件，其特徵在於具備設置有非線性器件的基板；設置在上述基板上，且在規定的區域內具有凹凸構造體的感光性樹脂層；以及在上述感光性樹脂層上設置的具有光反射性的象素電極，該象素電極通過在該感光性樹脂層上設置的接觸孔與上述非線性器件電連接，且上述接觸孔被設置為使得其內壁附近的交聯率比其它的部分大。
35．一種反射型顯示器件，其特徵在於具備設置有非線性元件和多個凹凸的基板；以及在上述凹凸上設置的具有光反射性的象素電極；且上述凹凸是由從構成上述非線性元件的層中任選的一層或多層層疊而成的。
36．一種反射式顯示器件，在一對基板間設置有液晶層，其特徵在於在上述一對基板中的一個基板上，把被金屬膜覆蓋的凹凸和支持上述另一個基板的支持部分一體地成型。
37．權利要求36所述的反射式顯示器件，其特徵在於上述凹凸是角錐狀或圓錐狀。
38．權利要求37所述的反射式顯示器件，其特徵在於在上述角錐狀的凹凸中的傾斜角或圓錐狀的凹凸中的母線和水平面所構成的夾角為傾斜角的情況下，上述凹凸以種種不同的傾斜角分散配置，上述傾斜角處於4°～16°的範圍內。
39．權利要求36所述的反射式顯示器件，其特徵在於在上述一個基板上，設置使上述凹凸和支持另一個基板的支持部分一體地成型得到的高分子樹脂層。
40．權利要求39所述的反射式顯示器件，其特徵在於在上述一個基板上設置多個非線性器件的同時，在上述高分子樹脂層上，還設置使上述非線性器件和上述金屬膜電連接的接觸孔。
41．權利要求36所述的反射式顯示器件，其特徵在於把上述凹凸和支持另一個基板的支持部分一體地成型的樹脂薄膜層疊到上述一個基板上。
42．權利要求41所述的反射式顯示器件，其特徵在於上述樹脂薄膜由感光性樹脂構成。
43．權利要求36所述的反射式顯示器件，其特徵在於上述一個基板是在其表面上已使上述凹凸和支持另一個基板的支持部分成型的塑料基板。
44．一種反射式顯示器件，具有在基板上設置的感光性樹脂層和在該感光性樹脂層上設置的金屬膜，其特徵在於上述感光性樹脂層，是在上述基板上塗敷的感光性樹脂上通過光掩模進行曝光和顯影而形成的，具有由比在上述曝光中使用的曝光機和上述感光性樹脂的解像界限還小的網點群構成的遮光圖形，而且，用通過面內的遮光圖形的光的平均透光率不均一的光掩模進行曝光，使表面形成為凹凸狀。
45．一種反射片的製造方法，其特徵在於具備下列工序在基板上形成感光性樹脂層的工序；通過具有以規定形狀構圖的遮光部分的光掩模，向感光性樹脂層上照射光的曝光工序；使光照射後的上述感光性樹脂層顯影，形成多個光刻膠柱的顯影工序；通過對形成上述多個光刻膠柱的基板進行熱處理，形成使高度不同的多個微小的柱狀部分彼此相互獨立，或者至少一部分結合而構成的柱狀部分集合體的熱處理工序；以及在上述柱狀部分集合體上形成光反射性薄膜的工序，作為上述光掩模，採用使多個大小彼此不同的微小的遮光部分集合起來作為一個構成單位，並形成了多個該構成單位的掩模。
46．一種反射片的製造方法，其特徵在於具備下列工序在基板上形成感光性樹脂層的工序；通過具有使光的遮擋率階梯狀變化的遮光部分的光掩模，向上述感光性樹脂層上照射光的曝光工序；使光照射後的上述感光性樹脂層顯影以形成多個階梯狀的光刻膠柱的顯影工序；通過對形成上述多個光刻膠柱的基板施行熱處理，使該光刻膠柱的拐角圓角化，形成具有多個階梯狀的臺階的階梯狀構造的熱處理工序；以及在上述階梯狀構造體上形成光反射性薄膜的工序。
47．一種反射片的製造方法，其特徵在於具備下述工序在基板上形成感光性樹脂層的工序；製備具有以規定形狀構圖的遮光部分的多個光掩模，上述遮光範圍的大小對每一個光掩模來說彼此不同，且不論在哪一個光掩模中，在該光掩模的遮光部分和具有較小的遮光範圍的遮光部分之間具有該遮光部分的遮光範圍包含該較小的遮光範圍的關係，然後從遮光部分的遮光範圍大的光掩模開始順次使用上述光掩模向上述感光性樹脂層照射光的曝光工序；使光照射後的上述感光性樹脂層顯影以形成多個階梯狀的光刻膠柱的顯影工序；通過對形成了上述多個光刻膠柱的基板進行熱處理，使該光刻膠柱的拐角圓角化，形成具有多個階梯狀的臺階的階梯狀構造的熱處理工序；以及在上述階梯狀構造體上形成光反射性薄膜的工序。
48．一種反射片的製造方法，該反射片具有已形成了非線性器件的基板；在上述基板上設置的、且在規定的區域上具有凹凸構造體的感光性樹脂層；以及在上述感光性樹脂層上設置的具有光反射性的象素電極，該象素電極通過在該感光性樹脂層上設置的接觸孔與上述非線性器件電連接，該方法特徵在於具備下述工序在上述基板上形成非線性器件的工序；在上述接觸孔的形成位置上形成以規定形狀構圖的光反射膜的光反射膜形成工序；向上述基板和光反射膜上塗敷感光性樹脂材料的塗敷工序；通過具有以規定形狀構圖的遮光部分的光掩模，向上述感光性樹脂材料進行光照射的曝光工序；使光照射後的上述感光性樹脂材料顯影，形成具備在上述接觸孔和規定的區域上形成的多個光刻膠柱的感光性樹脂層的顯影工序；通過對上述感光性樹脂層進行熱處理，使多個上述光刻膠柱的緣部熱變形以圓角化的熱處理工序；通過上述感光性樹脂層進行熱處理使之硬化的預烘烤工序；以及在上述感光性樹脂層上形成具有光反射性的象素電極的象素電極形成工序。
49．一種反射片的製造方法，該反射片具有已設置了非線性器件的基板；在上述基板上設置的、且在規定的區域上具有凹凸構造體的感光性樹脂層；以及在上述感光性樹脂層上設置的具有光反射性的象素電極，該象素電極通過在該感光性樹脂層上設置的接觸孔與上述非線性器件電連接，該方法特徵在於具備下述工序在上述基板上形成非線性器件的工序；在上述接觸孔的形成位置上形成表面能比上述感光性樹脂層還大的框狀的薄膜的薄膜形成工序；向上述基板和薄膜上塗敷感光性樹脂材料的塗敷工序；通過具有以規定形狀構圖的遮光部分的光掩模，向上述感光性樹脂材料進行光照射的曝光工序；使光照射後的上述感光性樹脂材料顯影，形成具備在上述接觸孔和規定的區域上形成的多個光刻膠柱的感光性樹脂層的顯影工序；通過對上述感光性樹脂層進行熱處理，使多個上述光刻膠柱的緣部熱變形以圓角化的熱處理工序；通過使上述感光性樹脂層進行熱處理使之硬化的後烘烤工序；以及在上述感光性樹脂層上形成具有光反射性的象素電極的象素電極形成工序。
50．一種反射片的製造方法，該反射片具有已形成了非線性器件的基板；在上述基板上設置且在規定的區域上具有凹凸構造體的感光性樹脂層；以及在上述感光性樹脂層上設置的具有光反射性的象素電極，該象素電極通過在該感光性樹脂層上設置的接觸孔與上述非線性器件電連接，該方法特徵在於具備下述工序在上述基板上形成非線性器件的工序；在上述非線性器件的漏極電極上形成表面能比上述感光性樹脂層還大的框狀的薄膜的薄膜形成工序；向上述基板和薄膜上塗敷感光性樹脂材料的塗敷工序；通過具有以規定形狀構圖的遮光部分的光掩模，向上述感光性樹脂材料進行光照射的曝光工序；使光照射後的上述感光性樹脂材料顯影，形成具備在上述接觸孔和規定的區域上形成的多個光刻膠柱的感光性樹脂層的顯影工序；通過對上述感光性樹脂層進行熱處理，使多個上述光刻膠柱的緣部熱變形以圓角化的熱處理工序；用灰化法除去上述薄膜的除去工序；通過進行熱處理使上述感光性樹脂層硬化的後烘烤工序；以及在上述感光性樹脂層上形成具有光反射性的象素電極的象素電極形成工序。
51．一種反射片的製造方法，該反射片具有已形成了非線性器件的基板在上述基板上設置且在規定的區域上具有凹凸構造體的感光性樹脂層；以及在上述感光性樹脂層上設置的具有光反射性的象素電極，該象素電極通過在該感光性樹脂層上設置的接觸孔與上述非線性器件電連接，該方法特徵在於具備下述工序在上述基板上形成非線性器件的工序；向上述基板上塗敷感光性樹脂材料的塗敷工序；通過具有以規定形狀構圖的遮光部分的光掩模，向上述感光性樹脂材料進行光照射的曝光工序；使光照射後的上述感光性樹脂材料顯影，形成具備在上述接觸孔和規定的區域上形成的多個光刻膠柱的感光性樹脂層的顯影工序；向上述接觸孔附近照射短波長波段的光的光照射工序；通過對上述感光性樹脂層進行熱處理，使多個上述光刻膠柱的緣部熱變形以圓角化的熱處理工序；對上述感光性樹脂層進行熱處理的後烘烤工序；以及在上述感光性樹脂層上形成具有光反射性的象素電極的象素電極形成工序，上述接觸孔的內壁附近交聯率比其它的部分高。
52．權利要求51所述的反射片的製作方法，其特徵在於在上述熱處理工序之後，還進行向上述接觸孔的附近照射短波長波段的光的光照射工序。
53．一種反射片的製造方法，其特徵在於具備下述工序在基板上形成感光性樹脂材料的工序；通過具有以規定形狀構圖的遮光部分的第1光掩模向上述感光性樹脂材料照射光的曝光工序；通過具有以規定形狀構圖的開口部分的第2光掩模，向上述感光性樹脂材料照射光的光照射工序；通過對上述光刻膠柱進行熱處理，使多個上述光刻膠柱的緣部進行熱變形，以形成多個剖面形狀為非對稱的凹凸構造體的熱處理工序；對上述感光性樹脂層進行熱處理的後烘烤工序；以及在上述感光性樹脂層上形成具有光反射性的象素電極的象素電極形成工序。
54．權利要求53所述的反射片的製造方法，其特徵在於在上述熱處理工序之後，還進行向多個上述凹凸構造體照射短波長波段的光的光照射工序。
55．一種反射式顯示器件的製造方法，該顯示器件在一對基板之間具有光調製層，其特徵在於在上述一對基板中的一個基板上形成高分子樹脂層，把設置有配置了微細凹凸狀圖形群和孔的凹凸圖形的定盤壓到上述高分子樹脂層上，使上述高分子樹脂層硬化，之後，使上述定盤從該高分子樹脂層上脫模，在上述高分子樹脂層上形成金屬膜，把上述凹凸賦型給上述高分子樹脂層，在該高分子樹脂層表面上，使微細的凹凸和支持上述一對基板中的另一個基板的支持部分一體地成型。
56．權利要求55所述的反射片的製造方法，其特徵在於在上述一個基板上形成的上述高分子樹脂層是感光性樹脂層的情況下，作為上述定盤使用具有透明性的定盤，上述高分子樹脂層的硬化採用通過上述定盤向該感光性樹脂層照射光的辦法進行。
57．權利要求55所述的反射片的製造方法，其特徵在於在上述一個基板上形成的上述高分子樹脂層是熱可塑性樹脂層的情況下，在把上述定盤壓到上述熱可塑性樹脂層上時，邊加熱邊進行。
58．權利要求55所述的反射片的製造方法，其特徵在於在上述一個基板上設置有非線性器件，作為上述定盤，使用具有突起的定盤，該突起用來在相當於上述非線性器件中的輸出端子部分的位置上形成接觸孔。
59．權利要求58所述的反射片的製造方法，其特徵在於在使上述定盤從高分子樹脂層脫模之後，一直到上述非線性器件的輸出端子部露出來為止，對上述高分子樹脂層上的上述接觸孔的底部進行刻蝕。
60．一種反射式顯示器件的製造方法，該顯示器件在一對基板之間具備光調製層，其特徵在於把設置有配置了微細凹凸狀圖形群和孔的凹凸圖形的定盤衝壓到上述一對基板中的一個基板上，使上述一個基板硬化，之後，使上述定盤從一個基板上脫模，在上述一個基板上形成金屬膜，把上述凹凸圖形賦型給上述一個基板，在一個基板表面上使微細的凹凸和支持另一個基板的支持部分一體地成型。
61．權利要求60所述的反射片的製造方法，其特徵在於在上述一個基板由感光性樹脂構成的情況下，上述定盤採用透明性的定盤，藉助於通過上述定盤向一個基板照射光進行上述一個基板的硬化。
62．權利要求60所述的反射片的製造方法，其特徵在於在上述一個基板由熱可塑性樹脂構成的情況下，在把上述定盤壓到上述熱可塑性樹脂上時，邊加熱邊進行。
63．一種反射式顯示器件的製造方法，該顯示器件在一對的基板間具備光調製層，其特徵在於在設置有配置了微細凹凸狀圖形群的凹凸圖形的成型模上，形成高分子樹脂層，將上述一對基板中的一個基板和上述成型模粘貼，使得上述高分子樹脂層成為該基板一側，之後，使該成型模從該高分子樹脂層上脫模，把高分子樹脂層層疊到該基板上，在上述高分子樹脂層上形成金屬膜，把上述凹凸圖形賦型給上述高分子樹脂層，在該高分子樹脂層的表面上形成微細的凹凸。
64．權利要求63所述的反射式顯示器件的製造方法，其特徵在於上述成型膜是由高分子樹脂形成的基底薄膜。
65．權利要求63所述的反射式顯示器件的製造方法，其特徵在於在上述成型膜的規定位置上設置有用來形成支持上述一對基板中的另一個基板支持部分的孔。
66．一種反射片的製造方法，在基板上塗敷感光性樹脂層之後，通過光掩模進行曝光和顯影，在該感光性樹脂層上形成凹凸，再在上述凹凸表面上形成反射膜，其特徵在於上述光掩模具有由比在上述曝光中使用的曝光機和上述感光性樹脂層的解像界限還小的網點構成的遮光圖形，且面內的遮光圖形的光的平均透光率是不均一的。
67．權利要求66所述的反射片的製造方法，其特徵在於在上述基板上設置有非線性器件，作為上述光掩模，使用在與上述非線性器件的輸出部分對應的部分上設置遮光部分或非遮光部分的掩模。
全文摘要
提供對比度特性和紙白性優良的反射片及其製造方法、以及具備該反射片的反射式顯示器件及其製造方法。該反射片具備設置有多個該凹凸構造體的基板和在上述凹凸構造體上設置的光反射性薄膜。該器件是在一對基板間設有液晶層的反射式顯示器件,在上述一對基板中的一個基板上,把被金屬膜覆蓋的凹凸和支持上述對置基板的支持部分一體地成型。
文檔編號G02F1/1362GK1281156SQ00120289
公開日2001年1月24日 申請日期2000年7月19日 優先權日1999年7月19日
發明者山中泰彥, 脅田尚英, 柄澤武, 河慄真理子, 西山誠司 申請人:松下電器產業株式會社